JPS5978152A - Ｎ−置換アクリル酸アミドの製造方法 - Google Patents

Ｎ−置換アクリル酸アミドの製造方法

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JPS5978152A
JPS5978152A JP58176108A JP17610883A JPS5978152A JP S5978152 A JPS5978152 A JP S5978152A JP 58176108 A JP58176108 A JP 58176108A JP 17610883 A JP17610883 A JP 17610883A JP S5978152 A JPS5978152 A JP S5978152A
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    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
    • C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
    • C07D295/182—Radicals derived from carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は−Ｎ−置換アクリル酸アミドの製造法に関す
るものである。
Ｎ−置換アクリル酸アミドは、２重結合を有するモノマ
ーであり、高い重合活性を有し、酸アミド基として親水
性であると同時に加水分解に安定な官能基を有する。こ
のため、このモノマーは技術上大きな興味の対象となる
。
経済上の理由から、アクリル酸の低級エステルがＮ−置
換アミドを含めて他のアクリル酸誘導体製造に好んで用
いられる。しかし、アクリル酸からアミドへの直接変換
はできない。所期のエステルアミド化の代りに、まずミ
カエル反応として活性炭素２重結合へのアミンの付加が
起り、第２にアミンがエステルと反応してＮ−置換−３
−アミノプロピオン酸を生ずる。これは対応するＮ−置
換アクリル酸アミドに熱分解することができる（米国特
許第２７１９１．７８号参照）。
このように、アクリル酸アミドの活性炭素２重結合への
アミンの付加はエステル　アミド化より大きく優先する
。ミカエル反応は可逆反応であるため、反応性の逆転が
極めて高温でのみ起り得る。
この平衡のため、アミンは不可逆的にエステル基と反応
し得る（米国特許第２７１９１７５号参照）。
必要な熱の負荷とモノマーの不純物含有を許容できない
場合、アクリル酸エステルの炭素２重結合をエステルの
アミド化に先立って保護基で保護する必要がある。上記
の情況では、これはアミンの付加によって行なわれるが
、ノ＼ロゲン化水素、炭酸またはアルコールのような他
のプロトン活性物質も炭素２重結合に付加することがで
き、これらの２重結合保護基は適当な反応条件下でアミ
ド化の完結後に除去される。
別の種類の保護基がドイツ特許出願第２２１７６２３号
に記載されている。ここでは、アクリル酸誘導体がシク
ロペンタジェンを用いるディールス・アルダ−反応によ
りノルボルネン酸誘導体に変換される。第２段でアミド
の変換により得られるＮ−置換ノルボルネン酸アミドは
、２５０°Ｃに加熱することによりシクロペンタジェン
とＮ−置換アクリル酸アミドに解裂する。この合成法で
もまた、ある種の特に鋭敏なモノマーに対しては、所期
の純度を得るには温度が高すぎる。
特に、第３級アミン基を含むＮ−置換アクリル酸アミド
の場合に問題が起る。このグループのモノマーは、高分
子量の線状水溶性ポリマーに変換するのが好適である。
僅か１０　ｐｐｍの割合の２官能性モノマーの混入で架
橋が起り、水溶性ポリマーの品質を著しく損する。例え
ば、Ｎ−アリルアクリルアミドはＮ（Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノプロピル）アクリルアミドからのジメチルアミン
の熱脱離で生成し、Ｎ−ビニルアクリルアミドもＮ（Ｎ
。
Ｎ−ジアルキルアミノエチル）アクリルアミドから同様
に生成する。これら架橋モノマーの生成は、分子量１０
００万以上の線状、ゲル不含、水溶性ポリマーを作るに
充分な純度のモノマーを得るためにできるだけ抑えなけ
ればならない。これは、アミノ基を含むモノマーの製造
中、反応条件の制御を行なって始めて、すなわち低温で
始めてなし得る。
したがって、この発明の目的は、Ｎ−置換アクリル酸ア
ミドの重合に際し不都合な不溶性生成物をもたらす望ま
しくない２官能性モノマーを含まない高純度のＮ−置換
アクリル酸アミドの製造法を提供するにある。
驚くべきことに、アクリル酸エステルとフランのディー
ルス・アルダ−反応で容易に得られる２−アルコキシカ
ルボニル−７−オキサビシクロ〔２，２，１〕へブタ−
５−エンが、第１級または第２級アミンによる塩基触媒
反応により２−カルバモイル−７−オキサビシクロ〔２
，２，１）へブタ−５−エンに変換され、フランの熱脱
離により、必要な純度のアクリル酸アミドが得られるこ
とが判明した。その反応は下式で示される。
−４−ＨＱＲ ７−オキサビシクロ〔２，２，１）へブタ−５−エンは
塩基の作用でベンゼン誘導体に移行することが予期され
る。ヘルベチ力・シミ力・アクタ第５８巻第１１８１頁
（１，９７５年）によると、２−メチルフランとアクリ
ロニトリルのディールス・アルダ−付加物をカリウム第
３級ブチレートで処理すると０−トルニトリル１０部と
ｍ−トルニトリル１部の混合物が生成する。
この発明の目的は、第１級または第２級アミンにより２
−アルコキシカルボニル−７−オキサビシクロ（２，２
，１）ヘプタ−５−エンを２−カルバモイル−７−オキ
サビシクロＣ２，２，Ｌ］へブタ−５−エンに変換し、
これを分解してフランとＮ　−置換アクリル酸アミドを
得ることにより達成される。
２−アルコキシカルボニル−７−オキサビシクロ（２，
２，１〕へブタ−５−エンのアミド化は、７−オキサビ
シクロ〔２，２，１３へブタ−５−エン系の分解温度よ
り低い温度で行なうのがよい。２０ないし６０°Ｃの温
度が好ましい。この温度でエステル・アミド化を行なう
には、一般に無水条件と強塩基が必要である。塩基とし
ては、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレートー
水素化ナトリウム、カリウム第３級ブチレート等のアル
カリ金属アルコレート、水素化物、またはアミドが好ま
しい。勿論、塩基性イオン交換体の使用、および相転移
触媒反応の条件下におけるエステル・アミド化も可能で
ある。
アミド化完了後、触媒を分離または中和し、生成する塩
を水を加えて除去する。反応の第１段で生成するＮ−置
換−２−カルバモイル−７−オキサビシクロ〔２，２，
Ｉ１１ヘプタ−５−エンを次いで熱分解によりフランと
Ｎ−置換アクリル酸にする。
この反応は、温度に大きく依存する。室温でも、数週間
内に部分的分解が起る。しかし−触媒の使用なしでは、
６０ないし３００°Ｃ１好ましくは８０ないし２００℃
、特に１００ないし１５０℃の比較的高温加熱を要する
。ＡｌＣｌ３、Ｔｉ（４＋４．５ｎＣ１４、Ｆ　ｅ　Ｃ
１３またはＢＦ３・０（Ｃ２■■５）２ノヨウなルイス
酸を添加すると、室温でもフランの分離が著しく促進さ
れる。分解は０ないし４０°Ｃ１好ましくは１５ないし
２５°Ｃの室温で起る。真空中で加熱することにより分
解を行なうのか好ましい。
アミンとしては第１級または第２級アミンが用いられる
。脂肪族の直鎖または分校第１級または第２級アミン、
および環状の脂肪族、複素環式、または芳香族アミン（
必要に応じてさらに官能基を有するもの）が適当である
。第１級モノアミンの例としては、メチルアミン、エチ
ルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチ
ルアミン、イソブチルアミン、２−エチルヘキシルアミ
ンおよびステアリルアミンが、第２級アミンの例として
は、ジメチルアミン、およびジエチルアミン力、第１級
ジアミンの例としては、エチレンジアミン、１．３−プ
ロピレンジアミン、および１，６−ヘキジレンジアミン
が、複素環式アミンの例としては、モルホリン、ピロリ
ジン、およびピペリジンが一芳香族アミンの例としては
、アニリン、トルイジン、アニシジン、およびＮ−メチ
ルアニリンがそれぞれ挙げられる。
この方法では、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアミン−
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミンエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジプロ
ピルアミノエチルアミン、Ｎ−エチルアミノエチルアミ
ン−Ｎ−イソプロピルアミノエチルアミン−Ｎ−第３級
ブチルアミノエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプ
ロピルアミン、Ｎ、Ｎ、２．２−テトラメチル−１，３
−ジアミノプロパン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミンプロピルアミン、Ｎ−
メチルピペラジン−およびＮ−メチル−Ｎ−（２−アミ
ノエチル）ピペラジンのような少なくとも１個の別の第
２級または第３級アミノ基を含む第１級または第２級ア
ミンを用いるのが特に好適である。
多くの場合、ルイス酸触媒を用いないで分解を行なうな
らば、分解高度は工業的に常用される真空下でＮ−置換
アクリル酸アミドの沸点より下にある。したがって、合
成生成物に対する最大の熱負荷は最終的蒸留の間に起る
。実際の合成は低温で行なわれる。特に、この方法では
アミ７基を含むＮ−置換アクリル酸アミドの架橋化は抑
制される。この発明の方法によるモノマーの純度は−ま
た反応条件の制御によっても影響される。
以下、この発明を実施例により説明するが、これらは単
に例示のためのものである。
実施例１゜ パラフィン油中８０％水素化ナトリウム２．４部をＮ、
Ｎ−ジメチルアミンエチルアミン８８部に加える。冷却
下２０ないし２５°Ｃにおいて、２−メトキシカルボニ
ル−７−オキサビシクロＣ２，２，１〕へブタ−５−エ
ン１５４部を滴下する。反応混合物を１５時間攪拌し、
濃塩酸８部で中和する。
メチレンクロライド２００部および水１００部を加え、
有機層を分離し、水層をメチレンクロライド各５０部で
４回抽出する。有機層を合わせ、浴温９０°Ｃｌ２Ｏト
ルの減圧下にロータリーエバポレーターで濃縮する。残
留物を高度真空下１１０ないし１２０°Ｃ（浴温１４０
°Ｃ）に加熱する。フラン分離の完結後、液温か上昇し
生成物が留出する。沸点１００℃（８トル）のＮ　　（
ｐ４．＊−ジメチルアミンエチル）アクリルアミド１０
６部を得る。
実施例２゜ カリウム第３級ブチレート９部をＮ、Ｎ−ジエチ・　ル
アミノエチルアミン１２１．８部に加える。冷却下２０
ないし２５℃において、２−メトキシカルボニル−７−
オキサビシクロ［２，２，１〕へフタ−５−エン１５４
部を滴下する。反応混合物を１５時間攪拌し、濃塩酸８
部で中和する。メチレンクロライド２００部および水１
００部を加え、有機層を分離し、水層をメチレンクロラ
イド各５０部で４回抽出する。有機層を合わせ、浴温９
０℃、２０トルの減圧下にロータリーエバポレーターで
濃縮する。残留物を高度真空下１１０ないし１２０℃（
浴温１４０°Ｃ）に加熱する。フラン分離の完結後、液
温か上昇し生成物が留出する。沸点１０７’Ｃ（０，６
）ル）のＮ−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノエチル）アクリ
ルアミド１０６部を得る。
実施例３゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液５３部を
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロピルアミン４０１．３部に
加える。冷却下２０ないし２５°Ｃにおいて、２−メト
キシカルボニル−７−オキサビシクロ［２，２，１〕へ
ブタ−５−エン５７７．５部を滴下する。反応混合物を
１５時間攪拌し、濃酢酸１７．５部で中和する。メチレ
ンクロライド１０５０部および水１０５０部を加え、有
機層を分離し、水層をメチレンクロライド１０５０部で
抽出する。
有機層を合わせ、浴温９０°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロ
ータリーエバポレーターで濃縮する。残留物を高度真空
下１１０ないし１２０°Ｃ（浴温１４０　　　　　゛・
Ｃ）に加熱する。フラン分離の完結後、液温か上昇し生
成物が留出する。沸点１００℃（０，３トル）のＮ−ｒ
３４．Ｎ′−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド
３６８部を得る。
実施例４゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液１４．４
部をＮ、Ｎ、２．２−テトラメチル−１，３−ジアミノ
プロパン１３０部に加える。冷却下３０ないし３５°Ｃ
において、２−メトキシカルボニル−７−オキサビシク
ロ〔２，２，１〕へブタ−５−エン１５４部を滴下する
。反応混合物を１４時間攪拌し一５０％硫酸７．８５部
で中和する。メチレンクロライド２００部および水１０
０部を加え、有機層を分離し、水層をメチレンクロライ
ド各５０部で３回抽出する。有機層を合わせ、浴温９０
°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロータリーエバポレーターで
濃縮する。残留物を高度真空下１１０ないし１２０°Ｃ
（浴温１４０°Ｃ）に加熱する。フラン分離の完結後、
液温か上昇し生成物が留出する。沸点１１０’Ｃ（０，
６トル）のＮ−（ｐＪ、Ｎ′、２．２−テトラメチルア
ミノプロピル）アクリルアミド１２２．５部を得る。
実施例５゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をｎ−プロピルアミン２９．５部に加える。
冷却下３０℃において、２−エトキシカルボニル−７−
オキサビシクロ（２，２，１）へブタ−５−エン８４部
を滴下する。反応混合物を１５時間攪拌し、結晶塊をメ
チレンクロライド１００部に溶かし、濃塩酸４部で中和
する。水５０部を加え、有機層を分離し、水層をメチレ
ンクロライド各２５部で３回抽出する。有機層を合わせ
、浴温９０°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロータリーエバポ
レーターで濃縮する。残留物を２０トルの真空下１１０
ないし１２０°Ｃ（浴温１４０℃）に加熱する。フラン
分離の完結後、液温が上昇し生成物が減圧で留出スル。
沸点８８℃（０，８トル）のＮ−プロピルアクリルアミ
ド４５部を得る。
実施例６゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
および２−メトキシカルボニル−７−オキサビシクロ〔
２，２，１］へブタ−５−エン７７部をステアリルアミ
ン１３４．８部に加える。反応媒質を６０°Ｃに加熱し
、この温度で１５時間攪拌する。
次いでクロロホルム３００部を加え、混合物を濃塩酸４
部で中和する。水１００部を加え、有機層を分取し、水
層をクロロホルム５０部で抽出する。
有機層を合わせ一浴温９０℃、２０トルの減圧下にロー
タリーエバポレーターで濃縮する。残留物を真空下１１
０ないし１２０℃（浴温１４０℃）に加熱する。フラン
分離の完結後、液温が１４０℃に上昇する。混合物を冷
却し、生成物を熱アセトンに溶解し、濾過し、放置して
結晶化させる。
融点７５−７７℃のＮ−ステアリルアクリルアミド１１
７部を得る。
実施例７゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
を２−エチルヘキシルアミン６４．５部に加える。冷却
下３０ないし３５°Ｃにおいて、２−メトキシカルボニ
ル−７−オキサビシクロＣ２，２，１〕へブタ−５−エ
ン７７部を滴下する。反応混合物を１５時間攪拌し、濃
塩酸４部で中和する。メチレンクロライド１００部およ
び水５０部を加え、有機層を分離し、水層をメチレンク
ロライド各２５部で２回抽出する。有機層を合わせ、浴
温９０°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロータリーエバポレー
ターで濃縮する。残留物を高度真空下１１０ないし１２
０’ｃ　（浴温１４０°Ｃ）に加熱する。フラン分離の
完結後−液温が上昇し生成物が留出する。沸点１２３ｃ
（０，４１−ル）のＮ−（２−エチルヘキシル）アクリ
ルアミド６６．６部を得る。
実施例８゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をモルホリン４３．５部に加える。冷却下３０ないし３
５℃において、２−メトキシカルボニル−７−オキサビ
シクロ［２，２，１］へブタ−５−エン７７部を滴下す
る。反応混合物を１５時間攪拌し、濃塩酸４部で中和す
る。メチレンクロライド１００部および水５０部を加え
、有機層を分離し一水層をメチレンクロライド各２５部
で４回抽出する。有機層を合わせ、浴温９０℃、２０ト
ルの減圧下にロータリーエバポレーターで濃縮する。残
留物を２０トルの真空下１１０ないし１２０℃（浴温１
４０°Ｃ）に加熱する。フラン分離の完結後、液温か上
昇し生成物が減圧で留出する。沸点８７℃（１トル）の
Ｎ−モルホリノアクリルアミド４８部を得る。
実施例９゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をジエチルアミン３６．５部に加える。４０°Ｃにおい
て、２−メトキシカルボニル−７−オキサビシクロ［２
，２，１）ヘプタ−５−エン７７部を滴下する。反応混
合物を同温度で１５時間攪拌し、濃塩酸４部で中和する
。メチレンクロライド１００部および水５０部を加え、
有機層を分離し一水層をメチレンクロライド各２５部で
３回抽出する。
有機層を合わせ、浴温９０°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロ
ータリーエバポレーターで濃縮する。残留物を２０トル
の真空下１１０ないし１２０°Ｃ（浴温１４０°Ｃ）に
加熱する。フラン分離の完結後、液温か上昇し生成物が
留出する。沸点５５°Ｃ（１トル）のＮ、Ｎ−ジエチル
アクリルアミド２１部を得る。
実施例１０゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をエチレンジアミン１５部に加える。冷却下３０°Ｃに
おいて、２−メトキシカルボニル−７−オキサビシクロ
〔２，２，１：］］ヘプター５−エン７７を滴下する。
−夜装置して結晶化を進行させ、結晶塊をクロロホルム
４００部に溶解し、濃塩酸４部で中和する。水５０部を
加え、有機層を分取し、水層をクロロホルム各５０部で
５回抽出する。
有機層を合わせ、浴温９０℃、２０トルの減圧下にロー
タリーエバポレーターで濃縮する。残留物を１０トルの
真空下１１０ないし１２０°Ｃ（浴温１４０℃）に加熱
する。フラン分離の完結後、液温が１４０°Ｃに上昇す
る。混合物を冷却し、生成物を熱ｎ−ブタノールに溶解
し、沖過し、０℃で放置して結晶化させる。融点１．５
０−１５５℃のＮ、Ｎ−エチレンビスアクリルアミド２
７部を得る。
実施例１１゜ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をアニリン４６．５部に加える。４０℃において、２−
メトキシカルボニル−７−オキサビシクロ［：２，２．
１）へブタ−５−エン１５４部を滴下する。反応混合物
をこの温度で１５時間攪拌し、濃塩酸４部で中和する。
水５０部を加え、有機層を分離する。有機層を浴温９０
°Ｃｌ２Ｏトルの減圧下にロータリーエバポレーターで
濃縮する。残留物を２０トルの真空下１１０ないし１２
０°Ｃ（浴温１４０°Ｃ）に加熱する。フラン分離の完
結後、液温か上昇し生成物が留出する。沸点１３５℃（
０，４トル）のＮ−フェニルアクリルアミド２７，５部
を得る。この生成物をアセトニトリルから−２０・Ｃで
再結晶すると融点１１４−１１５°Ｃとなる。
実施例１２ ３０％メタノール性ナトリウムメチレート溶液７．２部
をｎ−プロピルアミン２９．５部に加える。
３０°Ｃにおいて、２−エトキシカルボニル−７−オキ
サビシクロ［２，２，１〕へブタ−５−エン８４部を滴
下する。反応媒質を１５時間攪拌し、沈殿する結晶塊を
メチレンクロライド１００部に溶解し、濃塩酸４部で中
和する。水５０部を加え、有機層を分離する。水層をメ
チレンクロライド各２５部で３回抽出する。有機層を合
わせ、硫酸マグネシウムで乾燥し、浴温４０℃、２０ト
ルの減圧下ニｏ−タＵ−エバポレーターで濃縮する。Ａ
ｌＩＣ１３２，２部を加えた後、生成するフランを同条
件下に留去し、残留物にメチレンクロ９４１１００部と
水５０部を加える。有機層を分離し、水層をメチレンク
ロライド各２５部で抽出する。有機層を合わせ、ロータ
リーエバポレーターで濃縮し、残留物を真空蒸留する。
沸点８８℃（０，８トル）のＮ−プロピルアクリルアミ
ド４５部を得る。
特許出願人　ヘーミシェ・ファブリーク・ストックハウ
ゼン・ゲゼルシャフト・ミツト・ベシュレンクテル・ハ
フランク

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）２−アルコキシカルボニル−７−オキサビシクロ
    〔２，２，１〕へブタ−５−エンを第１級または第２級
    アミンにより２−カルバモイル−７−オキサビシクロＣ
    ２，２，１］ヘプタ−５−エンに変換し、上記２−カル
    バモイル−７−オキサビシクロ［２，２，１〕へブタ−
    ５−エンをフランとＮ−置換アクリル酸アミドに分解す
    ることからなる一Ｎ　−置換アクリル酸アミドの製造方
    法。 （２）２−アルコキシカルボニル−７−オキサビシクロ
    Ｃ２，２，１３へブタ−５−エンの第１級または第２級
    アミンによる変換を２０ないし６０℃の温度で実施する
    、特許請求の範囲第１項記載の方法。 （３）２−アルコキシカルボニル−７−オキサビシクロ
    ［Ｉ２，２．１〕へブタ−５−エンの第１級または第２
    級アミンによる変換を無水条件下強塩基または塩基性イ
    オン交換体の存在下に実施する、特許請求の範囲第１項
    記載の方法。 （４）強塩基がアルカリ金属アルコレート、水素化物ま
    たはアミドである、特許請求の範囲第３項記載の方法。 ＋５１　２−カルバモイル−７−オキサビシクロ〔２，
    ２，１，：］］ヘプター５−エを６０ないし３００°Ｃ
    の温度に加熱することによりフランとＮ−置換アクリル
    酸アミドに分解する一特許請求の範囲第１項記載の方法
    。 （６）温度か８０ないし２００℃である、特許請求の範
    囲第５項記載の方法。 （７）温度が１００ないし１５０℃である、特許請求の
    範囲第５項記載の方法。 （８）２−カルバモイル−７−オキサビシクロ〔２，２
    ，１）へブタ−５−エンの分解をルイス酸の存在下Ｏな
    いし４０℃の温度で実施する、特許請求の範囲第１項記
    載の方法。 （９）　　温度が１５ないし２５℃である、特許請求の
    範囲第８項記載の方法。 （１０）　　／ｌｚイス酸がＡｌＣｌ３、ＴｉＣｌ４．
    ５ｎＣ１４、Ｆ　ｅ　Ｃ１ａ、およびＢＦ３０（Ｃ２Ｈ
    ５）２　から選ハレ、りものである、特許請求の範囲第
    ８項記載の方法。 ＋Ｉｌ＋　　２−カルバモイル−７−オキサビシクロ〔
    ２，２，１）ヘプタ−５−エンの分解を真空中で加熱す
    ることにより実施する、特許請求の範囲第１ないし３項
    の何れか１つに記載の方法。 （１２）アミンが直鎖または分枝脂肪族または脂環式ア
    ミンである、特許請求の範囲第１ないし３項の何れか１
    つに記載の方法。 （１３）　　アミンがさらに第２級または第３級アミ７
    基を含む第１級または第２級アミンである、特許請求の
    範囲第１ないし３項の何れか１つに記載の方法。 （１４）アミンが置換複素環式または芳香族アミンであ
    る、特許請求の範囲第１ないし３項の何れか１つに記載
    の方法。
JP58176108A 1982-09-24 1983-09-22 Ｎ−置換アクリル酸アミドの製造方法 Granted JPS5978152A (ja)

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