JPS5982724A - 電子線描画装置の試料交換装置 - Google Patents

電子線描画装置の試料交換装置

Info

Publication number
JPS5982724A
JPS5982724A JP57192444A JP19244482A JPS5982724A JP S5982724 A JPS5982724 A JP S5982724A JP 57192444 A JP57192444 A JP 57192444A JP 19244482 A JP19244482 A JP 19244482A JP S5982724 A JPS5982724 A JP S5982724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
case
samples
exchanger
cases
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57192444A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihisa Namikawa
南川 佳久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP57192444A priority Critical patent/JPS5982724A/ja
Publication of JPS5982724A publication Critical patent/JPS5982724A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子線描画装置の試料交換装置に係シ、特に交
換装置内試料枚数が多い場合においても容易に取り扱え
る試料ケースに関する。
従来の電子線描画装置用試料交換装置は第1図に示す構
成となっている。すなわち試料交換装置lは、鏡体2、
試料移動台3、試料室4からなシ、内部が真空である。
電子線描画装置の側壁に位置している。複数枚の試料5
は1つのケース6によって保持され、又ケース全体が上
下機構7によ如上下し、各試料を試料移動台の交換位置
と一致させて停止し、挿入機構8によって、ケースかう
試料移動台の試料保持位置9へ、また試料移動台上にあ
って電子線描画装置によって処理された、試料はケース
内へ搬送する。
ケース6内の全試料が処理されると、パルプ10を閉じ
、試料室と交換装置を隔離する。続いて交換装置内を大
気とし、ふた11を開き、ケースを取り出す。未処理試
料をケース6に入れふた11部よシ挿入し、交換装置内
部を排気してパルプ10を開き、試料室と交換装置を連
結することによって、再び前述した如く試料の搬送を行
なうことができる。
上述した交換装置において、ケース内の試料枚数を増し
、連続試料処理数を増したい場合には、ケース重量が増
加し及び外形が大型化する。全試料処理が完了し、交換
装置よ多試料を外部に取り出しする場合に、その取シ扱
いが難しく、取シ出し用のリフト装置が必要となる欠点
を有する。
本発明の目的は交換装置内の試料保持ケースを複数に分
割し1つのケースの重量を軽減した試料交換装置を提供
するものである。
以下本発明の一実施例ケ詳しく説明する。第2図は従来
(2’)試料交換装置内示す第1図のA−A’断面にお
いて本発明を実施したものである。
試料交換装置lの内部にあるガイド12,12’に沿っ
て上下する上下機構7、北に試料5が各々4枚ずつ保持
し全く相似形のケース13.14’!lr設けてあシ、
これらは上下機構により一体となって動くために、ケー
ス間(コネクタ15が設けである。各試料はA点におい
て試料台上に第1図と同一な動作で搬送され処理される
。各ケースの全試料が処理されたら、ふた11を開き、
まず上下機構によってケース13のトッテ16がB点よ
り少し上昇した所で市めケース13を取シ出し、さらに
ケース14のトッテ17がB点より少し上昇した所で上
下機構を止めて、ケース14を取シだす。すなわち試料
交換内の試料を2つに分割することにより全試料重量の
1/2 のみを取り扱うため、その作業が容易になる。
例えば全試料重量がzool(gの場合には20分割し
1ケ一ス5Kgにして取り扱えば極めて簡単に取扱うこ
とができる。ここでケースは相似形を示したが作業内容
、試料の種類別にして各々に形状をかえても本案は実施
できる。ケース間の試料距離とケース内の試料距離をか
えて図示したが、同一試料ピッチになるよう構成すれば
上下機構の制御が容易になる。
第3図は本発明の他の実施例を示す。試料交換装置1の
内部にガイドウェーとベルト駆動による搬送機構1B上
に試料を6枚もつケース19゜20を設け、上下機構7
の真上においてケースが止まるようにストッパー21f
f:設け、上下機構によpケース19を上下しA点にお
いて各試料は第1図と同様に試料移動台上に搬送される
。ケース19の全試料が処理されると搬送機構18によ
シ、上下機構上にはケース20がセットされる。ケース
20の各試料は前述のケー゛ス19と同様に処理される
。また、試料交換装置lの両端にはバルブ22.23に
持つ予備排気室28.2’l−持っており、ガイ)25
.26とケース金移動するための押し引き機構26.2
7e備えている。ケース19.20の試料処理が完了し
たら、予備室29からケース19’k、ケース20は、
予備室28へ送シ込みヒンジ30,31’i持つふた3
2,33より各々ケースを引き出し、新なケースを挿入
すると共に各予備室全排気し、バルブ23.24に開き
、試料交換室内に各ケースを挿入する。
次に予備室にケース34を入れ又予備室29を各々真空
排気しておき、ケース19の処理が完了したと同時にバ
ルブ23.24を開きケース20を上下機構上にケース
19は予備室29へ、ケース34は、ケース20の元の
場所へ送る。このようなサイクルを行なえばエンドレス
に試料処理が行なえる。本案によれば同一形状のケース
を複数個、試料交換室に入れることができかつ予備排気
室を持つことによって、試料交換装置内の真空を破るこ
となく試料処理が行なえる。
本案によれば、連続して多数枚の試料を処理するために
試料交換内に多数枚の試料を保有した場合においても、
その全数を複数ブロックに分割することかできるので試
料を含むケースの重量が軽量化でき、その作業性向上に
与える影響は大きい。
又、軽量なケースであるため、手による取扱ができるの
でリフト装置等余分な装置が不要となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の試料交換装置の断面図、第2図は第1図
のA−A’矢視図で本発明の一実施例を示す断面図、第
3図は同じく他の実施例の試料交換装置の断面図である

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、電子線描画装置により処理されるところの試料を出
    し入れするための試料交換装置内に、多数枚の試料を保
    有するために設けたケースにおいて、該ケースを複数の
    ブロックに分割し、かつ各ブロック間においても連続し
    て試料が交換できるよう構成したことを特徴とする、電
    子線描画装置の試料交換装置。
JP57192444A 1982-11-04 1982-11-04 電子線描画装置の試料交換装置 Pending JPS5982724A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57192444A JPS5982724A (ja) 1982-11-04 1982-11-04 電子線描画装置の試料交換装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57192444A JPS5982724A (ja) 1982-11-04 1982-11-04 電子線描画装置の試料交換装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5982724A true JPS5982724A (ja) 1984-05-12

Family

ID=16291402

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57192444A Pending JPS5982724A (ja) 1982-11-04 1982-11-04 電子線描画装置の試料交換装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5982724A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62169327A (ja) * 1986-01-21 1987-07-25 Toshiba Mach Co Ltd 基板交換装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62169327A (ja) * 1986-01-21 1987-07-25 Toshiba Mach Co Ltd 基板交換装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI408766B (zh) Vacuum processing device
JPH01163951A (ja) 真空装置及びそれを用いてプロセスを行う方法
JP2007533167A5 (ja)
JPS61206722A (ja) 真空処理装置
JP2002544663A (ja) 作業用クリーンルームの内部および外部で基板を操作するための装置
JPS61112312A (ja) 真空連続処理装置
JPS5877239A (ja) 連続式真空処理装置
JP2639093B2 (ja) イオン処理装置
JP2884753B2 (ja) イオン処理装置
JPS58168252A (ja) 半導体デバイスの製造装置
JP2004221610A (ja) 半導体処理装置
JPH0252449A (ja) 基板のロード・アンロード方法
JPS615541A (ja) 移し替え装置
JPH01120811A (ja) 半導体ウエハ処理装置
JPH0237742A (ja) 半導体装置の製造装置
JPS60160139A (ja) 移送方法
KR20120117316A (ko) 기판처리장치
JPH04159918A (ja) 真空容器用搬出入方法とその装置
JPH0469917A (ja) 多室構造型真空処理装置
JPS62204515A (ja) 試料の搬送装置
JPS62252128A (ja) 半導体製造装置の基板導入装置
JPH11222675A (ja) マルチチャンバ型真空処理装置
JP2001291765A (ja) 基板収容ボックス及び処理システム
JPS62136846A (ja) 半導体製造装置
JP2602954Y2 (ja) 基板真空処理装置