JPS62252128A - 半導体製造装置の基板導入装置 - Google Patents
半導体製造装置の基板導入装置Info
- Publication number
- JPS62252128A JPS62252128A JP9451486A JP9451486A JPS62252128A JP S62252128 A JPS62252128 A JP S62252128A JP 9451486 A JP9451486 A JP 9451486A JP 9451486 A JP9451486 A JP 9451486A JP S62252128 A JPS62252128 A JP S62252128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- semiconductor manufacturing
- substrate
- introduction
- introduction chamber
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体製造装置の基板導入装置に係り、特に、
カセットに装着した基板をクリーンな状態で導入室にカ
セットを導入するのに好適な半導体製造装置の基板導入
装置に関する。
カセットに装着した基板をクリーンな状態で導入室にカ
セットを導入するのに好適な半導体製造装置の基板導入
装置に関する。
従来の半導体製造装置の基板導入装置を、第２図に示す
、第２図において１は導入室、２は導入室の扉、３は基
板を装着したカセットである。扉２は導入室１の真空度
に対し、十分にシールが可能な構造となっている。
、第２図において１は導入室、２は導入室の扉、３は基
板を装着したカセットである。扉２は導入室１の真空度
に対し、十分にシールが可能な構造となっている。
上記従来技術は、基板導入室をクリーンな環境・に配設
する必要があり、一般に半導体製造装置はクリーンルー
ム内に設置されている。
する必要があり、一般に半導体製造装置はクリーンルー
ム内に設置されている。
例えば分子線エピタキシ装置等においては将来。
導入、搬出室のみをクリーンルール内に配設する案もあ
る。
る。
しかし、本構造では試料をカセットに装着して導入する
際に、クリーンな環境で行う必要があり、また、導入室
全体を大気に開放することになる。
際に、クリーンな環境で行う必要があり、また、導入室
全体を大気に開放することになる。
そのため真空度を元の状態に復帰するのに長時間を要す
る。
る。
本発明の目的は半導体製造装置の基板導入をクリーンな
状態で行うとともに、基板を導入するに際して導入室を
大気に開放後、短時間で真空を立上げるに好適な半導体
製造装置の基板導入装置を提供することにある。
状態で行うとともに、基板を導入するに際して導入室を
大気に開放後、短時間で真空を立上げるに好適な半導体
製造装置の基板導入装置を提供することにある。
クリーンな環境で基板をカセットに装着して、そのカセ
ットをクリーンボックスの上部扉から搬入して上部に保
持し、基板導入室の扉に取付けられたフランジにクリー
ンボックスを取付ける。その後、クリーンボックスの真
空排気を行い、導入室の真空度とバランスがとれた状態
で導入室のフランジ内面に取付けたゲートバルブを開き
、導入室内のカセットをクリーンボックス内に搬出し、
先にクリーンボックス内に搬入したカセットを導入室に
搬入する。その後、ゲートバルブを閉じ、クリーンボッ
クス内に導入室から搬入したカセットをクリーンボック
スを大気開放後クリーンボックスの下部扉からクリーン
な環境で取出す。
ットをクリーンボックスの上部扉から搬入して上部に保
持し、基板導入室の扉に取付けられたフランジにクリー
ンボックスを取付ける。その後、クリーンボックスの真
空排気を行い、導入室の真空度とバランスがとれた状態
で導入室のフランジ内面に取付けたゲートバルブを開き
、導入室内のカセットをクリーンボックス内に搬出し、
先にクリーンボックス内に搬入したカセットを導入室に
搬入する。その後、ゲートバルブを閉じ、クリーンボッ
クス内に導入室から搬入したカセットをクリーンボック
スを大気開放後クリーンボックスの下部扉からクリーン
な環境で取出す。
［実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図（ａ）、（ｂ）。
（Ｑ）により説明する。なお図において、（ｂ）は正面
図、（ａ）は上面図、（Ｃ）は側面図である。図におい
て、１は基板の導入室、３は基板を装着したカセット、
４はゲートバルブ、５はフランジ、６はクリーンボック
ス、７は上部扉、８はマニプレータ、１２はカセットの
水平方向移動用のトランスファマニプレータ、１３．１
４はカセットの支持部品を示す０本実施例においては、
クリーンな環境下で基板を装着したカセット８をクリー
ンボックス６の上部扉７を開き、クリーンボックス６の
最上部に搬入、保持して７を閉める。
図、（ａ）は上面図、（Ｃ）は側面図である。図におい
て、１は基板の導入室、３は基板を装着したカセット、
４はゲートバルブ、５はフランジ、６はクリーンボック
ス、７は上部扉、８はマニプレータ、１２はカセットの
水平方向移動用のトランスファマニプレータ、１３．１
４はカセットの支持部品を示す０本実施例においては、
クリーンな環境下で基板を装着したカセット８をクリー
ンボックス６の上部扉７を開き、クリーンボックス６の
最上部に搬入、保持して７を閉める。
この状態で導入室１の端部のフランジ５にクリーンボッ
クス６を取付ける。その後、クリーンボックス６の真空
排気を行い、導入室１の真空度とバランスがとれた状態
でゲートバルブ４を開き導入室のカセット３をトランス
ファマニプレータ１２でクリーンボックス内に搬出し、
トランスファマニプレータ１１でクリーンボックスの下
部に搬送し、保持する。これがカセット９である。
クス６を取付ける。その後、クリーンボックス６の真空
排気を行い、導入室１の真空度とバランスがとれた状態
でゲートバルブ４を開き導入室のカセット３をトランス
ファマニプレータ１２でクリーンボックス内に搬出し、
トランスファマニプレータ１１でクリーンボックスの下
部に搬送し、保持する。これがカセット９である。
引続き、トランスファマニプレータ１５でカセット８を
クリーンボックス６の中央位置まで移動後、トランスフ
ァマニプレータ１２で導入室１にカセット３を搬入し、
ゲートバルブ４を閉じる。
クリーンボックス６の中央位置まで移動後、トランスフ
ァマニプレータ１２で導入室１にカセット３を搬入し、
ゲートバルブ４を閉じる。
これらの手順が完了後、フランジ部５からクリーンボッ
クス６を大気開放後に取はずし、所定のクリーン環境で
クリーンボックス６の下部扉１０を開き、カセット９を
取出す、また、クリーンボックスを取付けたまま上記の
ような操作を行ってもよい。
クス６を大気開放後に取はずし、所定のクリーン環境で
クリーンボックス６の下部扉１０を開き、カセット９を
取出す、また、クリーンボックスを取付けたまま上記の
ような操作を行ってもよい。
なお、クリーンボックス６の真空排気を行うことなくゲ
ートバルブ４を開き、前述の手順でカセットを導入室内
に搬入すること、また、導入室１内にカセット３が装着
されていない場合は、カセット８をカセット３の搬出手
順を行うことなく、搬入することもできる。
ートバルブ４を開き、前述の手順でカセットを導入室内
に搬入すること、また、導入室１内にカセット３が装着
されていない場合は、カセット８をカセット３の搬出手
順を行うことなく、搬入することもできる。
本発明によれば、基板をクリーンな状態で半導体製造装
置等の試料導入室に搬入することができ、しかも、導入
室へカセットを搬入後、真空を立上げる時、従来より短
い時間で所定の圧力まで立上げることができる。
置等の試料導入室に搬入することができ、しかも、導入
室へカセットを搬入後、真空を立上げる時、従来より短
い時間で所定の圧力まで立上げることができる。
したがって、装置の運転のスループットを向上させるこ
とができる。
とができる。
第１図は本発明の半導体製造装置に基板導入装置の説明
図で、（ｂ）は正面図、（ｎ）は上面図、（Ｑ）は側面
図、第２図は従来の半導体製造装置の基板導入装置の正
面図である。
図で、（ｂ）は正面図、（ｎ）は上面図、（Ｑ）は側面
図、第２図は従来の半導体製造装置の基板導入装置の正
面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板をカセットに装着して装置の導入室から基板を
槽内に導入する半導体製造装置の基板導入装置において
、導入室の導入側にゲートバルブとフランジを配設し、
少なくとも１個のカセットの装着が可能で、前記、フラ
ンジと締結ができるフランジを装備したクリーンボック
スを有することを特徴とする半導体製造装置の基板導入
装置。 ２、特許請求の範囲第１項のものにおいて、クリーンボ
ックスの側面及び上下面にカセットを導入するトランス
フアマニプレータを有することを特徴とする半導体製造
装置の基板導入装置。 ３、特許請求の範囲第１項のものにおいて、クリーンボ
ックスのみで真空排気が可能であることを特徴とする半
導体製造装置の基板導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9451486A JPS62252128A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 半導体製造装置の基板導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9451486A JPS62252128A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 半導体製造装置の基板導入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62252128A true JPS62252128A (ja) | 1987-11-02 |
Family
ID=14112431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9451486A Pending JPS62252128A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 半導体製造装置の基板導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62252128A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5609459A (en) * | 1995-07-06 | 1997-03-11 | Brooks Automation, Inc. | Door drive mechanisms for substrate carrier and load lock |
| KR19980042257A (ko) * | 1996-11-18 | 1998-08-17 | 조셉제이.스위니 | 세 개의 챔버를 갖춘 부하 로크 장치 |
| US5909994A (en) * | 1996-11-18 | 1999-06-08 | Applied Materials, Inc. | Vertical dual loadlock chamber |
| US6186722B1 (en) * | 1997-02-26 | 2001-02-13 | Fujitsu Limited | Chamber apparatus for processing semiconductor devices |
-
1986
- 1986-04-25 JP JP9451486A patent/JPS62252128A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5609459A (en) * | 1995-07-06 | 1997-03-11 | Brooks Automation, Inc. | Door drive mechanisms for substrate carrier and load lock |
| KR19980042257A (ko) * | 1996-11-18 | 1998-08-17 | 조셉제이.스위니 | 세 개의 챔버를 갖춘 부하 로크 장치 |
| US5909994A (en) * | 1996-11-18 | 1999-06-08 | Applied Materials, Inc. | Vertical dual loadlock chamber |
| US6250869B1 (en) * | 1996-11-18 | 2001-06-26 | Applied Materials, Inc. | Three chamber load lock apparatus |
| US6494670B2 (en) * | 1996-11-18 | 2002-12-17 | Applied Materials, Inc. | Three chamber load lock apparatus |
| US6186722B1 (en) * | 1997-02-26 | 2001-02-13 | Fujitsu Limited | Chamber apparatus for processing semiconductor devices |
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