JPS5987849A - 金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法 - Google Patents

金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法

Info

Publication number
JPS5987849A
JPS5987849A JP57196963A JP19696382A JPS5987849A JP S5987849 A JPS5987849 A JP S5987849A JP 57196963 A JP57196963 A JP 57196963A JP 19696382 A JP19696382 A JP 19696382A JP S5987849 A JPS5987849 A JP S5987849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
plating
tape carrier
metallic
insulating substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57196963A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshifumi Kitayama
北山 喜文
Shuichi Murakami
修一 村上
Takashi Suzuki
隆 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP57196963A priority Critical patent/JPS5987849A/ja
Publication of JPS5987849A publication Critical patent/JPS5987849A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/099—Connecting interconnections to insulating or insulated package substrates, interposers or redistribution layers

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体素子組立のための金属突起物付テープ
キャリアの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来、金属突起物付テープキャリアの製造方法は、第1
図に示すようにガラスなどの絶縁物1の上に蒸着やメッ
キで金属膜2を形成し、この金属膜2の一部を残し、メ
ッキ用レジスト3を金属膜2上に形成したのち、メッキ
用レジスト3が形成されていない金属膜面に金属突起物
4をメッキ等により形成して、この金属突起物4をテー
プキャリア5のリード6に熱圧着して金属突起物4のみ
をリード6に接合していた。ところが、この方法では絶
縁物1上に金属膜2を形成するのに時間がかかるという
問題や、金属膜2が剥離することがしばしばあった。ま
た金属突起物4をリード6に接合するときに、金属膜2
が剥離することもあった。さらに、金属突起物4を電解
メッキ法で形成する場合、金属膜2の膜厚が薄いために
メッキ電流を大きくすることができず、金属突起物4の
形成に時間がかかった。
従来例のもう一つの例を第3図に示す。金属基板7上に
一部分を露出させてメッキ用レジスト3を形成したのち
、露出した金属基板7上に金属突起物4を形成し、この
金属突起物4をリード6に接合していた。ところが、こ
の方法では金属突起物4をテープキャリア5のリード6
に接合するとき、ボニディングツールの熱が金属基板に
吸収されてボンディングツールの温度が下がるという問
題があった。
発明の目的 本発明は、このような従来の欠点を除去するものであり
、製造プロセスを簡素化するとともに、金属突起物をフ
ィルムキャリアのリードに接合するとき絶縁基板が断熱
材としての効果を示し、ボンディングツー/L/の加熱
を効果的に行うことのできる金属突起物付テープキャリ
アの製造方法を提供するものである。
発明の構成 本発明は、絶縁基板の一主面に金属箔を張合せ、金属箔
面にメッキ用レジスト膜を形成する。そのとき、多数の
微小窓をメッキ用レジスト膜に設けて金属箔面の一部分
を露出させておく。この金属箔の露出面に金属突起物を
形成したのち、この金属突起物をテープキャリアのリー
ドに接合する工程からなり、絶縁基板上への金属箔の形
成が短時間ででき、絶縁基板と金属箔との密着強度も優
れ、金属突起物を電解メッキ法で形成するときに太きな
電流を流すことができ(そのため金属突起物を短時間で
形成できる。)絶縁基板の断熱効果のためにボンディン
グツールの加熱温度を低くすることができ、製造上きわ
めて有利である。
なお、金属箔を使用しているため、ボンディング時に箔
が剥離することはない。
実施例の説明 以下本発明の第一の実施例を図面を参照して説明する。
第4図に示すように絶縁基板1に接着剤8を介して金属
箔9を張合せる。この金属箔9の上にメッキ用レジスト
膜3を形成する。その際、金属突起物4を取付けるだめ
の微小窓1oをメッキ用レジスト膜3に形成する。この
微小窓10に金属突起物4をメッキ、蒸着等により形成
したのち、この金属突起物4をテープキャリア6のリー
ド6に張合せる。
このようにすれば、絶縁基板上に容易に金属層を設ける
ことができ、著しく工程の時間短縮が可能となる。
第2の実施例は、第6図に示すように絶縁基板1に接着
剤8を介して金属へ9を張合せ、この金属箔9上にメッ
キ用レジスト膜3を形成する。その際、金属突起物4を
取付けるだめの微小窓10をメッキ用レジスト膜3に形
成する。この微小窓10の部分の金属箔9を接着剤8ま
で達しないようにエツチングして穴11をあけて、この
穴11に金属突起物4をメッキ等で形成して、この金属
突起物4をテープキャリア5のリード6に接合する。
発明の効果 以上のように本発明は、絶縁基板上に接着剤を介して金
属箔を形成するため、金属層の形成が短時間ででき、金
属突起物を電解メッキで形成するときに大きな電流を流
すことができ、また接着剤と絶縁基板が断熱材としての
効果を示すためにボンディングツールの加熱温度を必要
以上に上げる必要がないため製造上有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、および第3図は従来の金属突起物付基
板および金属突起物付テープキャリアの断面図、第4図
および第6図はそれぞれ本発明の実施例の金属突起物付
基板の断面図である。 1・・・・・・絶縁基板、2・・・・・・金属膜、3・
・・・・・メッキ用レジスト膜、4・・・・・・金属突
起物、6・・・・・・テーク。 キャリア、6・・・・・・リード、7・・・・・・金属
基板、8・・・・・・接着剤、9・・・・・・金属箔、
10・・・・・・微小窓、11・・・・・・穴。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第 
1 図 4 第2図 第3図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ぐし 絶縁基板の一主面に金属箔を接着剤に張合せ、前記金属
    箔面にメッキ用レジスト膜を多数の配列された微小窓を
    残して形成し、上記微小窓に金属突起物を形成し、この
    あとテープキャリアのリードに上記金属突起物を熱によ
    多接合する工程からなり、前記接着剤を断熱層とした金
    属突起物付テープキャリアの製造方法。
JP57196963A 1982-11-10 1982-11-10 金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法 Pending JPS5987849A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57196963A JPS5987849A (ja) 1982-11-10 1982-11-10 金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57196963A JPS5987849A (ja) 1982-11-10 1982-11-10 金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5987849A true JPS5987849A (ja) 1984-05-21

Family

ID=16366552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57196963A Pending JPS5987849A (ja) 1982-11-10 1982-11-10 金属突起物付テ−プキヤリアの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5987849A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61287136A (ja) * 1985-06-13 1986-12-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61287136A (ja) * 1985-06-13 1986-12-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001185519A5 (ja)
JPH0249021B2 (ja)
US4698901A (en) Mesa semiconductor device
JP2004119606A (ja) 半導体基板の貫通孔埋め込み方法および半導体基板
JPH0159755B2 (ja)
JPS61121489A (ja) 基板製造用Cu配線シ−ト
JPH0319247A (ja) 半導体装置製造時の半田付け方法
JPS63143851A (ja) 半導体装置
JPH02238641A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2705263B2 (ja) Tab用テープキャリアの製造方法
JPH0332913B2 (ja)
JPS61158166A (ja) 突起金属形成用基板の製造方法
JPS59111338A (ja) 回路基板への半導体素子の接着方法
JPH0746710B2 (ja) 半導体搭載用基板の製造方法
JPS60127762A (ja) 半導体装置とその製造方法
JPH02178939A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS6341054A (ja) 混成集積回路の接着方法
JP3090061B2 (ja) Tab用テープキャリア
JPS62156820A (ja) 半導体素子の製造方法
JPS62219651A (ja) 半導体装置
JPS62298138A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS62266843A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPS62128133A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH04726A (ja) 半導体装置
JPH0193131A (ja) 半導体装置の製造方法