JPS5990624A - 流動床処理方法および装置 - Google Patents

流動床処理方法および装置

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JPS5990624A
JPS5990624A JP58183258A JP18325883A JPS5990624A JP S5990624 A JPS5990624 A JP S5990624A JP 58183258 A JP58183258 A JP 58183258A JP 18325883 A JP18325883 A JP 18325883A JP S5990624 A JPS5990624 A JP S5990624A
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zones
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デイ−トマ−ル・ナウンアツパ−
ギユンタ−・ブラウン
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61J—CONTAINERS SPECIALLY ADAPTED FOR MEDICAL OR PHARMACEUTICAL PURPOSES; DEVICES OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR BRINGING PHARMACEUTICAL PRODUCTS INTO PARTICULAR PHYSICAL OR ADMINISTERING FORMS; DEVICES FOR ADMINISTERING FOOD OR MEDICINES ORALLY; BABY COMFORTERS; DEVICES FOR RECEIVING SPITTLE
    • A61J3/00—Devices or methods specially adapted for bringing pharmaceutical products into particular physical or administering forms
    • A61J3/005—Coating of tablets or the like
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C19/00—Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces
    • B05C19/02—Apparatus specially adapted for applying particulate materials to surfaces using fluidised-bed techniques
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は錠剤等を処理ゾーン内で運動させるガス流が貫
流する容器を有する、とくに錠剤被覆用の流動床処理方
法のための装置に関する。
流動床法の場合、装置容器内に処理ゾーンが設けられ、
ここで錠剤等の処理材料はたとえば被覆、乾燥等の処理
をされる。この処理を最適にするだめ、とくに処理ゾー
ンの一定の空間的拡がりまたは流動床の拡がり、とくに
錠剤等の流動高さが必要である。流動床粒化法の場合も
同様である。とくに流動床ゾーンの高さを制御するため
ガス流を変化することができる。その７ゝ、め公知のよ
うにたとえば制御弁を介して空気ｊ、、−！′ｆ：手動
で渦流ゾーンの所望の高さが生ずるまで変化する。流動
床ゾーンの調節および監視は作業員の目測による制御に
よって行われる。
この場合流動床ゾーンの高さをほぼ均一に維持するだめ
場合により連続的監視を必要とする困難がある。という
のは錠剤宿の流動高さの変化をひき起こす処理材料の場
合、処理過程の間に変化が生じうるからである。処理材
料が異なる場合もそのつど調節を変え外ければならない
。しだがって全体として良好な処理結果を得るためには
作業員による労力を男′する複雑な監視および調節を必
要とし、その際連続的に最適の調節を達成することは保
証さ′ｌｌｌない。目測による監視の場合視覚的錯覚も
生シ１、処理結果は不所望に影響される。
本発明の目的は流動床高さの調節により、たとえば処理
の間に処理材料が変化する際少なくともこの変化を明ら
かに認めつる１１工記形式の装置を得ることである。さ
らにｊＪｈ合により流動床高さを自動的にほぼ一定に保
持し得なければならない。
この目的を解決するための本発明により処理ゾーンの上
端範囲に錠剤等の処理材料の上部頂点範囲を検出する監
視装置を備えることがとくに提案される。
この監視装置によって錠剤等の一定の流動高さを上また
は下に超えることが確実に検出され、少なくともそれぞ
れの状態を信号発信のために使用することができる。そ
れによってすでに監視は著しく簡単化され、さもなけれ
ば目測の際場合により生ずるエラーを避けることができ
る本発明の有利な形成によれば監視装置は流動１にゾー
ンのとくに高さの拡がりに影響する装置グーとえばガス
量制御弁等と制御回路で結合され、制御器としてはとく
に遅延素子を有する積分制御器が備見られる。それによ
って処理材料の流動高さを所定範囲にほぼ一定に保持し
うる制御回路が得られる。処理の間に生ずる処理材料の
変化たとえば錠剤等の被覆による重量増加は−Ｅ−れに
よって自動的に検出され、たとえばガス通過量の増大等
によって補正することができる隔離部材とくに円筒壁等
によって互いに仕切った２つのゾーンを有する装置゛の
場合、錠剤等の粒子は１つのゾーンを上向きに動き、他
のゾーンを下向きに動き、センサを有する監視装置は隔
離部材より上に配置される。とくにこのような装置の場
合錠剤等の流動高さの監視はきわめて重要である。とい
うのはこの場合とくに流動高さが低いと処理過程に障害
が生ずるからである。隔離部材より上に配置しだセンサ
によって低過ぎる流動高さの発生も検出されるので、た
だちに適当な手段をとることができる。
それぞれ上向きに動く処理拐料を有する多数の仕切ゾー
ンおよびそれぞれ下向きに動く処理利料を有する多数の
仕切ゾーンからなる装置の場合ゾーンを仕切る隔離部材
」２り上に多数の監視ゾーンおよびそこに配置しブ、ニ
センーリを有する監視装置が備えられる。このような配
置の場合作業員の目測による監視はとくに困難なので、
本発明による監視装置はとくに有利である。
本発明のもう１つの形成に、しれば監視装置のセンサは
作業容器等に高さ調節可能に設置される。それによって
錠剤等のそのつどの所定流動高さへの適合および場合に
より限界値を上または下に超えることを検出するための
適合も可能である。
本発明はさらに流動床法で流動化ガス循環の作用下に形
成される流動床ゾーンの頂点範囲を制御する方法にも関
する。本発明の方法の特徴は流動する拐刺の頂点範囲を
検出し、この検出値を少なくとも流動化ガス循環の制御
に使用することである。
次に本発明を図面により説明する。
装置１（第１図）は全体として回転流動床装置を形成し
、その内部で被覆、粒化および乾燥も実施することがで
きる。とくにこの中で錠剤の心に被覆を設（ツ、次に乾
燥することができる。装置１は作業塔２を有し、その下
端はロータ板３によって仕切られる１、このロータ板の
上の作業塔２の一部に処理ゾーン４が形成され、この中
で処理材料はほぼ矢印Ｐｆ　　ｌで示すように循環する
。この渦動を達成ず／；）ため、作業塔２計矢印２で示
すガス流が通過する。そのために駆動モータ２を有する
ブロア５が作業塔２の上端に配置される。ガスまだは空
気はロータ板３の周縁の下端でロータ板と作業塔壁の間
から入る。
本発明により処理ゾーン４の上部範囲に錠剤まだは錠剤
心などの渦流の頂７点範囲を検出するためセンサ８を有
する監視装置７が配置される。とくにこの場合センサと
し一７４発光器９およびたとえばホトトランジスタ等イ
ｉ備える受光器１０を有する光ゲートが使用される。発
光器９および受光器１０は作業塔２に２１′径方向にほ
ぼ相対して配置される。内部で処理材料か循環する渦流
ゾーンが光ゲートの高さを−・定値超えると、受光器１
０に相当する信号が得られる。第１図の実施例によれば
光ゲートは制御導線１］、によって制御器１２を介して
プ゛１１ア５の駆動モータ６と結合している。それによ
って制御回路が形成され、この回路によって空気まだは
ガス貴重たは速度は内部に錠剤などの粒子を有する流動
層の高さがほぼ一定になるように調節される。流動床の
高さが発光器９から受光器１０への光線を中断する大き
さの場合、速度を低下する信号が駆動モータ６へ発信さ
れる。他面光ゲートの光線が完全に自由通過する１箱合
、ガスの通過量は増大される。場合により光ゲートをｈ
わゆる窓ディスクリミネータと結合することができ、こ
ｙｔによりその窓内にある光ゲートの出力信号は適当と
評価され、超える場合まだは下回る場合は駆動モータの
制御信号として評価される。
実施例によれば光ゲートは積分制御特性ケ有する制御？
Ｕ１２と結合している。これは光ゲー］・の出力信号に
よる駆動モータの速度調節は光ダートから相当する制御
信号がとない限り続くことを意味する。有利に制御器１
２は短時間の出力信号への応答を避けるため遅延素子を
備え乙。
場合により光ゲートは限界値を上回りまたば「回る場合
にのみ応答するように調節寸たは配置することもできる
。これはたとえば錠剤の流動高さが一定高さより低くな
ることだけを避けたい場合に有利である。この場合光ゲ
ー１へは錠剤等の渦流の頂点範囲より少し下に配置され
、光ゲートはほぼ中断される。流動高さがたとえば錠剤
等の被覆による重量増加によって減少する場合、錠剤の
頂点範囲は少し下へ降下するので、光ゲートはほぼ自由
通路を有する。それによって空気通過量増大等の信号が
発せられる。
監視装置７は流動床ゾーンの高さを調節する他の装置と
制御上結合することもできる。たとえばロータ板３の速
度を場合によりブロア５の速度と組合ぜて変化すること
もできる。ガス量調節弁、パイ・ぐス等への制御上の結
合も可能である。セ〉ザどしての光ゲートのほかしこ場
合により超音波ゲート、赤外線ゲート等も使用しうろこ
とが指摘される。
第２〜５図は流動床法の装置の隔離部材によって互いに
仕切られたゾーンを備える処理ゾーンを示し、この場合
錠剤等の粒子は１つのゾーン内を上向に動き、そこで場
合によりスプレーノズル１８から被覆剤がスプレーされ
、他のゾーン内で下向きまたは戻り運動が行われる。実
施例によＪｌ−ば作業場２ａ内に中空円筒１４が配置さ
れ、その下端は多孔底１５から少し離れる。この多孔底
１５からガスが流入する（矢印Ｐｆ３）。中空円筒１４
の内部は錠剤が上向きに運動する仕切ゾーンを形成する
。ガス流はこの円筒１．４のψ、部の循環する渦流内に
錠剤の下向き戻り運動が生ずるように形成される。中空
円筒１４の上端より上にこの場合も光ゲート１６が配置
される。この流動床装置の場合、錠剤１３等の流動高さ
の監視はとくに重要である。というのはガス通過量だけ
ガス速度が粒子を円筒１４を通して輸送するために十分
でないと障害が生ずるからである。それゆえこの場合最
小流動高さにある信号で十分である。しかし場合により
この場合も所定頂点範囲を上または下に超えることを検
出することもできる。この最後の場合許容範囲を挾んで
光ゲートを互いに上下に配置１゛することができ、この
ゲートはこの許容範囲の上限または下限高さを形成する
。
光ゲート１６を使用する場合このゲートはとくにのぞき
窓１７の範囲に配置されるので、監視装置７はあとから
組込むこともできる。さらにそれによって装置１０作作
業場、２ａに処置を必要とせず、センサばそれによって
良好に保護して配置される。
有利に監視装置のセンサは作業場２，２ａに高さ調節可
能に股部−され、流動床の所定の高さに適合させること
ができる３、それによってさらにセンサは一定の流動高
さにおいて伝達方式に関して切替えることもできるので
、１つの光ゲートによって一定の流動高さン超える際に
信号を発し、まだは同じ流動高さの設定でこの値を下回
る際に信号を発するように調節することができる。
第４および５図は作業場２ｂ内に多数の、この例では７
つの中空円筒１４苓配置した第２および３図の装置と同
様の装置１を示す。この円筒の１つは作業場２ｂのほぼ
中心範囲にあるけれど、他の６つの円筒１４はこの中心
円筒を中心とする同心円上に配置される。流動床装置の
この実施例の場合、流動床ゾーンの高さの監視はとくに
困難である。というのはこの場合作業Ｌ４の［−■測に
よる監視では錠剤僧の所定の流動高］が実際に存在する
かどうか口とんど監視できないゆらである。しかし多数
の監視ゾーンおよびそこに配置したセンタを有する本発
明の監視装置によって流動高さを確実に検出することが
できる。この実施例によれば３つの光ゲート１６がそれ
ぞれ多数の円筒１４をカバーするように配置される。個
々の光ゲーＩの出力信号はとくにガス案内等の形成に応
してロジック結合回路たとえばアンドまたはオア回路を
介して結合することができる。それによってδつの光ゲ
ートがすべで−・定の流動高さを」−回るまだは下回る
信号を発する際まだはオア回路を介する結合の場合光ゲ
ートの１つが限界（Ｈ（＊を超える信号を発する際、出
力信号を発することが達成される、、第５図に示すよう
な光ゲーＩ・の平行配置のほかに光ゲートは交差配置す
ることもできる。
前記のように本発明による監視装置の形成および配置に
応じて処理材料の流動高さは一定の限界高さを上回る際
まだは下回る際検出され、それぞれの出力。信号がさら
に処理される。さらに許容の高さまだは高さ範囲は１つ
または場合により多数の互いに上下に配置した光ゲート
のようなセンーザによって検出する処理材料の平均流動
高さどして与えることもできる。その出力信号は流動床
ゾーンのとくに高さに影響する装置たとえばガス量調節
弁、ブロア５、底部側のロータ板３等の制御によって流
動高さをほぼ一定に保持するように処理され、その際全
体として１つの制御回路が形成されでいる。それによっ
てとくに処理の間まだはチャージ交換の際錠剤の重量お
よび（まだは）形状変化の形で発生しうる妨害値を検出
して制御することができ、その際この過程は手動でなく
とくに自動的に進行する。しだがって場合によりさらに
均一な処理が達成され、さらに改善されだ最終生成物が
得られる。
前記限界値監視または流動高−さの一定保持の（・汗か
に、流動床処理の所定時間経過後に流動高さを変化する
ように監視を使用することができも。
【図面の簡単な説明】
第１図は流動床処理装置の縦断面図、第２図は第１図と
異なる実施例の処理ゾーン範囲の縦断面図、第３図は第
２図装置の平面図、第４図は互いに離れた多数の処理ゾ
ーンを有する装置の縦断面図、第５図は第４図装置の平
・面図である。 ２・・・作業基、δ・・・ロータ板、４・・・処理ゾー
ン、５・・・ブロア、６・・・駆動モータ、７・・・監
視装置、８・・・センサ、９・・・発光器、１０・・・
受光器、１２・・・制御器、１３・・・錠剤、１４・・
・中空円筒、１５・・・多孔板

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １　流動化ガス循環の作用により流動床ゾーンを形成し
    て処理材料を処理する流動床処理方法において、流動化
    した材料の渦流頂点範囲を検出し、検出値を少なくとも
    流動化ガス循環の制御に使用することを特徴どする流動
    床処理方法。 ２、検出値を流動床ゾーンに影響する他の装置を制御す
    る制御値として使用する特許請求の範囲第１項記載の方
    法。 ろ１錠剤等を処理ゾーン内で述動させる調節可能のガス
    流が貫流する容器ン・有する流動床処理装置において、
    処理ゾーン（４）の上端範囲に処理′！Ａ刺（］、　３
    　）の渦流の頂点範囲を検出する監視装置（７）を備え
    ていること′（ｉｌｌ−特徴とする流動床処理装置。 ４、監視装置（７）が流動床ゾ・−ンの高さに影響する
    少なくとも１つの装置と制御導線で結合し、制御器が遅
    延回路を備えている特許請求の範囲第３項記載の装置。 ５、監視装置（７）が少なくとも１つのセンサ（８）を
    有する特許請求の範囲第５項または第４項記載の装置。 ６、隔壁部材によって互いに仕切られた２つのゾーンを
    有し、錠剤等の粒子が１つのゾーンを上向きに動き、他
    のゾーンを下向きに動き、センづ（８）を有する監視装
    置（７）が隔壁部材より上に配置されている特許請求の
    範囲第３項〜第５項のいずれか１つに記載の装置。 それぞれ上向きに動く処理材料を有する多数の佳切られ
    たゾーンおよびそれぞれ下向きに動く処理材料を有する
    多数の仕切られたゾーンからなり、ゾーンを仕切る隔壁
    部材より上に多数の監視ゾーンおよびそこに配置された
    センサ（８）を有する監視装置を備えている特許請求の
    範囲第３項〜第６項のいずれか１つに記載の装置。 ８．監視装置（７）がセンサ（８）の出力信号を結合す
    るためのロジック結合回路を備えている特許請求の範囲
    第３項〜第７項のいずれか１つに記載の装置。 ９、　多数の頂点範囲を検出する光ゲート（１６）を備
    え、この光ゲートがゾーンの配置に応じて平行または交
    差しで配置されている特許請求の範囲第７項または第８
    項記載の装置。 １０、監視装置（７）のセンサが高さ調節可能に作業容
    器等に設置されている特許請求の範囲第３項〜第９項の
    いずれか１つに記載の装置１１　　センサ（８）がのぞ
    き窓（１７）の範囲に配置されている特許請求の範囲第
    ３項〜第１０項のいずれか１つに記載の装置。 １２、高さの上限値および下限値を検出するセンサ（８
    ）が互いに上下に配置されている特許請求の範囲第３項
    〜第１１項のいずれか１つに記載の装置。
JP58183258A 1982-10-08 1983-10-03 流動床処理方法および装置 Pending JPS5990624A (ja)

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DE32373031 1982-10-08

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