JPS5997105A - 干渉型偏光子 - Google Patents
干渉型偏光子Info
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- JPS5997105A JPS5997105A JP20806382A JP20806382A JPS5997105A JP S5997105 A JPS5997105 A JP S5997105A JP 20806382 A JP20806382 A JP 20806382A JP 20806382 A JP20806382 A JP 20806382A JP S5997105 A JPS5997105 A JP S5997105A
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- Japan
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- light
- interference
- vapor deposition
- polarizer
- type polarizer
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は偏光子としての作用と透過光の波長を選択する
干渉フィルタとしての作用を併せ持つ干渉型偏光子に関
し、特に、入射光の偏光面に応じて透過光の波長が変わ
るという新規な性質を有する干渉型偏光子に関する。
干渉フィルタとしての作用を併せ持つ干渉型偏光子に関
し、特に、入射光の偏光面に応じて透過光の波長が変わ
るという新規な性質を有する干渉型偏光子に関する。
光学機器は各種の光学部品が用いられているが、最近特
に、干渉型偏光子と称されるものが注目を浴びている。
に、干渉型偏光子と称されるものが注目を浴びている。
この干渉型偏光子は、一般には自然光を直線偏光に変え
る偏光子としての作用と、透過光の波長を選択する干渉
フィルタとしての作用をなすものとして知られている。
る偏光子としての作用と、透過光の波長を選択する干渉
フィルタとしての作用をなすものとして知られている。
そこで、従来はこれら偏光子や干渉フィルタとして作用
するものを別体に形成し、組み合せて用いることによっ
て干渉型偏光子とすることが考えられている。そして、
偏光子としては方解石や水晶などの複屈折性の結晶を使
って形成されるプリズムや二色性結晶等が用いられ、一
方、干渉フィルタとしては、半透明の銀の薄膜の間に例
えばフッ化マグネシウム等の透明な誘電体の薄膜を挾ん
だもの等が用いられている。
するものを別体に形成し、組み合せて用いることによっ
て干渉型偏光子とすることが考えられている。そして、
偏光子としては方解石や水晶などの複屈折性の結晶を使
って形成されるプリズムや二色性結晶等が用いられ、一
方、干渉フィルタとしては、半透明の銀の薄膜の間に例
えばフッ化マグネシウム等の透明な誘電体の薄膜を挾ん
だもの等が用いられている。
ところで、このように偏光子と干渉フィルタの組み合せ
により干渉型偏光子を構成するものにあっては、２個の
光学部品を有することとなり、占有空間も大きくなって
光学機器の小型化に対応することができないものである
。さらに、このように用いられる偏光子は、入射光の半
分は吸収してしまうため、出力の大きな入射光に対して
は、吸収エネルギーにより焼結する虞れがある。
により干渉型偏光子を構成するものにあっては、２個の
光学部品を有することとなり、占有空間も大きくなって
光学機器の小型化に対応することができないものである
。さらに、このように用いられる偏光子は、入射光の半
分は吸収してしまうため、出力の大きな入射光に対して
は、吸収エネルギーにより焼結する虞れがある。
そこでさらに従来は、非吸収透明物質の高屈折率膜と低
屈折率膜を交互に重ねて層とした所謂多層ダイクロイッ
クミラーが干渉型偏光子として用いられている。このよ
うな干渉型偏光子では、例えば硫化亜鉛層とフッ化マグ
ネシウム層を交互に積層したものが用いられ、各層の厚
さを調整することにより干渉作用によって透過光の波長
を選択できるようになるとともに、上記干渉型偏光子の
表面に偏光角（ブルースターの角）で光を入射すること
により透過光を入射面に平行な直線偏光とすることがで
きる。
屈折率膜を交互に重ねて層とした所謂多層ダイクロイッ
クミラーが干渉型偏光子として用いられている。このよ
うな干渉型偏光子では、例えば硫化亜鉛層とフッ化マグ
ネシウム層を交互に積層したものが用いられ、各層の厚
さを調整することにより干渉作用によって透過光の波長
を選択できるようになるとともに、上記干渉型偏光子の
表面に偏光角（ブルースターの角）で光を入射すること
により透過光を入射面に平行な直線偏光とすることがで
きる。
しかしながら、このような従来の干渉型偏光子にあって
は、入射光を斜め方向から入射する必要があるため光学
系の中に設置するときに大きな空間を必要とする。
は、入射光を斜め方向から入射する必要があるため光学
系の中に設置するときに大きな空間を必要とする。
さらに、このような従来のものにあっては、光路を乱さ
ないためには例えばダイクロイックビームスプリンタプ
リズムのようなプリズム状とする必要があり、構造が複
雑なものとなる欠点がある。
ないためには例えばダイクロイックビームスプリンタプ
リズムのようなプリズム状とする必要があり、構造が複
雑なものとなる欠点がある。
そこで本発明は、上述した従来のものの有する欠点を解
消するために提案されたものであり、垂直方向の入射光
に対して使用することができ、小型化を図ることが可能
な新規な干渉型偏光子を提供することを目的とする。
消するために提案されたものであり、垂直方向の入射光
に対して使用することができ、小型化を図ることが可能
な新規な干渉型偏光子を提供することを目的とする。
さらに本発明は、構造が簡単で容易に製造することが可
能な干渉型偏光子を提供することを目的とする。
能な干渉型偏光子を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するために、本発明は、２ｎｄ二ｍ
λなる厚みを有し、誘電体材料を基板に対して斜めに入
射させて蒸着することにより形成した複屈折層の両面に
、反射層を設けてなり、偏光面に応じて所定の波長を選
択することを特徴とするものである。ただし、λは入射
光の波長、ｍは整数、ｎは複屈折層の屈折率、ｄは複屈
折層の厚みを表わすものである。
λなる厚みを有し、誘電体材料を基板に対して斜めに入
射させて蒸着することにより形成した複屈折層の両面に
、反射層を設けてなり、偏光面に応じて所定の波長を選
択することを特徴とするものである。ただし、λは入射
光の波長、ｍは整数、ｎは複屈折層の屈折率、ｄは複屈
折層の厚みを表わすものである。
本発明者等は、克明な試験研究を重ねた結果、干渉フィ
ルタの誘電体層を斜め蒸着で得られる複屈折性誘電体層
に置き替えることにより偏光面に応じて所定の波長を選
択する干渉型偏光子として作用することを見出し本発明
を完成したものである。
ルタの誘電体層を斜め蒸着で得られる複屈折性誘電体層
に置き替えることにより偏光面に応じて所定の波長を選
択する干渉型偏光子として作用することを見出し本発明
を完成したものである。
以下、本発明の具体的な一実施例について図面に従って
説明する。
説明する。
本発明の構成による干渉型偏光子１は、第１図に示すよ
うにガラス基板２上に半透明の銀の薄膜からなる反射層
３，４と、二酸化チタンを斜めに入射させて蒸着するこ
とにより形成される複屈折層５を設けてなっている。す
なわち、上記ガラス基板２上に、先ず、銀を真空蒸着法
により厚さ約２００人に蒸着して反射層３を形成する。
うにガラス基板２上に半透明の銀の薄膜からなる反射層
３，４と、二酸化チタンを斜めに入射させて蒸着するこ
とにより形成される複屈折層５を設けてなっている。す
なわち、上記ガラス基板２上に、先ず、銀を真空蒸着法
により厚さ約２００人に蒸着して反射層３を形成する。
そして、この反射層３上に二酸化チタンを蒸着源とし、
蒸着入射角７５°で斜め蒸着し、厚さｄ″−１２３０Ｏ
Ａの複屈折層５が形成されている。さらに、上記複屈折
層５上に、再び銀を真空蒸着法により蒸着し、厚さ約２
００Ｘの反射層４が設けられている。
蒸着入射角７５°で斜め蒸着し、厚さｄ″−１２３０Ｏ
Ａの複屈折層５が形成されている。さらに、上記複屈折
層５上に、再び銀を真空蒸着法により蒸着し、厚さ約２
００Ｘの反射層４が設けられている。
このように構成される干渉型偏光子１は、複屈折層５の
厚さｄによる干渉作用により垂直方向の入射光に対して ２ｎｄ＝ｍλ ・・・・・・第１式なる第１式で
表わされる波長λの光のみを選択的に透過し、干渉フィ
ルタとして作用する。ここで、ｎは上記複屈折層５の屈
折率、ｍは整数を表わすものである。
厚さｄによる干渉作用により垂直方向の入射光に対して ２ｎｄ＝ｍλ ・・・・・・第１式なる第１式で
表わされる波長λの光のみを選択的に透過し、干渉フィ
ルタとして作用する。ここで、ｎは上記複屈折層５の屈
折率、ｍは整数を表わすものである。
ところで、上記複屈折層５の屈折率ｄは、入射光の偏光
面により異なった屈折率ｎ ｘ ｔ ｎ ｙとなる。
面により異なった屈折率ｎ ｘ ｔ ｎ ｙとなる。
すなわち、第２図に示すように基板１１に対して誘電材
料１２を入射角θで蒸着すると生成した蒸着膜１３は、
図中Ｘ方向の屈折率がＹ方向の屈折率よりも大きくなる
。この場合、上記蒸着膜１３を光がＺ方向に通過すると
き、光は位相速度の最も遅い振動方向、すなわちＸ方向
の直線偏光成分とそれに直角な位相速度の最も速い振動
方向、すなわちＹ方向の直線偏光成分に分れて進む。こ
のときの上記各直線偏光の間に生ずる光路長差「をリタ
ーデーションと称する。ここで、ｎＸ、ｎＹをそれぞれ
Ｘ方向、Ｙ方向に振動方向を持つ直線偏光成分に対する
屈折率、またＤを複屈折媒体、すなわち蒸着膜１３の厚
さとすると、上記リターデーション「は ｒ −（ｎｘ−口Ｙ） Ｄ 、、、、、、第２式な
る第２式で表わされる。
料１２を入射角θで蒸着すると生成した蒸着膜１３は、
図中Ｘ方向の屈折率がＹ方向の屈折率よりも大きくなる
。この場合、上記蒸着膜１３を光がＺ方向に通過すると
き、光は位相速度の最も遅い振動方向、すなわちＸ方向
の直線偏光成分とそれに直角な位相速度の最も速い振動
方向、すなわちＹ方向の直線偏光成分に分れて進む。こ
のときの上記各直線偏光の間に生ずる光路長差「をリタ
ーデーションと称する。ここで、ｎＸ、ｎＹをそれぞれ
Ｘ方向、Ｙ方向に振動方向を持つ直線偏光成分に対する
屈折率、またＤを複屈折媒体、すなわち蒸着膜１３の厚
さとすると、上記リターデーション「は ｒ −（ｎｘ−口Ｙ） Ｄ 、、、、、、第２式な
る第２式で表わされる。
上述の効果は、いわゆるセルフ・シャドウ効果によって
蒸着粒子の成長方向が規制され、粒子間のつながりが入
射面に垂直なＸ方向に比べてＹ方向では生じ難（、この
構造が光の波長に比べて十分小さいためにＸ方向の屈折
率ｎ ｘ ） Ｙ方向の屈折率ｎｙとなって複屈折が生
ずるものと考えられている。
蒸着粒子の成長方向が規制され、粒子間のつながりが入
射面に垂直なＸ方向に比べてＹ方向では生じ難（、この
構造が光の波長に比べて十分小さいためにＸ方向の屈折
率ｎ ｘ ） Ｙ方向の屈折率ｎｙとなって複屈折が生
ずるものと考えられている。
このため、上記干渉型偏光子１により透過される光の波
長は、第３図に示すように入射光の偏光面によって異な
っている。すなわち、Ｘ方向の偏光面を有する入射光に
対しては第３図中Ａで示すように波長が５８１ ｎｍの
光のみを透過し、Ｙ方向の偏光面を有する入射光に対し
ては第３図中Ｂで示すように波長が５７７ ｎｍの光の
みを透過するようになり、入射光の偏光面に応じて波長
選択性を生ずる。
長は、第３図に示すように入射光の偏光面によって異な
っている。すなわち、Ｘ方向の偏光面を有する入射光に
対しては第３図中Ａで示すように波長が５８１ ｎｍの
光のみを透過し、Ｙ方向の偏光面を有する入射光に対し
ては第３図中Ｂで示すように波長が５７７ ｎｍの光の
みを透過するようになり、入射光の偏光面に応じて波長
選択性を生ずる。
このように、上記実施例においては、干渉フィルタとし
ての作用を得ることができるとともに、入射光の偏光面
に応じて所定の波長を選択することができるという新規
な性質を得ることが可能となっている。
ての作用を得ることができるとともに、入射光の偏光面
に応じて所定の波長を選択することができるという新規
な性質を得ることが可能となっている。
さらに、上記実施例においては、垂直方向からの光に対
して使用することができ、小型化を図ることが可能とな
るとともに、構造も反射層３，４と複屈折層５のみから
成っているため簡単なものとなり、容易に製造すること
が可能となっている。
して使用することができ、小型化を図ることが可能とな
るとともに、構造も反射層３，４と複屈折層５のみから
成っているため簡単なものとなり、容易に製造すること
が可能となっている。
ところで、上述した干渉型偏光子１に用いられる複屈折
層５は、第４図の如き構成の蒸着装置２１を用いて誘電
体材料を斜め蒸着することにより得ることができるが、
得られる複屈折層５については後述する実施例１及び実
施例２に示すような実験データを得ている。
層５は、第４図の如き構成の蒸着装置２１を用いて誘電
体材料を斜め蒸着することにより得ることができるが、
得られる複屈折層５については後述する実施例１及び実
施例２に示すような実験データを得ている。
さらに、本発明は上記実施例に限定されるものではなく
、例えば、反射層３，４として銀の蒸着膜の替わりにい
わゆる誘電体ミラー（例えば硫化亜鉛とフッ化マグネシ
ウムを交互に積層し、これら各層の厚さを選択する透過
光の波長の１／４波長に相当する厚みとしたもの）を用
いた場合には吸収が少なく、透過光のバンド幅の小さい
干渉型偏光子を得ることができる。
、例えば、反射層３，４として銀の蒸着膜の替わりにい
わゆる誘電体ミラー（例えば硫化亜鉛とフッ化マグネシ
ウムを交互に積層し、これら各層の厚さを選択する透過
光の波長の１／４波長に相当する厚みとしたもの）を用
いた場合には吸収が少なく、透過光のバンド幅の小さい
干渉型偏光子を得ることができる。
さらにまた、例えば二酸化チタンと二酸化ケイ素を交互
に積層し、これら各層を同一人射面で斜め蒸着するとと
もに、各層の厚さを選択する反射光の波長の１／４波長
に相当する厚みとすることにより反射スペクトルが偏光
面によって変ることを特徴とする干渉型偏光子を得るこ
とができる。
に積層し、これら各層を同一人射面で斜め蒸着するとと
もに、各層の厚さを選択する反射光の波長の１／４波長
に相当する厚みとすることにより反射スペクトルが偏光
面によって変ることを特徴とする干渉型偏光子を得るこ
とができる。
実施例 １
上述した蒸着装置２１により、蒸着源２３に二酸化チタ
ン（ＴｉＯ２）を用い、この蒸着源２３を加熱手段２６
として電子ビームで局部的に加熱して蒸着を行なった。
ン（ＴｉＯ２）を用い、この蒸着源２３を加熱手段２６
として電子ビームで局部的に加熱して蒸着を行なった。
この蒸着装置２１を第４図に従って説明すると、蒸着装
置２１は図示しない排気ポンプにより内部を真空にされ
るベルジャ２２、各種蒸着材料を蒸発する蒸着源２３及
び上記蒸着源２３からの蒸気の方向に対して角度を変位
可能に設けられる基板取付は部２４から構成されている
。上記蒸着源２３には各種蒸着材料を蒸発させるための
加熱手段２６が設けられている。この加熱手段２６は蒸
着源２３０種類によって、例えばタングステン等に電流
を流して加熱したり、電子ビームやレーザビーム、赤外
線等を用いて局部的に加熱したりするものである。また
、ベルジヤ２２内部は図示しない排気ポンプによって脱
気され” ’ｉｍＨｇ以下（１０’Ｔｏｒｒ以下）の真
空度となっている。さらに、上記取付は基板２４の一側
面には蒸着されるガラス板等の基板２５が取付けられ、
該基板２５表面が蒸着源２３と角度θをなすように対向
されている。
置２１は図示しない排気ポンプにより内部を真空にされ
るベルジャ２２、各種蒸着材料を蒸発する蒸着源２３及
び上記蒸着源２３からの蒸気の方向に対して角度を変位
可能に設けられる基板取付は部２４から構成されている
。上記蒸着源２３には各種蒸着材料を蒸発させるための
加熱手段２６が設けられている。この加熱手段２６は蒸
着源２３０種類によって、例えばタングステン等に電流
を流して加熱したり、電子ビームやレーザビーム、赤外
線等を用いて局部的に加熱したりするものである。また
、ベルジヤ２２内部は図示しない排気ポンプによって脱
気され” ’ｉｍＨｇ以下（１０’Ｔｏｒｒ以下）の真
空度となっている。さらに、上記取付は基板２４の一側
面には蒸着されるガラス板等の基板２５が取付けられ、
該基板２５表面が蒸着源２３と角度θをなすように対向
されている。
したがって、上記蒸着源２３を加熱して蒸着材料を蒸発
させると、発生した蒸気が真空雰囲気中であるために直
線的に上昇し、上記基板２．５表面の垂直方向に対して
角度θ方向から、すなわち蒸着入射角θで付着する。
させると、発生した蒸気が真空雰囲気中であるために直
線的に上昇し、上記基板２．５表面の垂直方向に対して
角度θ方向から、すなわち蒸着入射角θで付着する。
このとき、蒸着入射角θを変化させて得られた蒸着膜の
膜厚り及びリターデーション「を測定した。ここで、膜
厚りは、触針式膜厚計を用いて測定シ、リターデーショ
ンロは、ベレクコンペンセータを用いて測定した。
膜厚り及びリターデーション「を測定した。ここで、膜
厚りは、触針式膜厚計を用いて測定シ、リターデーショ
ンロは、ベレクコンペンセータを用いて測定した。
蒸着入射角θおよび測定された膜厚Ｄ１リターデーショ
ンρは第１表のとおりである。なお、△ｎは膜厚り及び
リターデーション「より計算される（ｎＸ−ｎＹ）の値
である。
ンρは第１表のとおりである。なお、△ｎは膜厚り及び
リターデーション「より計算される（ｎＸ−ｎＹ）の値
である。
第 １ 表
実施例 ２
蒸着装置２１により、蒸着源２３に各種誘電体材料を用
い、この蒸着源２３を各種加熱手段２６により加熱して
基板２５上に蒸着を行なった。このとき、蒸着入射角θ
を７５°とし、上記蒸着源２３に用いる誘電体材料を変
えて得られた蒸着膜の膜厚り及びリターデーション「を
測定した。
い、この蒸着源２３を各種加熱手段２６により加熱して
基板２５上に蒸着を行なった。このとき、蒸着入射角θ
を７５°とし、上記蒸着源２３に用いる誘電体材料を変
えて得られた蒸着膜の膜厚り及びリターデーション「を
測定した。
使用した誘電体材料、蒸着源の加熱手段及び測定された
膜厚り、ＩＪタープ−ジョンｆ１は第２表のとおりであ
る。第２表の加熱手段の欄で、Ｔａとあるのはタンタル
ボード中に蒸着源を入れ、このタンタルボードに電流を
流して加熱するもの、Ｗとあるのはアルミナ（Ａ１２０
ｓ）でコートされたバスケツタ型のタングステンヒータ
を用いて加熱するもの、ＥＢとあるのは電子ビームで局
部的に加熱するものをそれぞれ表わしている。
膜厚り、ＩＪタープ−ジョンｆ１は第２表のとおりであ
る。第２表の加熱手段の欄で、Ｔａとあるのはタンタル
ボード中に蒸着源を入れ、このタンタルボードに電流を
流して加熱するもの、Ｗとあるのはアルミナ（Ａ１２０
ｓ）でコートされたバスケツタ型のタングステンヒータ
を用いて加熱するもの、ＥＢとあるのは電子ビームで局
部的に加熱するものをそれぞれ表わしている。
第 ２ 表
注） ５ｕｂｓｔａｎｃｅ−１は酸化ジルコニウム（Ｚ
ｒ０２）と四酸化チタンジルコニウム（ＺｒＴｉ０４）
の混合焼成体である。
ｒ０２）と四酸化チタンジルコニウム（ＺｒＴｉ０４）
の混合焼成体である。
上述した実施例の説明からも明らかなように、本発明に
おいては干渉フィルタとしての波長選択性を有するとと
もに、入射光の偏光面に応じて偏光面のそろった所定の
波長の光を透過させるという新規な性質を得ることがで
きる。
おいては干渉フィルタとしての波長選択性を有するとと
もに、入射光の偏光面に応じて偏光面のそろった所定の
波長の光を透過させるという新規な性質を得ることがで
きる。
さらに、本発明においては、垂直方向の入射光に対して
使用することができ、光学機器内での占有空間を小さく
することができる。
使用することができ、光学機器内での占有空間を小さく
することができる。
さらにまた、本発明においては、構造の簡単な干渉型偏
光子を得ることができ、その製造も非常に容易なものと
なっている。
光子を得ることができ、その製造も非常に容易なものと
なっている。
第１図は本発明を適用した干渉型偏光子の一実施例を示
す要部縦断面図、第２図は斜め蒸着により得られる複屈
折板を示す模式図、第３図は干渉型偏光子により得られ
る透過光の吸収スペクトルを示す記録チャート、第４図
は蒸着装置を示す概略側面図である。 １・・・干渉型偏光子 ２・・・ガラス基板 ３．４・・・反射層 ５・・・複屈折層 手続補正書輸発） 昭和 ５弊 ４月 １４日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５７年 特許願第２０８０６３号 ２、発明の名称 干渉型偏光子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所東京部品用区北品用６丁目７番３５号氏名（２１
ｇ）ソニー株式会社 （名称） 代表者 大 賀 典 雄 ４、代理人 〒１０５ 第２表 （以上） 手続補正書（方式） 昭和５８年４月１４０ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５７年 特許願第２０８０６３号 ２、発明の名称 干渉型偏光子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京部品用区北品用６丁目７番３５号氏名（２
１８）ソニー株式会社 銘 称） 代表者 大 賀 典 雄４、代
理 人 〒１０５ 住 所 東京都港区虎ノ門二丁目６番４号６、補正の対
象 蒸着膜の膜厚り及びリターデーションρを測定した。こ
こで、膜厚りは、触針式膜厚計を用いて測定し、リター
デーション「は、ベレクコンペンセータを用いて測定し
た。 蒸着入射角θおよび測定された膜厚Ｄ、リターデーショ
ンＰは第１表のとおりである。なお、Δｎは膜厚り及び
リターデーション「より計算される（ ｎＸ−ｎｙ ）
の値である。 第１表 １１− 第２表 注） ５ｕｂｓｔａｎｃｅ−１は酸化ジルコニウム（
Ｚｒ（ｈ）と四酸化チタンジルコニウム（ＺｒＴｉＯａ
）の混合焼成体である。 〔発明の効果〕
す要部縦断面図、第２図は斜め蒸着により得られる複屈
折板を示す模式図、第３図は干渉型偏光子により得られ
る透過光の吸収スペクトルを示す記録チャート、第４図
は蒸着装置を示す概略側面図である。 １・・・干渉型偏光子 ２・・・ガラス基板 ３．４・・・反射層 ５・・・複屈折層 手続補正書輸発） 昭和 ５弊 ４月 １４日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５７年 特許願第２０８０６３号 ２、発明の名称 干渉型偏光子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所東京部品用区北品用６丁目７番３５号氏名（２１
ｇ）ソニー株式会社 （名称） 代表者 大 賀 典 雄 ４、代理人 〒１０５ 第２表 （以上） 手続補正書（方式） 昭和５８年４月１４０ 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５７年 特許願第２０８０６３号 ２、発明の名称 干渉型偏光子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京部品用区北品用６丁目７番３５号氏名（２
１８）ソニー株式会社 銘 称） 代表者 大 賀 典 雄４、代
理 人 〒１０５ 住 所 東京都港区虎ノ門二丁目６番４号６、補正の対
象 蒸着膜の膜厚り及びリターデーションρを測定した。こ
こで、膜厚りは、触針式膜厚計を用いて測定し、リター
デーション「は、ベレクコンペンセータを用いて測定し
た。 蒸着入射角θおよび測定された膜厚Ｄ、リターデーショ
ンＰは第１表のとおりである。なお、Δｎは膜厚り及び
リターデーション「より計算される（ ｎＸ−ｎｙ ）
の値である。 第１表 １１− 第２表 注） ５ｕｂｓｔａｎｃｅ−１は酸化ジルコニウム（
Ｚｒ（ｈ）と四酸化チタンジルコニウム（ＺｒＴｉＯａ
）の混合焼成体である。 〔発明の効果〕
Claims (1)
- ２ｎｄ＝ｍλなる厚みを有し、誘電体材料を基板に対し
て斜めに入射させて蒸着することにより形成した複屈折
層の両面に、反射層を設けてなり、偏光面に応じて所定
の波長を選択することを特徴とする干渉型偏光子。ただ
し、λは透過光の波長、ｍは整数、ｎは複屈折層の屈折
率、ｄは複屈折層の厚みを表わすものである。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20806382A JPS5997105A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 干渉型偏光子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20806382A JPS5997105A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 干渉型偏光子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5997105A true JPS5997105A (ja) | 1984-06-04 |
Family
ID=16550024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20806382A Pending JPS5997105A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 干渉型偏光子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5997105A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63205610A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Toyota Motor Corp | 複屈折板の製造方法 |
| US4813768A (en) * | 1986-11-04 | 1989-03-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having an oblique evaporation film which is protected by a protective layer |
| JPH02165105A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Fujitsu Ltd | 偏光子 |
| WO1994028445A3 (de) * | 1993-05-22 | 1995-01-26 | Andreas Biedermann | Variables farbfilter |
-
1982
- 1982-11-27 JP JP20806382A patent/JPS5997105A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4813768A (en) * | 1986-11-04 | 1989-03-21 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having an oblique evaporation film which is protected by a protective layer |
| JPS63205610A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Toyota Motor Corp | 複屈折板の製造方法 |
| JPH02165105A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-26 | Fujitsu Ltd | 偏光子 |
| WO1994028445A3 (de) * | 1993-05-22 | 1995-01-26 | Andreas Biedermann | Variables farbfilter |
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