JPS5998376A - 磁気記憶素子 - Google Patents
磁気記憶素子Info
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- JPS5998376A JPS5998376A JP57207009A JP20700982A JPS5998376A JP S5998376 A JPS5998376 A JP S5998376A JP 57207009 A JP57207009 A JP 57207009A JP 20700982 A JP20700982 A JP 20700982A JP S5998376 A JPS5998376 A JP S5998376A
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- vbl
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする強磁性
体膜に形成されるストライプドメインの境界を形成する
ブロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホ
ラインを記憶単位として用いた新規な磁気記憶素子であ
って、ブロッホ磁壁の中に制御性よく垂直プロッホライ
ンを書き込む手段を有する磁気記憶素子に関するもので
ある。
体膜に形成されるストライプドメインの境界を形成する
ブロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂直プロッホ
ラインを記憶単位として用いた新規な磁気記憶素子であ
って、ブロッホ磁壁の中に制御性よく垂直プロッホライ
ンを書き込む手段を有する磁気記憶素子に関するもので
ある。
磁気バブル素子の開発は高密度化を月相して各所でパー
マロイデバイス、イオン注入コンティギーアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行われている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォトリングラフイー技術にあるといわれ
てきた。
マロイデバイス、イオン注入コンティギーアスディスク
デバイス、電流駆動デバイスおよびこれらを組合せたい
わゆる混成型デバイスについて盛んに行われている。こ
れらのデバイスの高密度化の限界は、バブル転送路を形
成するためのフォトリングラフイー技術にあるといわれ
てきた。
しかし、近年、その技術が長足に進歩してきた。
その結果、高密度化のための材料すなわち、バブル径を
どこまで小さくできるかが問題視されるようになってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は0.3μmといわれている。したがっ
て、0.3μm径以下のバブルを保持するバブル材料は
ガーネット材料以外に求めなければならない。これは容
易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であるとさえ
考えられている。
どこまで小さくできるかが問題視されるようになってき
た。現在使用されているガーネット材料では、到達可能
な最小バブル径は0.3μmといわれている。したがっ
て、0.3μm径以下のバブルを保持するバブル材料は
ガーネット材料以外に求めなければならない。これは容
易ではなく、ここがバブル高密度化の限界であるとさえ
考えられている。
一方、このようなバブル保持層の特性に基く高密度化限
界を大幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子
と同程度に保つことができる、新たな記憶素子が提案さ
れている。この磁気記憶素子は情報読出し手段と情報書
込み手段と情報蓄積手段を備えて、膜面に垂直な方向を
磁化容易方向とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む
)に存在するストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁
の中に作った相隣合う垂直プロッホライン対を記憶情報
単位として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁壁
内で転送する手段を有することを特徴とする。この素子
構成をメジャーマイナー構成とする場合、メジャーライ
ンでは従来通りノくプルドメインを情報単位とし、マイ
ナーループをストライプドメインで構成し、その周辺の
ブロッホ磁壁内に存在する垂直プロッホライン(以下V
BLという。)を情報単位とする。
界を大幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子
と同程度に保つことができる、新たな記憶素子が提案さ
れている。この磁気記憶素子は情報読出し手段と情報書
込み手段と情報蓄積手段を備えて、膜面に垂直な方向を
磁化容易方向とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む
)に存在するストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁
の中に作った相隣合う垂直プロッホライン対を記憶情報
単位として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁壁
内で転送する手段を有することを特徴とする。この素子
構成をメジャーマイナー構成とする場合、メジャーライ
ンでは従来通りノくプルドメインを情報単位とし、マイ
ナーループをストライプドメインで構成し、その周辺の
ブロッホ磁壁内に存在する垂直プロッホライン(以下V
BLという。)を情報単位とする。
全体の情報の流れを示すと、まず、発生器で書込まれた
情報(バブルの有無)は書込みメジャーラインを上から
下−1移動する。この情報をマイナーループへ記憶させ
るために、バブルの有無で示されたメジャーライン上の
情報をマイナーループへVBLの形でトランスファーで
きるように、マイナーループをVHLを保持できるブロ
ッホ磁壁で構成することが本発明の特徴であり、記憶容
量の飛躍的向上の重要なカギになっている。書込みライ
ントランスファーゲートにより、マイナーループにトラ
ンスファーされた情報(VBL)はマイナーループを構
成するストライプドメイン磁壁土を移動させることがで
きる。マイナーループから読出しメジャーラインへの情
報トランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う。
情報(バブルの有無)は書込みメジャーラインを上から
下−1移動する。この情報をマイナーループへ記憶させ
るために、バブルの有無で示されたメジャーライン上の
情報をマイナーループへVBLの形でトランスファーで
きるように、マイナーループをVHLを保持できるブロ
ッホ磁壁で構成することが本発明の特徴であり、記憶容
量の飛躍的向上の重要なカギになっている。書込みライ
ントランスファーゲートにより、マイナーループにトラ
ンスファーされた情報(VBL)はマイナーループを構
成するストライプドメイン磁壁土を移動させることがで
きる。マイナーループから読出しメジャーラインへの情
報トランスファーはVBLからバブルへの変換を伴う。
なお、この読出しトランスファーゲートはブロックレプ
リケータ機能も合せ持っている。
リケータ機能も合せ持っている。
このようにマイナーループをバブル材料に存在するスト
ライプドメインで構成し、マイナーループ上での情報単
位としてバブルドメインの代りにVBL を用いること
により、従来のバブルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
ライプドメインで構成し、マイナーループ上での情報単
位としてバブルドメインの代りにVBL を用いること
により、従来のバブルドメインを用いた素子に比較して
約2桁の記憶密度向上を達成できる。
この素子の構成例をさらに詳しく説明する。
メジャーラインは書込み、読出しともに電流駆動方式を
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成する。
採用している。4本の平行コンダクタ−からなる書込み
トランスファーゲートはメジャーライン上のバブルとマ
イナーループを構成する。
ストライプドメインヘッドとの相互作用を用いている。
メジャーライン上にバブルドメインがあると、それにつ
ながるマイナーループを構成しているストライプドメイ
ンのヘッドはバブルとストライプドメインとの反発相互
作用のため、バブルから遠ざかることを利用している。
ながるマイナーループを構成しているストライプドメイ
ンのヘッドはバブルとストライプドメインとの反発相互
作用のため、バブルから遠ざかることを利用している。
書込みメジャーラインにバブルがないとき、マイナール
ープのストライプドメイン磁壁にVBLを書込む。VB
Lをストライプドメインヘッドに作る手段として、スト
ライプドメインヘッドをそれに接するコンダクタ−パタ
ーンにパルス電流を与えることにより、ダイナミックに
移動させ、ヘッド部磁壁をダイナミックコンバージョン
させることを利用している。
ープのストライプドメイン磁壁にVBLを書込む。VB
Lをストライプドメインヘッドに作る手段として、スト
ライプドメインヘッドをそれに接するコンダクタ−パタ
ーンにパルス電流を与えることにより、ダイナミックに
移動させ、ヘッド部磁壁をダイナミックコンバージョン
させることを利用している。
この方法で、VBLが2つできるが、これらは互いに性
質が異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化で
きるようにストライプドメインの長手方向に面内磁界を
加え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によ
ってストライプドメインヘッドを切離すことにより、ス
トライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。
質が異なり、再結合しやすい。そこで、情報を安定化で
きるようにストライプドメインの長手方向に面内磁界を
加え、ストライプドメイン側の2本のコンダクタ−によ
ってストライプドメインヘッドを切離すことにより、ス
トライプドメイン中に2つの同じ性質のVBLを作る。
同じ性質のVBLは互いに近づいても安定に存在する。
メジャーラインにバブルが存在しているところに対応す
るマイナールーズのストライプドメインヘッドはバブル
との反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから離
れているため、VBLは形成されない。結果的にメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
ない状態としてトランスファーしたことになる。マイナ
ーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトとして
情報が記憶される。レプリケータ−作用の安定性を考え
て□VBL 対を使っている。マイナーループ内のビッ
ト周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビツ
トずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。−
例として、上記マイナーループを構成するストライプド
メイン上にストライプドメインの長手方向に直角方向に
VBL間の安定間隔Soの2倍の周期で、幅S0のパー
マロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行細
線の両側に誘起される磁性とVBLとの相互作用を利用
している。VBLのマイナールーズに沿っての転送は一
つの方法として、ストライプドメインにパルスバイアス
磁界を加えてダイナミックに行なった。
るマイナールーズのストライプドメインヘッドはバブル
との反発作用のため、上記コンダクタ−パターンから離
れているため、VBLは形成されない。結果的にメジャ
ーラインの情報′1“をマイナーループ内にVBL対が
ない状態としてトランスファーしたことになる。マイナ
ーループ内では性質が同じVBLの対を1ビツトとして
情報が記憶される。レプリケータ−作用の安定性を考え
て□VBL 対を使っている。マイナーループ内のビッ
ト周期つまり、VBL間隔を一定に保つように、1ビツ
トずつ逐次転送できるように転送パターンをつける。−
例として、上記マイナーループを構成するストライプド
メイン上にストライプドメインの長手方向に直角方向に
VBL間の安定間隔Soの2倍の周期で、幅S0のパー
マロイ薄膜で作った平行細線パターンを形成し、平行細
線の両側に誘起される磁性とVBLとの相互作用を利用
している。VBLのマイナールーズに沿っての転送は一
つの方法として、ストライプドメインにパルスバイアス
磁界を加えてダイナミックに行なった。
3本の平行コンダクタ−からなる読出しトランスファー
ゲートはマイナーループを形成しているストライプドメ
イン磁壁にVBLとして記憶されている情報をバブルに
変換してメジャーラインにトランスファーアウトし、か
つ、マイナーループ上の情報が破壊されないようにする
レプリケータ−の働きも兼備えている。動作原理を説明
する。
ゲートはマイナーループを形成しているストライプドメ
イン磁壁にVBLとして記憶されている情報をバブルに
変換してメジャーラインにトランスファーアウトし、か
つ、マイナーループ上の情報が破壊されないようにする
レプリケータ−の働きも兼備えている。動作原理を説明
する。
VBL 対で形成される1ビツトの片割れを例えば、面
内磁界を加えてストライプドメインヘッドに固定する。
内磁界を加えてストライプドメインヘッドに固定する。
その後コンダクタ−パターンを用いて、このストライプ
ドメインヘッドを切りとり、バブルにする。そうすると
、バブルを切りとった後のストライプドメインヘッドに
は切りとったVBLと同じVBLが構成される。このよ
うなVBLのレプリケート作用はマイナス符号のVBL
に対してのみ生じる。マイナーループのストライプドメ
インヘッドから切りとられたバブルはメジャーライン上
を検出器に向けて転送される。ここではストライプドメ
インヘッドにVBLがある場合とない場合とでストライ
プドメインヘッドを切りとる。
ドメインヘッドを切りとり、バブルにする。そうすると
、バブルを切りとった後のストライプドメインヘッドに
は切りとったVBLと同じVBLが構成される。このよ
うなVBLのレプリケート作用はマイナス符号のVBL
に対してのみ生じる。マイナーループのストライプドメ
インヘッドから切りとられたバブルはメジャーライン上
を検出器に向けて転送される。ここではストライプドメ
インヘッドにVBLがある場合とない場合とでストライ
プドメインヘッドを切りとる。
パルス電流値が異なることを利用している。ストライプ
ドメインヘッドにVBLがない場合は切れにくい。した
がって、ストライプドメインへ、ドにVBLがある場合
はメジャーラインにバブルを送り込めるが、VBLがな
い場合はバブルはない。
ドメインヘッドにVBLがない場合は切れにくい。した
がって、ストライプドメインへ、ドにVBLがある場合
はメジャーラインにバブルを送り込めるが、VBLがな
い場合はバブルはない。
つまり、マイナーループ上のVBLの有無(i、o)は
読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換されて
いる。
読出しメジャーライン上ではバブルの有無に変換されて
いる。
VBL 対の消去法について述べる。消去したいVBL
対を書込みメジャーライン側のマイナーループのスト
ライプドメインヘッドの最近接位置に3く。次に面内磁
界Hipを加えて、消去したいVBL対と、そのとなり
のVBL対の片割れをストライプドメインヘッドにもっ
てきて、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるた
めに用いた平行コンダクタ−を使ってストライプドメイ
ンヘッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあと
のストライプドメインヘッドには、消去したいVBL対
と共にもってきたVBLがレプリケートされる。結局、
消去したいVBL対のみが消去されることになる。なお
、マイナーループ全体をクリアする場合は予め、バイア
ス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦消去し
たあと、S二1バブルからマイナーループスドライブド
メインを形成することにより、VBLが全熱ない全ビッ
ト。
対を書込みメジャーライン側のマイナーループのスト
ライプドメインヘッドの最近接位置に3く。次に面内磁
界Hipを加えて、消去したいVBL対と、そのとなり
のVBL対の片割れをストライプドメインヘッドにもっ
てきて、情報書込みの際、プラスのVBLを切りとるた
めに用いた平行コンダクタ−を使ってストライプドメイ
ンヘッドを切りとる。バブルドメインを切りとったあと
のストライプドメインヘッドには、消去したいVBL対
と共にもってきたVBLがレプリケートされる。結局、
消去したいVBL対のみが消去されることになる。なお
、マイナーループ全体をクリアする場合は予め、バイア
ス磁界を上げて全部のストライプドメインを一旦消去し
たあと、S二1バブルからマイナーループスドライブド
メインを形成することにより、VBLが全熱ない全ビッ
ト。
零の状態を作ることができる。
以上のような磁気記憶素子に於いては、情報を制御性よ
(書き込むことが必須要件である。すなわち、ストライ
プ磁区のブロッホ磁壁内に前記のVBL対を制御性よく
曹き込むことがVBLを記憶情報単位とする磁気記憶素
子には必要不可欠である。
(書き込むことが必須要件である。すなわち、ストライ
プ磁区のブロッホ磁壁内に前記のVBL対を制御性よく
曹き込むことがVBLを記憶情報単位とする磁気記憶素
子には必要不可欠である。
本発明は、上記の如きVH2,対を記憶情報単位とする
磁気記憶素子において、前述の構成例とは異なり磁気バ
ブルがあるときに対応してストライプドメインのブロッ
ホ磁壁にVBL対を記憶情報として制御性よく書き込む
手段をもつ磁気記憶素子を与えるものである。
磁気記憶素子において、前述の構成例とは異なり磁気バ
ブルがあるときに対応してストライプドメインのブロッ
ホ磁壁にVBL対を記憶情報として制御性よく書き込む
手段をもつ磁気記憶素子を与えるものである。
すなわち、本発明は情報読出し手段と情報書込み手段と
情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方向
とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む)に存在する
ストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁の中に作った
相隣合う2つの垂直プロッホラインからなる垂直プロッ
ホライン対を記憶情報単位として用い、該垂直プロッホ
ラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を有することを
特徴とする磁気記憶素子において、単一回転磁化の磁壁
構造をもつ磁気バブル情報発生手段と、該情報発生手段
と接続し、しかも該ストライプドメイン近傍に設けられ
た磁気バブル転送路と、該転送路から前記ストライプド
メイン先端部近傍まで磁気バブルを移送する手段と、磁
気バブルを該ストライプドメイン先端部近傍に保持する
手段と、該ストライプドメイン先端部とその近傍の磁気
バフルニハルスバイアス磁界を印加せしめる手段とを有
することを特徴とする磁気記憶素子である。
情報蓄積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方向
とする強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む)に存在する
ストライプドメインの周辺のブロッホ磁壁の中に作った
相隣合う2つの垂直プロッホラインからなる垂直プロッ
ホライン対を記憶情報単位として用い、該垂直プロッホ
ラインをブロッホ磁壁内で転送する手段を有することを
特徴とする磁気記憶素子において、単一回転磁化の磁壁
構造をもつ磁気バブル情報発生手段と、該情報発生手段
と接続し、しかも該ストライプドメイン近傍に設けられ
た磁気バブル転送路と、該転送路から前記ストライプド
メイン先端部近傍まで磁気バブルを移送する手段と、磁
気バブルを該ストライプドメイン先端部近傍に保持する
手段と、該ストライプドメイン先端部とその近傍の磁気
バフルニハルスバイアス磁界を印加せしめる手段とを有
することを特徴とする磁気記憶素子である。
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明の素子の実施例を示す構成図である。磁
気バブルを保持し得る膜面に垂直な磁化容易方向を持つ
強磁性体薄膜1を媒体とし、記憶情報をブロッホ磁壁2
2内の垂直プロッホライン対45として貯えるストライ
プ状磁区2と、単−回転磁化磁壁構造をもつ磁気バブル
情報発生手段8と、ストライプ状磁区の長手方向にほぼ
垂直に、該ストライプ磁区近傍に設けた前記発生手段に
つながる磁気バブル転送路7と、該磁気バブル転送路か
ら前記ストライプ状磁区の先端部に前記情報磁気バブル
を移送する手段9と、前記ストライプ状磁区先端部冴の
近傍に前記磁気バブルを保持する手段3′と、前記所定
の位置にパルスバイアス磁場を発生する手段3を持つこ
とを特徴とする。
気バブルを保持し得る膜面に垂直な磁化容易方向を持つ
強磁性体薄膜1を媒体とし、記憶情報をブロッホ磁壁2
2内の垂直プロッホライン対45として貯えるストライ
プ状磁区2と、単−回転磁化磁壁構造をもつ磁気バブル
情報発生手段8と、ストライプ状磁区の長手方向にほぼ
垂直に、該ストライプ磁区近傍に設けた前記発生手段に
つながる磁気バブル転送路7と、該磁気バブル転送路か
ら前記ストライプ状磁区の先端部に前記情報磁気バブル
を移送する手段9と、前記ストライプ状磁区先端部冴の
近傍に前記磁気バブルを保持する手段3′と、前記所定
の位置にパルスバイアス磁場を発生する手段3を持つこ
とを特徴とする。
第2図は本発明に係るVBL対をストライプドメインの
ブロッホ磁壁に書き込む手段を示す図である。本発明の
VBL対書き込みは次の通りに行なわれる。
ブロッホ磁壁に書き込む手段を示す図である。本発明の
VBL対書き込みは次の通りに行なわれる。
第2図(A)で示すが如(VBL対を情報単位として貯
え得るブロッホ磁壁22をもつストライプドメイン2の
先端部Uの磁壁内磁化方向は矢印40で示す向きである
。このストライプドメイン先端部列の近傍に、磁壁51
内の磁化方向が矢印40と逆向きの矢印50で示される
単一回転磁化の磁壁構造をもつ磁気バブル5を配し、ス
トライプドメイン先端部Uと磁気バブル5を囲む様に局
所的パルスバイアス磁場印加手段31が設けられている
。書き込み手段でのパルスバイアス磁場印加手段31は
ヘアピン状導体バタンであり、これは又、ストライプド
メイン先端部Uと近傍の磁気バブルの位置がずれない様
に設定するチャネルにもなっている。
え得るブロッホ磁壁22をもつストライプドメイン2の
先端部Uの磁壁内磁化方向は矢印40で示す向きである
。このストライプドメイン先端部列の近傍に、磁壁51
内の磁化方向が矢印40と逆向きの矢印50で示される
単一回転磁化の磁壁構造をもつ磁気バブル5を配し、ス
トライプドメイン先端部Uと磁気バブル5を囲む様に局
所的パルスバイアス磁場印加手段31が設けられている
。書き込み手段でのパルスバイアス磁場印加手段31は
ヘアピン状導体バタンであり、これは又、ストライプド
メイン先端部Uと近傍の磁気バブルの位置がずれない様
に設定するチャネルにもなっている。
ストライプドメインのブロッホ磁壁22にVBL対を書
き込むには次の様に行なう。パルスバイアス磁場印加手
段であるヘアピン導体31に第2図(B)に示す矢印3
2の方向に電流を印加する。ヘアピン導体に囲まれる部
分6には矢印21で示す方向のバイアス磁場が発生し、
磁気バブル及びストライプドメインは拡がろうとする。
き込むには次の様に行なう。パルスバイアス磁場印加手
段であるヘアピン導体31に第2図(B)に示す矢印3
2の方向に電流を印加する。ヘアピン導体に囲まれる部
分6には矢印21で示す方向のバイアス磁場が発生し、
磁気バブル及びストライプドメインは拡がろうとする。
しかし、導体31は又位置固定チャネルでもあるので、
夫々の磁区はヘアピン外へは拡がれずストライプドメイ
ンの先端部分24及び磁気バブルはヘアピン部分6内で
互に近づき52で示す様に互の磁壁51 、22が接す
る。磁壁の接した接合部分52では夫々の磁壁に対して
ストライプドメイン先端部列の磁区内外での磁化の回転
と、磁気バブル5の内外での磁化回転とは互に逆方向の
回転であるため、磁化の回転が容易に解け、接合部分5
2の磁壁は第2図(C)に示す様に消滅し、一つのスト
ライプドメインに融合する。
夫々の磁区はヘアピン外へは拡がれずストライプドメイ
ンの先端部分24及び磁気バブルはヘアピン部分6内で
互に近づき52で示す様に互の磁壁51 、22が接す
る。磁壁の接した接合部分52では夫々の磁壁に対して
ストライプドメイン先端部列の磁区内外での磁化の回転
と、磁気バブル5の内外での磁化回転とは互に逆方向の
回転であるため、磁化の回転が容易に解け、接合部分5
2の磁壁は第2図(C)に示す様に消滅し、一つのスト
ライプドメインに融合する。
しかし、磁壁の構造は、始めの各磁壁中心の磁化方向4
0及び51を反映して、接合部分52に対応するブロッ
ホ磁壁22に、磁壁中心の磁化方向が41゜42.40
’と回転した正値性をもつVBL 42と、41゜43
.40“と回転した負磁性をもつVBL43が生じる。
0及び51を反映して、接合部分52に対応するブロッ
ホ磁壁22に、磁壁中心の磁化方向が41゜42.40
’と回転した正値性をもつVBL 42と、41゜43
.40“と回転した負磁性をもつVBL43が生じる。
パルスバイアス磁場印加用の電流32を停止するとji
g 2 図(J)Hニ示ス様VBL 42 、 VBL
43 (D異ナル磁性が吸引し合い安定なVBL対4
対陽5成される。
g 2 図(J)Hニ示ス様VBL 42 、 VBL
43 (D異ナル磁性が吸引し合い安定なVBL対4
対陽5成される。
即ち、ストライプ状磁区2のブロッホ磁壁22に記憶情
報単位のVBL対が書き込まれる。
報単位のVBL対が書き込まれる。
磁気記憶素子としては、複数のストライプドメインの磁
壁に記憶情報に応じて制御性よ(VBL対を書き込むこ
とが必要となる。このためには、ストライプドメイン先
端部に、単一回転磁化磁壁構造の磁気バブルを記憶情報
に応じて発生、転送する手段が必須となる。次に実施例
を用いて発生転送手段を説明する。
壁に記憶情報に応じて制御性よ(VBL対を書き込むこ
とが必要となる。このためには、ストライプドメイン先
端部に、単一回転磁化磁壁構造の磁気バブルを記憶情報
に応じて発生、転送する手段が必須となる。次に実施例
を用いて発生転送手段を説明する。
第3図は本発明に係る磁気バブル発生転送手段の第1の
実施例である。本実施例では、磁気バブル転送手段とし
て面内磁場Hn70の回転により順次磁化する軟磁性体
バタン列73を用いている。軟磁性体バタン列としては
、すでに公知である1゛−ba rl シェブロン、
非対称シェブロン、ハーフディスク、Y−Y型等のいづ
れを用いても磁気バブル転送路7を形成することが出来
る。情報としての磁気バブルは、前記転送路中に設けた
ニー−クリニーシロン(核化)型磁気バブル発生手段8
1によって選択的に発生させる。本実施例ではバブル発
生手段81はヘアピン状導体バタンで構成する。
実施例である。本実施例では、磁気バブル転送手段とし
て面内磁場Hn70の回転により順次磁化する軟磁性体
バタン列73を用いている。軟磁性体バタン列としては
、すでに公知である1゛−ba rl シェブロン、
非対称シェブロン、ハーフディスク、Y−Y型等のいづ
れを用いても磁気バブル転送路7を形成することが出来
る。情報としての磁気バブルは、前記転送路中に設けた
ニー−クリニーシロン(核化)型磁気バブル発生手段8
1によって選択的に発生させる。本実施例ではバブル発
生手段81はヘアピン状導体バタンで構成する。
核化発生した磁気バブル5の磁壁構造は必ずしも単一回
転磁化磁壁構造であるとは限らない。本発明のVBL対
注入方法を適用するには磁気バブル5の磁壁構造を単一
回転磁化構造に整える必要がある。このために、転送路
7の途中に磁壁調整手段80を設けておく。磁壁調整手
段80は、次の様に構成される。局部的面内磁場発生手
段80a(これは軟磁性体バタン73からの漏洩磁場若
しくは面内回転磁場を用いる)及びパルスバイアス磁場
発生手段80c(ヘアピン導体バタンを用いる)並びに
、イオン注入若しくは交換相互作用で軟磁性材料表面で
結合した面内磁化膜部分80bから構成されている。
転磁化磁壁構造であるとは限らない。本発明のVBL対
注入方法を適用するには磁気バブル5の磁壁構造を単一
回転磁化構造に整える必要がある。このために、転送路
7の途中に磁壁調整手段80を設けておく。磁壁調整手
段80は、次の様に構成される。局部的面内磁場発生手
段80a(これは軟磁性体バタン73からの漏洩磁場若
しくは面内回転磁場を用いる)及びパルスバイアス磁場
発生手段80c(ヘアピン導体バタンを用いる)並びに
、イオン注入若しくは交換相互作用で軟磁性材料表面で
結合した面内磁化膜部分80bから構成されている。
磁壁構造を単一回転磁化に調整するには次の様に行なう
。まず任意の磁壁構造の磁気バブル5′を磁壁調整手段
(資)に転送する。次に書き込み制御部12の制御によ
り面内磁場印加の下でパルスバイアス磁場を該磁気バブ
ルに印加する。すると該磁気バブルの磁壁構造はすでに
公知の様にVBLを2本もつσヤ若しくはσ−に変換す
る。次に面内磁場をOにしてパルスバイアス磁場を印加
するとσヤもしくはσ−状態の磁気バブルは単一回転磁
化磁壁構造のχ十若しくはχ−バブルになるχ+とχ−
は磁壁内磁化方向が異っている。次に短かいパルスバイ
アス磁場を更に印加すると、磁場の極性によって面内磁
化膜のためにその反対側の底面より発生した水平プロッ
ホラインのパンチスルーにより、χや又はχ−のどちら
かの磁壁°内磁化は反転し、磁壁状態は一つの状態に揃
う。この最終状態はパルスバイアス磁場の極性で制御出
来ることはすでに知られている。
。まず任意の磁壁構造の磁気バブル5′を磁壁調整手段
(資)に転送する。次に書き込み制御部12の制御によ
り面内磁場印加の下でパルスバイアス磁場を該磁気バブ
ルに印加する。すると該磁気バブルの磁壁構造はすでに
公知の様にVBLを2本もつσヤ若しくはσ−に変換す
る。次に面内磁場をOにしてパルスバイアス磁場を印加
するとσヤもしくはσ−状態の磁気バブルは単一回転磁
化磁壁構造のχ十若しくはχ−バブルになるχ+とχ−
は磁壁内磁化方向が異っている。次に短かいパルスバイ
アス磁場を更に印加すると、磁場の極性によって面内磁
化膜のためにその反対側の底面より発生した水平プロッ
ホラインのパンチスルーにより、χや又はχ−のどちら
かの磁壁°内磁化は反転し、磁壁状態は一つの状態に揃
う。この最終状態はパルスバイアス磁場の極性で制御出
来ることはすでに知られている。
本発明の磁気バブル発生転送手段8の第2の実施例を第
4図を用いて説明する。本実施例では磁気バブル転送路
7としてすでに公知である穴あき2層導体パタン74よ
りなる電流駆動方式の転送路を用いている。この駆動方
式は2層導体パタンに駆動電流71 、72を交幡印加
し導体穴のまわりに発生する磁場により磁気バブルを転
送する方式で烏速駆動に適したものである。本実施例で
は単一回転磁化磁壁構造の磁気バブル情報を次の様に発
生する。まず前実施例と同様ヘアピン状導体バタン等で
構成された磁気バブル発生手段81で連続的に磁気バブ
ルを発生する。次に、前述の様な磁壁構造調整手段80
で単一回転磁化磁壁構造の磁気バブルに全て変換する。
4図を用いて説明する。本実施例では磁気バブル転送路
7としてすでに公知である穴あき2層導体パタン74よ
りなる電流駆動方式の転送路を用いている。この駆動方
式は2層導体パタンに駆動電流71 、72を交幡印加
し導体穴のまわりに発生する磁場により磁気バブルを転
送する方式で烏速駆動に適したものである。本実施例で
は単一回転磁化磁壁構造の磁気バブル情報を次の様に発
生する。まず前実施例と同様ヘアピン状導体バタン等で
構成された磁気バブル発生手段81で連続的に磁気バブ
ルを発生する。次に、前述の様な磁壁構造調整手段80
で単一回転磁化磁壁構造の磁気バブルに全て変換する。
最后に磁気バブル消去手段82の部分に磁気バブルを転
送し、必要でない情報に対応する磁気バブルを消去する
。この消去手段82は通例ヘアピン状導体バタンとこれ
に電流を印加する手段よりなる。これら各手段は全て書
き込み制御部12に接続され、制御されている。
送し、必要でない情報に対応する磁気バブルを消去する
。この消去手段82は通例ヘアピン状導体バタンとこれ
に電流を印加する手段よりなる。これら各手段は全て書
き込み制御部12に接続され、制御されている。
次に本発明の、磁気バブル転送路からストライ単一磁化
回転磁壁構造の磁気バブルが情報に応じて転送路7を転
送し、ストライプドメイン2の先端部24に対応する転
送バタン73′に来たとき、その近傍に設けた例えばヘ
アピン導体よりなる磁気バブル移送手段9に第5図(ロ
)の工Tで示す電流を印加する。移送手段9は、磁気バ
ブル位置保持手段3′と共通部分をもっているため、そ
の保持手段3′に磁気バブルは移送される。その位置保
持手段3′は、パルスバイアス磁場印加手段3と共通で
あるため、次いで第5図(均の工sで示す電流を印加す
ると、第2図に示した原理に基き、ストライプドメイン
2のブロッホ磁壁22にVBL対が書き込まれる。
回転磁壁構造の磁気バブルが情報に応じて転送路7を転
送し、ストライプドメイン2の先端部24に対応する転
送バタン73′に来たとき、その近傍に設けた例えばヘ
アピン導体よりなる磁気バブル移送手段9に第5図(ロ
)の工Tで示す電流を印加する。移送手段9は、磁気バ
ブル位置保持手段3′と共通部分をもっているため、そ
の保持手段3′に磁気バブルは移送される。その位置保
持手段3′は、パルスバイアス磁場印加手段3と共通で
あるため、次いで第5図(均の工sで示す電流を印加す
ると、第2図に示した原理に基き、ストライプドメイン
2のブロッホ磁壁22にVBL対が書き込まれる。
以上の様に本発明を用いれば、ストライプドメインのブ
ロッホ磁壁にVBL対を容易に書き込むことが出来る。
ロッホ磁壁にVBL対を容易に書き込むことが出来る。
従ってVBL対を情報単位として用いる高密度磁気記憶
素子として本発明は優れたものである。更に本発明を用
いれば、VBL対は、1個の磁気バブルに対応している
ため、磁気バブル情報をそのまま対応よ(VBL対情報
に変換することが可能となる。以上の説明に於いて磁気
バブルの発生手段はヘアピン導体にかぎるものではなく
、軟磁性体パタンを用いた分割型でも良い。
素子として本発明は優れたものである。更に本発明を用
いれば、VBL対は、1個の磁気バブルに対応している
ため、磁気バブル情報をそのまま対応よ(VBL対情報
に変換することが可能となる。以上の説明に於いて磁気
バブルの発生手段はヘアピン導体にかぎるものではなく
、軟磁性体パタンを用いた分割型でも良い。
また、磁気バブル転送路としては、イオン注入法による
コンティギーアスディスクバタンでも良いことは勿論で
ある。
コンティギーアスディスクバタンでも良いことは勿論で
ある。
第1図は本発明の実施例の構成図、第2図は垂直プロッ
ホライン対の書き込み手段の実施例を示す図、第3図は
本発明に係る磁気バブル発生手段の第1の実施例を示す
図、第4図は同じく磁気バブル発生手段の第2の実施例
を示す図、第5図は磁気バブル移送及び固定並びにパル
スバイアス磁場発生手段の実施例を示す図。 1は強磁性体薄膜、2はストライプドメイン、3.3′
はそれぞれパルスバイアス印加手段及び磁気バブル固定
手段、5.5’は磁気バブル、6は導体パタン内部、7
は磁気バブル転送手段、8は単一回転磁化磁壁構造磁気
バブル発生手段、9は磁気バブル移送手段である。11
は磁区外部の磁化方向、12は書き込み制御部、21は
磁区内の畿内の向き、24はストライプドメイン先端部
、31はヘアピン導体、32は電流方向、40 、40
’ 、 40“は磁壁内磁化方向、42 、43は垂直
プロッホライン、45は垂直プロッホライン対、50は
磁気バブルの磁化方向、51は磁壁、52は磁壁接合部
、70は回転磁場、71゜72は駆動電流、73は転送
バタン、74は二層導体転送バタン、8oaは面内磁場
発生手段、80bは面内磁化層、80cはパルスバイア
ス印加手段である。 第2図
ホライン対の書き込み手段の実施例を示す図、第3図は
本発明に係る磁気バブル発生手段の第1の実施例を示す
図、第4図は同じく磁気バブル発生手段の第2の実施例
を示す図、第5図は磁気バブル移送及び固定並びにパル
スバイアス磁場発生手段の実施例を示す図。 1は強磁性体薄膜、2はストライプドメイン、3.3′
はそれぞれパルスバイアス印加手段及び磁気バブル固定
手段、5.5’は磁気バブル、6は導体パタン内部、7
は磁気バブル転送手段、8は単一回転磁化磁壁構造磁気
バブル発生手段、9は磁気バブル移送手段である。11
は磁区外部の磁化方向、12は書き込み制御部、21は
磁区内の畿内の向き、24はストライプドメイン先端部
、31はヘアピン導体、32は電流方向、40 、40
’ 、 40“は磁壁内磁化方向、42 、43は垂直
プロッホライン、45は垂直プロッホライン対、50は
磁気バブルの磁化方向、51は磁壁、52は磁壁接合部
、70は回転磁場、71゜72は駆動電流、73は転送
バタン、74は二層導体転送バタン、8oaは面内磁場
発生手段、80bは面内磁化層、80cはパルスバイア
ス印加手段である。 第2図
Claims (1)
- 情報読出し手段と情報書込み手段と情報蓄積手段を備え
、膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする強磁性体膜(
フェリ磁性体膜を含む)に存在するストライプドメイン
の周辺のブロッホ磁壁の中に作った相隣合う2つの垂直
プロッホラインからなる垂直プロッホライン対を記憶情
報単位として用い、該垂直プロッホラインをブロッホ磁
壁内で転送する手段を有することを特徴とする磁気記憶
素子において、単一回転磁化の磁壁構造をもつ磁気バブ
ル情報発生手段と、該情報発生手段と接続し、しかも該
ストライプドメイン近傍に設けられた磁気バブル転送路
と、該転送路から前記ストライプドメイン先端部近傍ま
で磁気バブルを移送する手段と、磁気バブルを該ストラ
イプドメイン先端部近傍に保持する手段と、該ストライ
プドメイン先端部とその近傍の磁気バブルにパルスバイ
アス磁界を印加せしめる手段とを有することを特徴とす
る磁気記憶素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57207009A JPS5998376A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57207009A JPS5998376A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998376A true JPS5998376A (ja) | 1984-06-06 |
| JPH0456394B2 JPH0456394B2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=16532678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57207009A Granted JPS5998376A (ja) | 1982-11-26 | 1982-11-26 | 磁気記憶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998376A (ja) |
-
1982
- 1982-11-26 JP JP57207009A patent/JPS5998376A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0456394B2 (ja) | 1992-09-08 |
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