JPS60104237A - ダハミラ−の光学精度測定装置 - Google Patents
ダハミラ−の光学精度測定装置Info
- Publication number
- JPS60104237A JPS60104237A JP21103983A JP21103983A JPS60104237A JP S60104237 A JPS60104237 A JP S60104237A JP 21103983 A JP21103983 A JP 21103983A JP 21103983 A JP21103983 A JP 21103983A JP S60104237 A JPS60104237 A JP S60104237A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roof mirror
- optical path
- photoelectric conversion
- conversion element
- accuracy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/005—Testing of reflective surfaces, e.g. mirrors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
より技術分野
この発明は、複写機等の結像素子に使用されるダハミラ
ーの光学精度を測定する装置に関するものである。
ーの光学精度を測定する装置に関するものである。
豐玄」U支肛
従来よりこの種の測定手段として、オー1−コリメーシ
ョン法がある。これはオートコリメータにより、ダハ面
に平行光束を照射し、その反射光が再びコリメータに入
るとき、焦点伺近の像の梯子から測定対象の面精度や直
角度などを測定する方法であり、測定に当ってはオート
コリメータの接眼視野目盛の読取りが目視によるもので
あるから測定時間も比較的長く要し、精度もあまりよく
ない。また面精度が悪い場合には像が拡散するために測
定が困難である。
ョン法がある。これはオートコリメータにより、ダハ面
に平行光束を照射し、その反射光が再びコリメータに入
るとき、焦点伺近の像の梯子から測定対象の面精度や直
角度などを測定する方法であり、測定に当ってはオート
コリメータの接眼視野目盛の読取りが目視によるもので
あるから測定時間も比較的長く要し、精度もあまりよく
ない。また面精度が悪い場合には像が拡散するために測
定が困難である。
■目 的
この発明1よ、結像光学系に使用されるダハミラーの光
学精度を検知するために、ダハミラーの各反射面につい
ての測定を切替えて、各面精度に対しては結像レンズに
よる結像スペクトルの空間周波数に対する振幅変調をめ
ることによって:11す定し、直角度に対しては各結像
スペクトルについての強度分布のピーク位置座標相互の
偏位をめて測定することにより、これら測定の高精度、
高速化を図るダハミラーの光学精度測定装置を提供しよ
うとするものである。
学精度を検知するために、ダハミラーの各反射面につい
ての測定を切替えて、各面精度に対しては結像レンズに
よる結像スペクトルの空間周波数に対する振幅変調をめ
ることによって:11す定し、直角度に対しては各結像
スペクトルについての強度分布のピーク位置座標相互の
偏位をめて測定することにより、これら測定の高精度、
高速化を図るダハミラーの光学精度測定装置を提供しよ
うとするものである。
■構 成
以下、この発明の構成についてその実施例を図面に基づ
いて説明する。第1図はこの発明の実施例を示す光学系
の略図であり、図において、インコヒーレントな光束を
発生する光源1とコリメータレンズ2との間には、該コ
リメータレンズ2の光源側焦点位置に入力面3が配設さ
れ、狭小な開口幅(数ミクロン−数十ミクロン)のスリ
ツ1−を設けている。光源1と入力面3との間には雑音
除去等のためにフィルタ4が配設されている。コリメー
タレンズ2を通過して得られる平行光路中には光路分割
手段としてのビームスプリッタ5が配設され、該ビーム
スプリッタ5を透過した平行光束は、第1の反射ミラー
6を経由して、ダハミラー7の一方の反射面8に垂直に
受けて反射され、平行光束をもって第1の反射ミラー6
を経由してビームスプリッタ5に回帰されるようになっ
てb)ろ。
いて説明する。第1図はこの発明の実施例を示す光学系
の略図であり、図において、インコヒーレントな光束を
発生する光源1とコリメータレンズ2との間には、該コ
リメータレンズ2の光源側焦点位置に入力面3が配設さ
れ、狭小な開口幅(数ミクロン−数十ミクロン)のスリ
ツ1−を設けている。光源1と入力面3との間には雑音
除去等のためにフィルタ4が配設されている。コリメー
タレンズ2を通過して得られる平行光路中には光路分割
手段としてのビームスプリッタ5が配設され、該ビーム
スプリッタ5を透過した平行光束は、第1の反射ミラー
6を経由して、ダハミラー7の一方の反射面8に垂直に
受けて反射され、平行光束をもって第1の反射ミラー6
を経由してビームスプリッタ5に回帰されるようになっ
てb)ろ。
一方ビームスプリツタ5で反射された平行光束は、第2
の反射ミラー9を経由して、ダハミラー7の他方の反射
面10に垂直に受けて反射され、平行光束をもって第2
の反射ミラー9を経由してビームスプリッタ5に回帰さ
れるようになっている。ビームスプリッタ5は第1の反
射ミラー6を経由した光束を反射し、そして第2の反射
ミラー9を経由した光束を透過させて、測定用の結像手
段としてのコリメータレンズ11がこれら各光束を受け
。
の反射ミラー9を経由して、ダハミラー7の他方の反射
面10に垂直に受けて反射され、平行光束をもって第2
の反射ミラー9を経由してビームスプリッタ5に回帰さ
れるようになっている。ビームスプリッタ5は第1の反
射ミラー6を経由した光束を反射し、そして第2の反射
ミラー9を経由した光束を透過させて、測定用の結像手
段としてのコリメータレンズ11がこれら各光束を受け
。
その焦点位置に光電変換素子I2が配設されて%する。
ビームスプリッタ5とダハミラー7との間には光路遮断
用のシャッター板】3を設けていて、図の左右に移動可
能にしていて、図の如く右側位置にあるとき一方の反射
面8に係わる光路を遮断し、左側に移動されると、他方
の反射面10に係わる光路を遮断するようにしている。
用のシャッター板】3を設けていて、図の左右に移動可
能にしていて、図の如く右側位置にあるとき一方の反射
面8に係わる光路を遮断し、左側に移動されると、他方
の反射面10に係わる光路を遮断するようにしている。
光電変換素子12は1次元固体撮像素子よりなり、その
単位素子がここに結像されるスリット像に刻して垂直方
向に配設されていて、スリット像のスペクトルについて
空間1次元的にその光強度を検出する。第2図は光電変
換素子12からの画信号を演算する演算手段のブロック
図であり、図において、光電変換素子12は光電変換素
子駆動回路14によって駆動されて、その各単位素子か
らの画素信号(Lk)が、サンプルホールド手段15、
A/D変換手段16を介して線像RAM 17にブロッ
ク転送されて、その一連の画素信号が一時記憶される。
単位素子がここに結像されるスリット像に刻して垂直方
向に配設されていて、スリット像のスペクトルについて
空間1次元的にその光強度を検出する。第2図は光電変
換素子12からの画信号を演算する演算手段のブロック
図であり、図において、光電変換素子12は光電変換素
子駆動回路14によって駆動されて、その各単位素子か
らの画素信号(Lk)が、サンプルホールド手段15、
A/D変換手段16を介して線像RAM 17にブロッ
ク転送されて、その一連の画素信号が一時記憶される。
このブロック転送は後記する如く、シャッター板13の
各移動位置に対応する画素信号群毎に行なわれ、このと
き線像RAM 17の記憶場所として、各群の全データ
にわたってそれぞれ個有のアドレスが割当てられる。タ
イミング発生回路18は各演算と記憶と、後記する各読
出し等のタイミングを与えるためのものである6線像I
IAM 17等にその記憶と読出しタイミング入力端子
が記号It/Wで示しである。ダハミラー7の各平面度
(面精度)については、スリット・像のスペクトルの光
強度分布をフーリエ変換して振幅変調関数(MTF)を
演算することによってB1す定する。各画素(8号群に
ついて、空間周波数Uに対する振幅変調関数M(u)は
次式で与えられる。
各移動位置に対応する画素信号群毎に行なわれ、このと
き線像RAM 17の記憶場所として、各群の全データ
にわたってそれぞれ個有のアドレスが割当てられる。タ
イミング発生回路18は各演算と記憶と、後記する各読
出し等のタイミングを与えるためのものである6線像I
IAM 17等にその記憶と読出しタイミング入力端子
が記号It/Wで示しである。ダハミラー7の各平面度
(面精度)については、スリット・像のスペクトルの光
強度分布をフーリエ変換して振幅変調関数(MTF)を
演算することによってB1す定する。各画素(8号群に
ついて、空間周波数Uに対する振幅変調関数M(u)は
次式で与えられる。
上式において、aは入力面3のスリット幅、L(u)は
各コリメータレンズ2,11による複合変調率であり、
被測定面としてのダハミラー7の反射面8または10に
オプティ力ルフラッ[・を用いて予め測定した値が使用
される。Δαは光電変換素子12のN個よりなる各単位
素子の配列ピッチ、Lkは線像RAM 17に格納され
た各データであり、その添え字には光軸を起点として数
えた順位数を示す。mはスリット像の倍率であり、各コ
リメータレンズ2゜11の相互の焦点距離比である。c
osRA旧9、sinRAM20には測定すべき空間周
波数に対応した」二人における演算成分が格納されてい
て、該演算成分と線像11AM 17の各データとを用
いて演算回路21が順位数kを高速に変えながら上式の
演算を行なうようになっている。その結果はスペクトル
のフーリエ変換値をなす。タイミング発生回路22は演
算回V1121によるこの順位数にの変更と各演算との
タイミングを与えるためのものである。アドレスカウン
タ23はタイミング発生回路]8と演算回路21の演算
タイミングとに関連して各RAM 17,19.20の
記憶と読出しのためのアドレスを指定する。コンピュー
タ24は演算回路21の演算結果に基づいて、一連の振
幅変調関数をCRT 25上に表示し、あるいはフロッ
ピーディスク26に格納する。シャッター板駆動回路2
7はコンピュータ24によって制御されて、ジッター仮
13を第1図の左右の各移動位置に駆動制御するもので
あり、その移動位置に対応して線像RAM 17が受入
れる画素信号群に対する71−レス群がそれぞれ指定さ
れる。ダハミラー7の各反射面8.10相互の直角度に
ついては、第3図に示す信号レベルLkの各ピーク値L
M1.1. M :?を演算するようになっていて、そ
の演算は、第3図に示しである如く、光電変換素子12
のピッチΔQ毎の各甲−位素子位置’k(k=]・・・
・・・m)に対するダハミラー7の例えば一方の反射面
8の信号レベルlLk (k = ]・・・111 )
について、そのピーク値に対応する単位素子位置(線(
S!ltAM 17のアドレス)T〜4をめるために、
1〜in番地の互いに隣接するデータの差分をとり、そ
の差分の符号が反転する番地をめることによる。即ち、
Lk+ 1−Lk> 0 (k=1・・・・・Ml−1
)、Lk4−’z −Lk< O(k= M 1・・・
・・m )であるときト11がピーク番地としてめられ
る。ダハミラー′7の他方の反射面IOの(a号しベル
Lk (k = m +1−− n+ )についても同
様にピーク番地ト147がめられる、スリット像の結像
位置ずれ量は+ 82−M、1. I XΔQで表わさ
れることになり、この値が直角度に換算される。
各コリメータレンズ2,11による複合変調率であり、
被測定面としてのダハミラー7の反射面8または10に
オプティ力ルフラッ[・を用いて予め測定した値が使用
される。Δαは光電変換素子12のN個よりなる各単位
素子の配列ピッチ、Lkは線像RAM 17に格納され
た各データであり、その添え字には光軸を起点として数
えた順位数を示す。mはスリット像の倍率であり、各コ
リメータレンズ2゜11の相互の焦点距離比である。c
osRA旧9、sinRAM20には測定すべき空間周
波数に対応した」二人における演算成分が格納されてい
て、該演算成分と線像11AM 17の各データとを用
いて演算回路21が順位数kを高速に変えながら上式の
演算を行なうようになっている。その結果はスペクトル
のフーリエ変換値をなす。タイミング発生回路22は演
算回V1121によるこの順位数にの変更と各演算との
タイミングを与えるためのものである。アドレスカウン
タ23はタイミング発生回路]8と演算回路21の演算
タイミングとに関連して各RAM 17,19.20の
記憶と読出しのためのアドレスを指定する。コンピュー
タ24は演算回路21の演算結果に基づいて、一連の振
幅変調関数をCRT 25上に表示し、あるいはフロッ
ピーディスク26に格納する。シャッター板駆動回路2
7はコンピュータ24によって制御されて、ジッター仮
13を第1図の左右の各移動位置に駆動制御するもので
あり、その移動位置に対応して線像RAM 17が受入
れる画素信号群に対する71−レス群がそれぞれ指定さ
れる。ダハミラー7の各反射面8.10相互の直角度に
ついては、第3図に示す信号レベルLkの各ピーク値L
M1.1. M :?を演算するようになっていて、そ
の演算は、第3図に示しである如く、光電変換素子12
のピッチΔQ毎の各甲−位素子位置’k(k=]・・・
・・・m)に対するダハミラー7の例えば一方の反射面
8の信号レベルlLk (k = ]・・・111 )
について、そのピーク値に対応する単位素子位置(線(
S!ltAM 17のアドレス)T〜4をめるために、
1〜in番地の互いに隣接するデータの差分をとり、そ
の差分の符号が反転する番地をめることによる。即ち、
Lk+ 1−Lk> 0 (k=1・・・・・Ml−1
)、Lk4−’z −Lk< O(k= M 1・・・
・・m )であるときト11がピーク番地としてめられ
る。ダハミラー′7の他方の反射面IOの(a号しベル
Lk (k = m +1−− n+ )についても同
様にピーク番地ト147がめられる、スリット像の結像
位置ずれ量は+ 82−M、1. I XΔQで表わさ
れることになり、この値が直角度に換算される。
以上の構成において、ダハミラー7の各平面度について
は、その平面度が低下している場合は、オブティカルフ
ラッ1−である場合よりもスペクトルピッチが等偏曲に
狭くなって、空間周波数の増加に伴なう振幅変調関数の
下降曲線が急峻になる。
は、その平面度が低下している場合は、オブティカルフ
ラッ1−である場合よりもスペクトルピッチが等偏曲に
狭くなって、空間周波数の増加に伴なう振幅変調関数の
下降曲線が急峻になる。
よってその降下特性によって各平面度が評価される。ダ
ハミラー7の各反射面8,10相互の直角度については
、第3図に示す一方の反射面8に対応した信号レベルの
ピーク値LM1と他方の反射面10に対応した信号レベ
ルのピーク値LM:zとのそれぞれの結像位置座標M’
1.M2の相互の偏位の大小によってその直角度が評価
される。
ハミラー7の各反射面8,10相互の直角度については
、第3図に示す一方の反射面8に対応した信号レベルの
ピーク値LM1と他方の反射面10に対応した信号レベ
ルのピーク値LM:zとのそれぞれの結像位置座標M’
1.M2の相互の偏位の大小によってその直角度が評価
される。
第4図は測定用結像手段としてコリメータレンズ2と入
力面3との間にビームスプリッタ28を介在させて、ダ
ハミラー7の各反射面8.IOからの反射光がコリメー
タレンズ2によって集光される過程における光束を反射
させて光電変換素子12がこれを検出するようにしたも
のであり、前記同様に第2図の演算手段と組合わされて
データ処理される。
力面3との間にビームスプリッタ28を介在させて、ダ
ハミラー7の各反射面8.IOからの反射光がコリメー
タレンズ2によって集光される過程における光束を反射
させて光電変換素子12がこれを検出するようにしたも
のであり、前記同様に第2図の演算手段と組合わされて
データ処理される。
層−助−−一一−−釆
以−にの如く、この発明によれば、ダハミラーの平面度
や直角度の光学精度を画像情報と直接に関連する振幅変
調関数に基づき測定し得るので、測定結果が高精度かつ
高速に得られ、測定の自動化も可能である。
や直角度の光学精度を画像情報と直接に関連する振幅変
調関数に基づき測定し得るので、測定結果が高精度かつ
高速に得られ、測定の自動化も可能である。
第1図はこの発明の実施例を示す光学系の概略構成図、
第2図は演算手段のブロック図、第3は直角度の測定の
説明をするためのスリッl〜1争のデータ分布グラフ、
第4図は光学系の別実施例の1既酩構成図である。 1・・・光源、 2・・・コリメータレンズ、3・・・
入力面(スリット)、 5・・・ビームスプリッタ(光路分割手段)、7・・ダ
ハミラー、 12・光電変換素子4 I3・・・シャッター板(光路遮断手段)、21・・・
演算回路(演算手段)。 第1図 第2図 t □□コ 第3図 第4図 手続有口正置(方式) 昭和59年3月81EI 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第211039号 2、発明の名称 ダハミラーの光学精度測定装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都大田区中馬込1丁目3番6号名称(67
4)株式会社リ コー 4、代理人 〒103電話6G9−4421住 所 東
京都中央区口木橋蛎殻町1−13−1.2昭和59年2
月8日(発送8二同年同月28日)6、補正の対象 明細書の「同面の簡単な説明jの側 7、補正の内容
第2図は演算手段のブロック図、第3は直角度の測定の
説明をするためのスリッl〜1争のデータ分布グラフ、
第4図は光学系の別実施例の1既酩構成図である。 1・・・光源、 2・・・コリメータレンズ、3・・・
入力面(スリット)、 5・・・ビームスプリッタ(光路分割手段)、7・・ダ
ハミラー、 12・光電変換素子4 I3・・・シャッター板(光路遮断手段)、21・・・
演算回路(演算手段)。 第1図 第2図 t □□コ 第3図 第4図 手続有口正置(方式) 昭和59年3月81EI 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第211039号 2、発明の名称 ダハミラーの光学精度測定装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都大田区中馬込1丁目3番6号名称(67
4)株式会社リ コー 4、代理人 〒103電話6G9−4421住 所 東
京都中央区口木橋蛎殻町1−13−1.2昭和59年2
月8日(発送8二同年同月28日)6、補正の対象 明細書の「同面の簡単な説明jの側 7、補正の内容
Claims (3)
- (1)インコヒーレントな光束を発生する光源と、該光
源の光束を受けるコリメータレンズと。 該コリメータレンズの光源側焦点位置に配設され狭小な
開口幅を有するスリン1−と。 前記コリメータレンズの平行光路中に配設された透過性
の光路分割手段と、 該光路分割手段の透過光を一方の反射面で垂直に受けて
該光路分割手段に平行光束をもって回帰仕しめ且つ前記
光路分割手段の反射光を他方の反射面で垂直に゛受けて
該光路分割手段に平行光束をもって回帰せしめるダハミ
ラーと、 前記光路分割手段を介して前記ダハミラーからの各光束
を受けることにより測定用の結像光束を得る測定用結像
手段と、 該測定用結像手段による結像位置に配設された光電変換
素子と、 前記光路分割手段とダハミラーとの間の光路に介在して
いて前記ダハミラーの一方の反射面と他方の反射面との
各光路を択一的に遮断する光路遮断手段とを設け、 前記光電変換素子のゲータ群を前記択一的な各遮断時相
互について対比して前記ダハミラーの面精度及び面角度
を測定することを特徴とするダハミラーの光学精度測定
装置。 - (2)光電変換素子は1次元面体撮像素子よりなり、該
1次元面体撮像素子の各単位素子がスリン1−僅に対し
て垂直方向に配置されていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のダハミラーの光学精度測定装置。 - (3)光電変換素子は、両信号を前記光路遮断手段によ
る遮断によって選択される前記ダハミラーの各反射面に
対応の画信号群毎にフーリエ変換すると共に空間周波数
に対する振幅変調を演算し且つ該各画(目号群のピーク
位置座標の相互の偏位を演算する演算手段を設けていて
、 前記各画信号群に対応した前記各振幅変調の演算結果か
ら前記ダハミラーの各反射面の面精度を81す定し前記
各画信号群の前記ピーク位置座標の相互の偏位の演算結
果から前記ダハミラーの各反射面相互の直角度を測定す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のダハミ
ラーの光学精度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21103983A JPS60104237A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | ダハミラ−の光学精度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21103983A JPS60104237A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | ダハミラ−の光学精度測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60104237A true JPS60104237A (ja) | 1985-06-08 |
| JPH0510616B2 JPH0510616B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=16599354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21103983A Granted JPS60104237A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | ダハミラ−の光学精度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60104237A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105727784A (zh) * | 2015-04-29 | 2016-07-06 | 宁夏共享模具有限公司 | 3d打印机的混料装置 |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP21103983A patent/JPS60104237A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105727784A (zh) * | 2015-04-29 | 2016-07-06 | 宁夏共享模具有限公司 | 3d打印机的混料装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0510616B2 (ja) | 1993-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6552809B1 (en) | Position encoding optical device and method | |
| US4322162A (en) | Method and apparatus for sensing in-plane deformation of a surface | |
| US6819435B2 (en) | Spatial and spectral wavefront analysis and measurement | |
| JPH0117523B2 (ja) | ||
| US20030067609A1 (en) | Apparatus for and method of measuring surface shape of an object | |
| US4572628A (en) | Method of and apparatus for measuring radius | |
| US3447874A (en) | Apparatus for testing lenses and method | |
| JPH102722A (ja) | 三次元位置計測装置 | |
| WO1990009560A1 (en) | Distance gauge | |
| US6603561B2 (en) | Chromatic diffraction range finder | |
| US5600123A (en) | High-resolution extended field-of-view tracking apparatus and method | |
| US4191477A (en) | Process and apparatus for the separate evaluation of image contents in two coordinate directions of motion | |
| JPS60104237A (ja) | ダハミラ−の光学精度測定装置 | |
| US4902135A (en) | Object movement measuring apparatus | |
| JPH11194011A (ja) | 干渉装置 | |
| WO1979000320A1 (en) | Method and apparatus for sensing in-plane deformation of a surface | |
| US3520624A (en) | Microdensitometric apparatus for simultaneously examining a plurality of record image areas | |
| JPS6042606A (ja) | 光学的寸法測定装置 | |
| JPS5861436A (ja) | 投影型mtf測定装置の受光素子 | |
| JPH0711413B2 (ja) | 非接触型の表面形状測定装置 | |
| JPS62503049A (ja) | 二次元的な対象物を整向、検査及び/または測定するための方法及び装置 | |
| US4533828A (en) | Arrangement for increasing the dynamic range of optical inspection devices to accommodate varying surface reflectivity characteristics | |
| JPS63293427A (ja) | 光ビ−ム位置および径の測定装置 | |
| JPS60105934A (ja) | ダハミラ−の結像性能測定装置 | |
| JPS60105935A (ja) | 反射率測定装置 |