JPS60119628A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS60119628A JPS60119628A JP22689083A JP22689083A JPS60119628A JP S60119628 A JPS60119628 A JP S60119628A JP 22689083 A JP22689083 A JP 22689083A JP 22689083 A JP22689083 A JP 22689083A JP S60119628 A JPS60119628 A JP S60119628A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sputtering
- magnetic tape
- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
- Prior art date
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- Pending
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気テープの裏面すなわち下地の磁性媒体が設
けられていない面に有機物皮膜をスパッタで作製するこ
とに係り、特に走行性に優れた磁気記録媒体およびその
製法に関する。
けられていない面に有機物皮膜をスパッタで作製するこ
とに係り、特に走行性に優れた磁気記録媒体およびその
製法に関する。
磁気テープにおいては耐久性向上のため磁性層またはそ
の裏面に種々の処理を施すことが試みられている。例え
ば塗布型テープではバインダー中に高級脂肪酸等の潤滑
性の物質を混練して用いることは周知である。しかるに
磁性層な蒸着によって形成するいわゆる蒸着テープでは
上記技術を利用できないため、液体状の潤滑剤を塗布す
る方法や固体状の保護膜を何らかの方法で形成すること
が考えられている。
の裏面に種々の処理を施すことが試みられている。例え
ば塗布型テープではバインダー中に高級脂肪酸等の潤滑
性の物質を混練して用いることは周知である。しかるに
磁性層な蒸着によって形成するいわゆる蒸着テープでは
上記技術を利用できないため、液体状の潤滑剤を塗布す
る方法や固体状の保護膜を何らかの方法で形成すること
が考えられている。
上記処理は主として磁気テープの表面すなわち磁性層の
設けられている側の面上に施され、磁性体が磁気ヘッド
との摺動により損傷を受けることを防ぐことを主たる目
的とする。一方、記録再生時の走行安定性も磁気テープ
にとって重要な特質である。走行安定性向上のためには
磁気テープ表面よりむしろ裏面、すなわち磁性体の設け
られていない面に処理を施し、この面の摩擦係数を下げ
ることが効果がある。その理由は裏面が多くの固定ガイ
ドピンと摺動するためである。裏面の摩擦係数を下ける
ための処理としても表面と同機種々のものが考えられる
が塗布法によると膜厚の均一性が得られにくく、溶剤処
理が繁雑であるため乾式法によるのが好ましい。
設けられている側の面上に施され、磁性体が磁気ヘッド
との摺動により損傷を受けることを防ぐことを主たる目
的とする。一方、記録再生時の走行安定性も磁気テープ
にとって重要な特質である。走行安定性向上のためには
磁気テープ表面よりむしろ裏面、すなわち磁性体の設け
られていない面に処理を施し、この面の摩擦係数を下げ
ることが効果がある。その理由は裏面が多くの固定ガイ
ドピンと摺動するためである。裏面の摩擦係数を下ける
ための処理としても表面と同機種々のものが考えられる
が塗布法によると膜厚の均一性が得られにくく、溶剤処
理が繁雑であるため乾式法によるのが好ましい。
乾式法によって磁気テープ表面に保農膜を形成する手法
の一つにスパッタ法があり、特願昭５７−５０４９には
磁性媒体表面に有機高分子をターゲットとしてスパッタ
法により保護膜を形成する方法が記されている。ただし
、上記の例は磁性層の保膜な目的としたものである。ま
た、特開昭５７−１１６７７１にはイミド基を有するタ
ーゲットをスパッタする保護膜の形成法の記載がある。
の一つにスパッタ法があり、特願昭５７−５０４９には
磁性媒体表面に有機高分子をターゲットとしてスパッタ
法により保護膜を形成する方法が記されている。ただし
、上記の例は磁性層の保膜な目的としたものである。ま
た、特開昭５７−１１６７７１にはイミド基を有するタ
ーゲットをスパッタする保護膜の形成法の記載がある。
後者の例ではテープ裏面に形成した実施例は記載されて
いないが、請求範囲にはテープ表面と限定されていない
。そこで磁気テープ裏面にポリイミドをスパッタして実
際に摩擦係数を測定したところ、若干の効果が見られた
。しかし、十分な走行安定性を得るためには、さらに摩
擦係数を下げる必要があるため、我々は種種の材料につ
いて検討し、効果の大きい材料を見出した。
いないが、請求範囲にはテープ表面と限定されていない
。そこで磁気テープ裏面にポリイミドをスパッタして実
際に摩擦係数を測定したところ、若干の効果が見られた
。しかし、十分な走行安定性を得るためには、さらに摩
擦係数を下げる必要があるため、我々は種種の材料につ
いて検討し、効果の大きい材料を見出した。
本発明の目的は上記テープの裏面の摩擦係数を簡便な方
法で効果的に小さくすることにより走行性を向上させた
磁気記録媒体及びその製法を提供することに帝る。
法で効果的に小さくすることにより走行性を向上させた
磁気記録媒体及びその製法を提供することに帝る。
本発明は前述した従来技術の欠点を解消するもので、磁
気テープの裏面にフッ素を含む有機高分子をターゲット
としてスパッタし、皮膜を形成して裏面の摩擦係数を減
少させることによって目的を達成したものである。
気テープの裏面にフッ素を含む有機高分子をターゲット
としてスパッタし、皮膜を形成して裏面の摩擦係数を減
少させることによって目的を達成したものである。
上記、フッ素を含む有機高分子材料は具体的には、ポリ
四フッ化エチレン、四フフ化エチレンー六フッ化プロピ
レン共重合樹脂、四７フ化エチレンーパー７０ロアルコ
キシエチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、
四フフ化エチレン−エチレン共重合体、フッ化ビニリデ
ン樹脂などがある。
四フッ化エチレン、四フフ化エチレンー六フッ化プロピ
レン共重合樹脂、四７フ化エチレンーパー７０ロアルコ
キシエチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、
四フフ化エチレン−エチレン共重合体、フッ化ビニリデ
ン樹脂などがある。
本発明におけるスパッタ法は直流スパッタ。
高周波スパッタ、マグネトロンスパッタまたはイオンビ
ームスパッタのいずれでもよいが、ターゲットが有機物
であるのでチャージアップの起りにくい高周波スパッタ
またはマグネトロンスパッタが好ましい。スパッタに用
いるガスはＡｒ、Ｉｌｅ、Ｅａ、Ｘｇ 等の不活性ガス
やこれらとＮ。
ームスパッタのいずれでもよいが、ターゲットが有機物
であるのでチャージアップの起りにくい高周波スパッタ
またはマグネトロンスパッタが好ましい。スパッタに用
いるガスはＡｒ、Ｉｌｅ、Ｅａ、Ｘｇ 等の不活性ガス
やこれらとＮ。
０、 、 Ｅ、等との混合ガスを用いることができる。
通常の高周波スパッタではガス圧はｏ、 ｏ ｏ ｉ
ないし０．５Ｔｏｒｒの範囲が選ばれ、スパッタを行う
電力は、ターゲット面積あたり０．０１ないしｓｏ％程
度が選ばれる。本発明においても上記範囲より選ぶのが
よいが、特に電力をｏ、Ｓないし３ Ｆ／７の範囲とし
た場合に著しい効果がみられた。
ないし０．５Ｔｏｒｒの範囲が選ばれ、スパッタを行う
電力は、ターゲット面積あたり０．０１ないしｓｏ％程
度が選ばれる。本発明においても上記範囲より選ぶのが
よいが、特に電力をｏ、Ｓないし３ Ｆ／７の範囲とし
た場合に著しい効果がみられた。
以下、本発明の詳細な説明する。
実施例１
厚さ１０μｍポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ ）
上に１０００，４の厚みにコバルトを斜め蒸着した磁気
テープの裏面に、第１図に示す連続スパッタ装置を用い
、ポリテトラフロロエチレン（デュポン社ＰＴＦＥ）を
ターゲットとしてスパッタリングを行った。高周波電源
の周波数は１５．５６ ＭＥｚ 、出力は６００Ｗとし
た。磁気テープ送り速度は５〜３０儒／−である。スパ
ッタ時の雰囲気はＡｒガス圧０．００１〜０１Ｔｏｒｒ
である。析出膜厚は２００Ａとした。各種ガス圧でスパ
ッタし、バックコートした磁気テープを１／２インチ幅
にスリットし、第４図に示す摩耗試験機を用いて磁気テ
ープ裏面と、ガイドピンと部材質、四面粗度の固定ピン
とが接触するように設置し、テープを５０” ／１ｍ＋
の速度で往復運動させ、ｉｏｏ往復後の裏面の傷の様子
およびピンに付着する摩耗粉の量を肉眼により観察し、
大中小の評価を行った。また、走行性の指標として摩擦
係数を測定した。結果を表にした。
上に１０００，４の厚みにコバルトを斜め蒸着した磁気
テープの裏面に、第１図に示す連続スパッタ装置を用い
、ポリテトラフロロエチレン（デュポン社ＰＴＦＥ）を
ターゲットとしてスパッタリングを行った。高周波電源
の周波数は１５．５６ ＭＥｚ 、出力は６００Ｗとし
た。磁気テープ送り速度は５〜３０儒／−である。スパ
ッタ時の雰囲気はＡｒガス圧０．００１〜０１Ｔｏｒｒ
である。析出膜厚は２００Ａとした。各種ガス圧でスパ
ッタし、バックコートした磁気テープを１／２インチ幅
にスリットし、第４図に示す摩耗試験機を用いて磁気テ
ープ裏面と、ガイドピンと部材質、四面粗度の固定ピン
とが接触するように設置し、テープを５０” ／１ｍ＋
の速度で往復運動させ、ｉｏｏ往復後の裏面の傷の様子
およびピンに付着する摩耗粉の量を肉眼により観察し、
大中小の評価を行った。また、走行性の指標として摩擦
係数を測定した。結果を表にした。
実施例２
図１に示す連続スパッタ装置において因２に示す前処理
室を設けた装置を用い、実施例１で使用したと同じ磁気
テープの裏面をＡｒガス０．ＩＴｏｒｒ 、 ＡＣ５０
０Ｊ’の条件でプラズマ処理した後実施例１と同じター
ゲット、同じ条件でスパッタし、摩耗試験を行った。結
果を表に示した。
室を設けた装置を用い、実施例１で使用したと同じ磁気
テープの裏面をＡｒガス０．ＩＴｏｒｒ 、 ＡＣ５０
０Ｊ’の条件でプラズマ処理した後実施例１と同じター
ゲット、同じ条件でスパッタし、摩耗試験を行った。結
果を表に示した。
比較例１
実施例１，２で用いたのと四じ磁気テープの裏面につい
て何も処理を施さないまま摩耗試験を行った。結果を表
に示した。
て何も処理を施さないまま摩耗試験を行った。結果を表
に示した。
比較例２
実施例１と同様の手順で磁気テープの裏面にポリイミド
（デュポン社カプトン）をスパッタし、摩耗試験を行っ
た。結果を表に示した。
（デュポン社カプトン）をスパッタし、摩耗試験を行っ
た。結果を表に示した。
以 下 余 白
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば溶剤を使用しない
簡便な方法で磁気テープ裏面の摩擦係数を減少させ、耐
摩耗性を向上させる効果がある。また磁性媒体形成と裏
面のスパッタ膜形成の順序を逆にしても同様であること
はもちろんである。
簡便な方法で磁気テープ裏面の摩擦係数を減少させ、耐
摩耗性を向上させる効果がある。また磁性媒体形成と裏
面のスパッタ膜形成の順序を逆にしても同様であること
はもちろんである。
第１図は本発明に用いる連続スパッタ装置の一例、第２
図はその前処理室の構造の例を示す。“第６図は本発明
による磁気テープの断面構造、第４図は摩耗試験機の原
理図である。 １・・・・・・・・・・・・磁気テープ２・・・・・・
・・・・・・巻出し側リール３・・・・・・・・・・・
・前処理室 ４・・・・・・・・・・・・スパッタ室５
・・−・−・・・・・ターゲット ６・・・・・・・・
−・・電極７・・−・・・・−・・高周波電源 ８・・
・・・・・・−・・冷却キャン９・・−・−・−・・巻
取り側リール １０・・・・・・・・・磁性媒体 １１・・・・・・・
・・スパッタ膜１２・・−・・・・・ＰＥＴ １ｓ・・
−・・・・・荷重（２ａｔ ）１４・・−・・・・・摩
耗用ビン 第 １ 図 第 ３ 図 第４ 配
図はその前処理室の構造の例を示す。“第６図は本発明
による磁気テープの断面構造、第４図は摩耗試験機の原
理図である。 １・・・・・・・・・・・・磁気テープ２・・・・・・
・・・・・・巻出し側リール３・・・・・・・・・・・
・前処理室 ４・・・・・・・・・・・・スパッタ室５
・・−・−・・・・・ターゲット ６・・・・・・・・
−・・電極７・・−・・・・−・・高周波電源 ８・・
・・・・・・−・・冷却キャン９・・−・−・−・・巻
取り側リール １０・・・・・・・・・磁性媒体 １１・・・・・・・
・・スパッタ膜１２・・−・・・・・ＰＥＴ １ｓ・・
−・・・・・荷重（２ａｔ ）１４・・−・・・・・摩
耗用ビン 第 １ 図 第 ３ 図 第４ 配
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｔ 磁気テープの裏面に、フッ素原子を含む有機高分子
をスパッタして形成されたる皮膜を設けたことを特徴と
する磁気記録媒体。 ２、磁気テープが、その裏面がアルゴン又は酸素ガス雰
囲気中でプラズマ処理したものであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 ３、 フッ素原子を含む有機高分子をスパッタし磁気テ
ープの裏面に皮膜を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。 ４、磁気テープが、その裏面がアルゴン又は酸素ガス雰
囲気中でプラズマ処理したものであることを特徴とする
特！ｌ！Ｆ請求の範囲第６項記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22689083A JPS60119628A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22689083A JPS60119628A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119628A true JPS60119628A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16852183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22689083A Pending JPS60119628A (ja) | 1983-12-02 | 1983-12-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119628A (ja) |
-
1983
- 1983-12-02 JP JP22689083A patent/JPS60119628A/ja active Pending
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