JPS60124042U - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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Publication number
JPS60124042U
JPS60124042U JP1079584U JP1079584U JPS60124042U JP S60124042 U JPS60124042 U JP S60124042U JP 1079584 U JP1079584 U JP 1079584U JP 1079584 U JP1079584 U JP 1079584U JP S60124042 U JPS60124042 U JP S60124042U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
lower valve
lock chamber
vacuum lock
semiconductor manufacturing
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Pending
Application number
JP1079584U
Other languages
English (en)
Inventor
一成 石川
Original Assignee
関西日本電気株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体製造装置(イオン注入装置)の要
部断面側面図、第2図及び第3図は第1図の各部分の動
作を説明するための各状態時での部分拡大断面図、第4
図は第1図の一部拡大平面 図の一部拡大平面図、第5
図は本考案の二実施例を示す要部断面側面図、第6図は
第5図の一部拡大平面図、第7図は第6図のX−X線に
沿う部分拡大断面図、第8図は第5図の一部の動作を示
す概略平面図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 傾斜した両側壁にウェーハ入口とウェーハ出口を有する
    真空ロック室と、該真空ロック室に内蔵されると共に上
    下で対向して対向方向に適宜量欠勤して真空ロック室内
    を適宜二分する傾斜した上部及び下部バルブを有し、前
    記ウェーハ入口から自重で滑降して搬入された半導体ウ
    ェーハを前記下部バルブ上で仮止め搭載してから前記ウ
    ェーハ出口より自重で滑降させ搬出するものにおいて、
    前記下部バルブ上面に該上面に沿って外部開閉手段によ
    り適宜開閉動して下部バルブ上に搬入された半導体ウェ
    ーハを適宜弾圧挾持する一対のサイドストッパを設置し
    たことを特徴とする半導体製・  造装置。
JP1079584U 1984-01-27 1984-01-27 半導体製造装置 Pending JPS60124042U (ja)

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JPS60124042U true JPS60124042U (ja) 1985-08-21

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ID=30492305

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JP1079584U Pending JPS60124042U (ja) 1984-01-27 1984-01-27 半導体製造装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5285462A (en) * 1976-01-09 1977-07-15 Hitachi Ltd Plate feed stand

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5285462A (en) * 1976-01-09 1977-07-15 Hitachi Ltd Plate feed stand

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