JPS60124042U - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS60124042U JPS60124042U JP1079584U JP1079584U JPS60124042U JP S60124042 U JPS60124042 U JP S60124042U JP 1079584 U JP1079584 U JP 1079584U JP 1079584 U JP1079584 U JP 1079584U JP S60124042 U JPS60124042 U JP S60124042U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- lower valve
- lock chamber
- vacuum lock
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の半導体製造装置(イオン注入装置)の要
部断面側面図、第2図及び第3図は第1図の各部分の動
作を説明するための各状態時での部分拡大断面図、第4
図は第1図の一部拡大平面 図の一部拡大平面図、第5
図は本考案の二実施例を示す要部断面側面図、第6図は
第5図の一部拡大平面図、第7図は第6図のX−X線に
沿う部分拡大断面図、第8図は第5図の一部の動作を示
す概略平面図である。
部断面側面図、第2図及び第3図は第1図の各部分の動
作を説明するための各状態時での部分拡大断面図、第4
図は第1図の一部拡大平面 図の一部拡大平面図、第5
図は本考案の二実施例を示す要部断面側面図、第6図は
第5図の一部拡大平面図、第7図は第6図のX−X線に
沿う部分拡大断面図、第8図は第5図の一部の動作を示
す概略平面図である。
Claims (1)
- 傾斜した両側壁にウェーハ入口とウェーハ出口を有する
真空ロック室と、該真空ロック室に内蔵されると共に上
下で対向して対向方向に適宜量欠勤して真空ロック室内
を適宜二分する傾斜した上部及び下部バルブを有し、前
記ウェーハ入口から自重で滑降して搬入された半導体ウ
ェーハを前記下部バルブ上で仮止め搭載してから前記ウ
ェーハ出口より自重で滑降させ搬出するものにおいて、
前記下部バルブ上面に該上面に沿って外部開閉手段によ
り適宜開閉動して下部バルブ上に搬入された半導体ウェ
ーハを適宜弾圧挾持する一対のサイドストッパを設置し
たことを特徴とする半導体製・ 造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1079584U JPS60124042U (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1079584U JPS60124042U (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60124042U true JPS60124042U (ja) | 1985-08-21 |
Family
ID=30492305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1079584U Pending JPS60124042U (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60124042U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285462A (en) * | 1976-01-09 | 1977-07-15 | Hitachi Ltd | Plate feed stand |
-
1984
- 1984-01-27 JP JP1079584U patent/JPS60124042U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5285462A (en) * | 1976-01-09 | 1977-07-15 | Hitachi Ltd | Plate feed stand |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60195982U (ja) | 真空ポンプ装置 | |
| JPS59105036U (ja) | ウエストゲ−トバルブ装置 | |
| JPH0392033U (ja) | ||
| JPS5844835U (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS58195434U (ja) | 半導体樹脂封止装置の金型 | |
| JPS5825325U (ja) | 桁付き門扉 | |
| JPS6334978U (ja) | ||
| JPS5840661U (ja) | グランドパツキンレスストツプバルブ | |
| JPS6125917U (ja) | セパレ−タ装置 | |
| JPS59147731U (ja) | 多段式ロ−ラゲ−ト装置 | |
| JPS5989648U (ja) | ガス吹込用浸漬ノズル | |
| JPS6130601U (ja) | 散薬の供給装置 | |
| JPS5943686U (ja) | 空気補給器 | |
| JPS60159346U (ja) | 脈動負圧発生装置 | |
| JPS60179255U (ja) | 床用吸込具 | |
| JPS59157442U (ja) | コ−クス乾式冷却設備の切出装置 | |
| JPS61182640U (ja) | ||
| JPS58112405U (ja) | グラブバケツト式揚砂機 | |
| JPS60190990U (ja) | コンプレツサのリキツドハンマ−防止装置 | |
| JPS59170966U (ja) | 密閉型蓄電池 | |
| JPS5981209U (ja) | 配電盤用除湿機 | |
| JPS639200U (ja) | ||
| JPS59117683U (ja) | 紡糸用ブレ−カ−プレ−ト | |
| JPS58141730U (ja) | ガス雰囲気調整用密閉容器 | |
| JPS58121355U (ja) | コ−クス乾式冷却塔の装入装置 |