JPS60129130U - 半導体基板洗浄用炭酸ガスバブラ− - Google Patents
半導体基板洗浄用炭酸ガスバブラ−Info
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- JPS60129130U JPS60129130U JP1589784U JP1589784U JPS60129130U JP S60129130 U JPS60129130 U JP S60129130U JP 1589784 U JP1589784 U JP 1589784U JP 1589784 U JP1589784 U JP 1589784U JP S60129130 U JPS60129130 U JP S60129130U
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- JP
- Japan
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- supply pipe
- carbonated water
- water supply
- carbon dioxide
- dioxide gas
- Prior art date
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- Pending
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- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 18
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 title claims 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 title claims 3
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
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Landscapes
- Weting (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
／ ゛添付図面は本考案の一実施例の系統図を示す。
１・・・ＣＯ２溶解槽、２・・・純水供給管、３・・・
ＣＯ２供給管、４・・・欅酸水供給管、５・・・比抵抗
計、６・・・炭酸水供給ポンプ、７・・・炭酸水循環用
配管、１０・・・−圧発生ユニット、ＳＶｌ、ＳＶ２・
・・自動開閉弁。
ＣＯ２供給管、４・・・欅酸水供給管、５・・・比抵抗
計、６・・・炭酸水供給ポンプ、７・・・炭酸水循環用
配管、１０・・・−圧発生ユニット、ＳＶｌ、ＳＶ２・
・・自動開閉弁。
Claims (1)
- （１） 自動開閉弁がその要所に配設されたＣＯ２供
給管と、離水供給管と、該ＣＯ２供給管および純水供給
管がその端部で接続されるＣＯ２溶解槽ど、該ＣＯ２溶
解槽にその一端が接続され、−他端が炭酸水供給ポンレ
ジおよび高圧発生ユニットを介′し５工洗浄液噴射ノズ
ルは接続された炭酸水供給管゛と、一端が炭酸水供給ポ
ンプ以後の前記炭酸水供給管に接続され、他端が前記Ｃ
Ｏ□溶解槽に接続きれた炭酸水循環用配管とづ、これら
炭酸水′・ 供給管もしくは炭酸水循環用配管の、いず
れか−力に配設された比抵抗計とからなり一１該比抵抗
計の計測値に応動して前記ＣＯ９供給管の自動〒τクニ
制御する半導体基板で浄用炭酸力でバ（２）ＣＯ２供給
管の要所にＣＯ。ガス圧力計を配盛した実用新案登録請
求の範囲第１項記載の、半導゛ 体基板洗浄用炭酸ガス
バブラー。 ＝−（３）比抵抗計、水位検知手段お
よびＣＯ２ガス圧力計の計測値が所定の範囲を越えた時
の警報発生 一手段をそれぞれに備えた、実用新案登
録請求の−゛ ′範囲第２項記載の、−牛導体基板洗
浄用炭酸ガスバブラー。 −
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1589784U JPS60129130U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | 半導体基板洗浄用炭酸ガスバブラ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1589784U JPS60129130U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | 半導体基板洗浄用炭酸ガスバブラ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60129130U true JPS60129130U (ja) | 1985-08-30 |
Family
ID=30502159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1589784U Pending JPS60129130U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | 半導体基板洗浄用炭酸ガスバブラ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60129130U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022026660A (ja) * | 2020-07-31 | 2022-02-10 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1589784U patent/JPS60129130U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022026660A (ja) * | 2020-07-31 | 2022-02-10 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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