JPS60129249A - ハネカム構造体 - Google Patents
ハネカム構造体Info
- Publication number
- JPS60129249A JPS60129249A JP23846283A JP23846283A JPS60129249A JP S60129249 A JPS60129249 A JP S60129249A JP 23846283 A JP23846283 A JP 23846283A JP 23846283 A JP23846283 A JP 23846283A JP S60129249 A JPS60129249 A JP S60129249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- honeycomb structure
- holes
- shielding plate
- shielding plates
- shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明はシンチレーションカメラのコリメータとして
使用されるハネカム構造体に関する。
使用されるハネカム構造体に関する。
(ロ)従来技術
従来のハネカム構造体は例えば、特開昭52−1338
72、特開昭53−1.2C179、特開昭55−7f
i72によって示されているように、鉛合金よりなる小
径のパイプを束ねた構造になっている。・かかる、ハネ
カム構造体は、鉛合金が被着されたアルミニウム芯祠を
束ね、軸方向に直交する方1ii44と加圧して接着固
定し、そののち、芯材を溶解すること等により形成され
るものである。
72、特開昭53−1.2C179、特開昭55−7f
i72によって示されているように、鉛合金よりなる小
径のパイプを束ねた構造になっている。・かかる、ハネ
カム構造体は、鉛合金が被着されたアルミニウム芯祠を
束ね、軸方向に直交する方1ii44と加圧して接着固
定し、そののち、芯材を溶解すること等により形成され
るものである。
しかしながら、この種のハネカム構造体は、芯線の接着
時の加圧力が外周部分に集中しやすいため、前記部分の
芯線のズレ、即ぢ、透過孔のピ・ノチズレを生じ易い。
時の加圧力が外周部分に集中しやすいため、前記部分の
芯線のズレ、即ぢ、透過孔のピ・ノチズレを生じ易い。
その結果、均一なγ線が該構造体に入射しても、これに
対向して設置されるγ線検知器の検知出力は位置的に不
均一になる。このように、従来のハネカム構造体は、透
過孔のビソチズレにより放射線の検知出力が不均一にな
りやずいという欠点がある。
対向して設置されるγ線検知器の検知出力は位置的に不
均一になる。このように、従来のハネカム構造体は、透
過孔のビソチズレにより放射線の検知出力が不均一にな
りやずいという欠点がある。
また、従来のハネカム構造体は、芯線を引抜いて鉛合金
を被着するだめのダイスを必要とする。
を被着するだめのダイスを必要とする。
このダイスは比較的高価であるため、少量生産の場合は
、製品単価が上昇するという問題がある。
、製品単価が上昇するという問題がある。
(ハ)目的
この発明は、透過孔のピッチズレが発生し難(、比較的
少量生産にも適したハネカム構造体を提供することを目
的としている。
少量生産にも適したハネカム構造体を提供することを目
的としている。
に)構成
この発明に係るハネカム構造体は、複数の透過孔がエツ
チングによって開設され、放射線を吸収しやすい月料か
らなる複数枚の遮蔽板を、各遮蔽板の透過孔が連通ずる
ように重ね合わせて固着したごとを特徴としている。
チングによって開設され、放射線を吸収しやすい月料か
らなる複数枚の遮蔽板を、各遮蔽板の透過孔が連通ずる
ように重ね合わせて固着したごとを特徴としている。
(ボ)実施例
災止桝土
第1図はこの発明に係るハネカム構造体の第1の実施例
を示す一部破断斜視図である。
を示す一部破断斜視図である。
同図において、10は本実施例に係る平行孔型コリメー
タ用のハネカム構造体である。
タ用のハネカム構造体である。
11は0.1〜0..5 +n+n厚の遮蔽板であって
、γ線などの放射線をよく吸収する鉛合金よりなる。遮
蔽板11にはエツチングによって例えば、六角形の透過
孔12が同一径および同一ピンチで開設されている。遮
蔽板11の外周に形成される半円状の切り火き13は、
後述するように各遮蔽板11の位置合わせに用いられる
。
、γ線などの放射線をよく吸収する鉛合金よりなる。遮
蔽板11にはエツチングによって例えば、六角形の透過
孔12が同一径および同一ピンチで開設されている。遮
蔽板11の外周に形成される半円状の切り火き13は、
後述するように各遮蔽板11の位置合わせに用いられる
。
ハネカム構造体IOは各透過孔12が上下に整然とそろ
うように所定枚数の遮蔽板11を重ね合わせて固着する
ことによりか形成される。
うように所定枚数の遮蔽板11を重ね合わせて固着する
ことによりか形成される。
次に、第1図に示したハネカム構造体10の型造方法を
第2図に基づいて詳説する。
第2図に基づいて詳説する。
20は周辺部に4本のピン21が立設された組立治具で
ある。なお、前記ピン21の内の1本は、’yj!L
画板11などの挿入ミスを防止するため、対向するピン
に対し若干偏って設けられている。
ある。なお、前記ピン21の内の1本は、’yj!L
画板11などの挿入ミスを防止するため、対向するピン
に対し若干偏って設けられている。
30.30“はステンレス板などからなるカバーで〒
ある。このカバー30.301は遮蔽板11と同一形状
に形成される。カバー30°は前記組立治具2Oのピン
21に嵌め込まれる。次に、所定枚数の遮蔽板11が、
さらに、その上からカバー30が、それぞれピン21に
嵌め込まれる。
に形成される。カバー30°は前記組立治具2Oのピン
21に嵌め込まれる。次に、所定枚数の遮蔽板11が、
さらに、その上からカバー30が、それぞれピン21に
嵌め込まれる。
40は遮蔽板11よりも若干径大の内径を有する筒体4
1にフランジ42が周設されたホルダである。前記筒体
41の内面には、前記ピン21と接する半円形の凹溝4
3が削設されている。ボルダ40は組立治具2Oのピン
21に嵌め込まれて、前記遮蔽板11を保持する。した
がって、筒体41は、遮蔽板11及びカバー30.31
“を積み重ねられたと略等しい高さに形成される。
1にフランジ42が周設されたホルダである。前記筒体
41の内面には、前記ピン21と接する半円形の凹溝4
3が削設されている。ボルダ40は組立治具2Oのピン
21に嵌め込まれて、前記遮蔽板11を保持する。した
がって、筒体41は、遮蔽板11及びカバー30.31
“を積み重ねられたと略等しい高さに形成される。
50ばカバー30の上から取りつげられる押さえ板であ
る。押さえ板50には、遮蔽板11の透過孔12に対応
したガス珈き孔51と、ピン21が挿入される挿入孔5
2とが開設されている。
る。押さえ板50には、遮蔽板11の透過孔12に対応
したガス珈き孔51と、ピン21が挿入される挿入孔5
2とが開設されている。
前記組立治具20、カバー30.3O“ホルダ40、押
さえ板50にば離型剤が塗布される。
さえ板50にば離型剤が塗布される。
なお、第2図においては略示したが1、遮蔽板11、カ
バー30.30′、押さえ板50に設けられる透過孔1
2などは、各部の鎖線領域内全面に形成されるものであ
る。
バー30.30′、押さえ板50に設けられる透過孔1
2などは、各部の鎖線領域内全面に形成されるものであ
る。
第3図は遮蔽板11が組立治具20に組め込まれた状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
しかして、遮蔽板11などが組み込まれた組立冶具20
は、図示しない真空室に入れられる。そして、押さえ板
50を例えば組立治具20に諦め付けるごとにより押圧
した状態で、積み重ねされた遮蔽J)Mllに接着性の
強いエポキシワニスなどを真空含浸する。
は、図示しない真空室に入れられる。そして、押さえ板
50を例えば組立治具20に諦め付けるごとにより押圧
した状態で、積み重ねされた遮蔽J)Mllに接着性の
強いエポキシワニスなどを真空含浸する。
真空含浸の後、遮蔽板11の透過孔12内などにあに余
分のワニスがエアーの吹きつりなどによって除去され、
加熱硬化によって各遮蔽板11が接着される。
分のワニスがエアーの吹きつりなどによって除去され、
加熱硬化によって各遮蔽板11が接着される。
硬化後、押さえ板50、ボルダ40、カバー30.30
′、ピン21が取り外される。ピン21が取り外された
遮蔽板11の切り欠き13の端面には、接着剤を袖先し
ておくことが望ましい。
′、ピン21が取り外される。ピン21が取り外された
遮蔽板11の切り欠き13の端面には、接着剤を袖先し
ておくことが望ましい。
なお、遮蔽板11相互の接着は、加熱、加圧による冶金
工学的な結合で行うものであっ゛(もよい。
工学的な結合で行うものであっ゛(もよい。
また、透過孔12相互間の隔壁寸法が小さく、加圧した
ときに、透過孔が変形するおそれのあるときは、前記透
過孔に内接するように中空あるいは実体のアルミニウム
線を組立治具等に取りつげ、ワニスの含浸・硬化後、こ
れを溶解し−ζもよい。
ときに、透過孔が変形するおそれのあるときは、前記透
過孔に内接するように中空あるいは実体のアルミニウム
線を組立治具等に取りつげ、ワニスの含浸・硬化後、こ
れを溶解し−ζもよい。
さらに、ピン21を遮蔽板11から取り外すことなく、
これを根元から切断して、遮蔽板11に取りつけた状態
のままで残してもよい。
これを根元から切断して、遮蔽板11に取りつけた状態
のままで残してもよい。
尖ル桝工
さらに、入射放射線に密度差がある場合に、前記濃度差
に応じて透過孔の開口面積、あるいは配列ピンチを位置
的に適宜に設定するハネカム構造体も考えられる。即ち
、密度が低い放射線が入射する領域の透過孔の開口面積
の比率を他の部分よりも大きくすることにより、前記入
射放射線の密度差を補正できるから、極めて精度の高い
放射線検出が可能になる。
に応じて透過孔の開口面積、あるいは配列ピンチを位置
的に適宜に設定するハネカム構造体も考えられる。即ち
、密度が低い放射線が入射する領域の透過孔の開口面積
の比率を他の部分よりも大きくすることにより、前記入
射放射線の密度差を補正できるから、極めて精度の高い
放射線検出が可能になる。
なお、以上の実施例の説明では、透過孔を六角形として
説明したが、これは三角形、四角形などのその他の形状
であってもよいことは勿論である。
説明したが、これは三角形、四角形などのその他の形状
であってもよいことは勿論である。
(へ)効果
この発明に係るハネカム構造体は、複数の透過孔がエツ
チングによって開設された放射線を吸収しやすい月料か
らなる複数枚の遮蔽板を、各遮蔽板の透過孔か連通ずる
ように市ね合わゼて固着したものであるから、固着時の
加圧なとによって発生ずる透過孔のピッチスルを防止す
ることができる。
チングによって開設された放射線を吸収しやすい月料か
らなる複数枚の遮蔽板を、各遮蔽板の透過孔か連通ずる
ように市ね合わゼて固着したものであるから、固着時の
加圧なとによって発生ずる透過孔のピッチスルを防止す
ることができる。
また、この発明は、従来のハネカッ、+111造体のよ
うに、芯線に鉛合金を被着するためのダイスなとの比較
的高価につく設備を要しないから、小室/:1産にも適
したものである。
うに、芯線に鉛合金を被着するためのダイスなとの比較
的高価につく設備を要しないから、小室/:1産にも適
したものである。
第1図はこの発明に係るハネカッ、構造体の第1の実施
例の示す一部破W1斜視図、第2図及び第3図は第1図
に示したハネカム4111造体の製造方法を示す説明図
である。 1O1・・・ハネカム構造体、11、・・・遮蔽1反、
20・・・組立治具、30・・・カバー、4O・・・ボ
ルダ、50・・・押さえ板。 特許出願人 株式会社 島汁製作所 代理人 弁理士 大 西 孝 治
例の示す一部破W1斜視図、第2図及び第3図は第1図
に示したハネカム4111造体の製造方法を示す説明図
である。 1O1・・・ハネカム構造体、11、・・・遮蔽1反、
20・・・組立治具、30・・・カバー、4O・・・ボ
ルダ、50・・・押さえ板。 特許出願人 株式会社 島汁製作所 代理人 弁理士 大 西 孝 治
Claims (3)
- (1)複数の透過孔がエツチングによって開設され、放
射線を吸収しやすい材料からなる複数枚の遮蔽板を、各
遮蔽板の透過孔が連通ずるように重ね合わせて固着した
ことを特徴とするハネカム構造体。 - (2)前記複数の遮蔽板は、同一寸法の透過孔が同一ピ
ンチで形成され1.且つ、平面的に積み重ねられるもの
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のハ
ネカム構造体。 - (3)前記複数の遮蔽板は、位置的に密度の異なる放射
線が入射した場合に均一の検知出力を得られるように、
前記密度差に応じて異なる径およびピッチの透過孔が形
成されたものであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載のハネカム構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23846283A JPS60129249A (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | ハネカム構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23846283A JPS60129249A (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | ハネカム構造体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60129249A true JPS60129249A (ja) | 1985-07-10 |
Family
ID=17030583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23846283A Pending JPS60129249A (ja) | 1983-12-17 | 1983-12-17 | ハネカム構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60129249A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115513027A (zh) * | 2021-06-22 | 2022-12-23 | 东京毅力科创株式会社 | 排气网的制造方法、等离子体处理装置和排气网 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5467532A (en) * | 1977-11-10 | 1979-05-31 | Zenbee Taniguchi | Fabrication of microporous electrode for electric dischage processing |
-
1983
- 1983-12-17 JP JP23846283A patent/JPS60129249A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5467532A (en) * | 1977-11-10 | 1979-05-31 | Zenbee Taniguchi | Fabrication of microporous electrode for electric dischage processing |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115513027A (zh) * | 2021-06-22 | 2022-12-23 | 东京毅力科创株式会社 | 排气网的制造方法、等离子体处理装置和排气网 |
| JP2023002250A (ja) * | 2021-06-22 | 2023-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気網の製造方法、プラズマ処理装置および排気網 |
| CN115513027B (zh) * | 2021-06-22 | 2025-10-28 | 东京毅力科创株式会社 | 排气网的制造方法、等离子体处理装置和排气网 |
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