JPS60136100A - Prom用短絡検出回路 - Google Patents
Prom用短絡検出回路Info
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- JPS60136100A JPS60136100A JP59141581A JP14158184A JPS60136100A JP S60136100 A JPS60136100 A JP S60136100A JP 59141581 A JP59141581 A JP 59141581A JP 14158184 A JP14158184 A JP 14158184A JP S60136100 A JPS60136100 A JP S60136100A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
- G11C29/025—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in signal lines
-
- G—PHYSICS
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- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
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- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
-
- G—PHYSICS
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- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
- G11C2029/5006—Current
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプログラム可能読取専用メモリ(以下F RO
Mという。)における短絡または漏洩接触を検出する回
路に関するものである。
Mという。)における短絡または漏洩接触を検出する回
路に関するものである。
プログラム可能読取専用メモリ(FROM )はプログ
ラミングプロセスによりメモリの各メモリセル内に情報
を永久に記憶させるようにしたメモリである。この場合
、プログラミングプロセスは、ROM (読取専用メモ
リ)のプログラミングが製造工程中にメーカーによりな
されるのに対し、製造完了後ユーザーによりなされる。
ラミングプロセスによりメモリの各メモリセル内に情報
を永久に記憶させるようにしたメモリである。この場合
、プログラミングプロセスは、ROM (読取専用メモ
リ)のプログラミングが製造工程中にメーカーによりな
されるのに対し、製造完了後ユーザーによりなされる。
したがって、PROM内の短絡または漏洩接触は、現在
の設計によっては、製造者が出荷前に検出することはで
きない。このような短絡または漏洩接触がある場合は、
ユーザーがFROMをプログラミングしようとしたとき
、1つまたはそれ以上のメモリセルがプログラミングさ
れないいわゆるアンダープログラミングが起ったり、ま
た選択したメモリセルにプログラミング電流を供給した
際、1つまたはそれ以上の異なるセルが慧図的でなしに
・プログラミングされるいわゆるオーバープログラミン
グが起る可能性がある。このようなFROMのプログラ
ミングは通常、エンドユーザーにより行われるので、製
造者゛は、ユーザーがPROKを排棄したときだけしか
不良製品であることが分らないという欠点があった。
の設計によっては、製造者が出荷前に検出することはで
きない。このような短絡または漏洩接触がある場合は、
ユーザーがFROMをプログラミングしようとしたとき
、1つまたはそれ以上のメモリセルがプログラミングさ
れないいわゆるアンダープログラミングが起ったり、ま
た選択したメモリセルにプログラミング電流を供給した
際、1つまたはそれ以上の異なるセルが慧図的でなしに
・プログラミングされるいわゆるオーバープログラミン
グが起る可能性がある。このようなFROMのプログラ
ミングは通常、エンドユーザーにより行われるので、製
造者゛は、ユーザーがPROKを排棄したときだけしか
不良製品であることが分らないという欠点があった。
第1図は標準的な従来技術によるFROMを示すもので
、メモリはNPN形トランジスタの方形状アレイX・・
およびワード線Wjとピント線B irl、Il Gこ
J 接続した関連のヒユーズfjjを含む。ただし、i−1
+ −−−r N s j= 1、−−−−Mとする。
、メモリはNPN形トランジスタの方形状アレイX・・
およびワード線Wjとピント線B irl、Il Gこ
J 接続した関連のヒユーズfjjを含む。ただし、i−1
+ −−−r N s j= 1、−−−−Mとする。
プログラミングを行う前は、トランジスタX 、Jおよ
びそれに関連するヒユーズfijを含む各メモリセルは
論理値″0″を記憶している。換ゴすれば、ヒユーズf
ijは開路(オーブン・・・断線)状態にない。
びそれに関連するヒユーズfijを含む各メモリセルは
論理値″0″を記憶している。換ゴすれば、ヒユーズf
ijは開路(オーブン・・・断線)状態にない。
かくして、NPN形トランジスタのベース・エミッタ接
合に漏洩電流があったり、ビット線とワード線間に短絡
があった場合には、プログラミング電流をヒユーズに供
給しようとしても、ヒユーズがオーブン状態にならない
可能性がある。多くの・FROMで使用されている標準
的なチタニウム・タングステン(Tie)ヒユーズの場
合は、ヒユーズをオーブン状態にするのに必要な約5
o mlの電流を生じさせるには、ヒユーズの両端に約
8vの電圧を必要とする。ところが、FROMの通常作
動(読出し作動)中における最大電源電圧(voo)は
約5.5vであり、したがって、ヒユーズの両端には、
ヒユーズを開路状態とするのに必要な50mAの電流を
生じさせるに充分な電圧は存在しなしゝO したがって、プログラミング手順の1つのステップとし
て、電源電圧■。0を、PROMから読出している間に
使用するレベルより充分高い約12iVに上昇させる必
要がある。アレイトランジスタX土jを含むプログラミ
ングしようとするメモリセルはワード線Wjおよびビッ
ト線Biを選定することにより選択される。この場合、
選定されたワード線、したがって、選定されたトランジ
スタXijのベースは、内部クランピング回路(図示を
省略)により決められる約8vの電圧レベルとなり、残
、りの選択されないワード線は約1Vの’4u・レベル
1にある。選定されたアレイトランジスタX1jのベー
ス・エミッタ電圧vBEは5 (l mAのベースエミ
ッタ電流の場合、約1.5■である。したがって、関連
のヒユーズfi3の一端に接続したアレイトランジスタ
Xijのエミッタは約8 V −1,5V−約6.5v
の電圧にある。プログラミング回路(図示を省略)は、
ヒユーズをオーブン状態にして論理値″′1”を記憶さ
せる場合、ヒユーズfljの他端の選定されたビット線
B土の電圧を約1.5 Vに保・持する。したがって、
ヒユーズfエコの両端のmlEは、約6.5−1.5
V =約5vとなり、ヒユーズをオーブン状態にし、5
01nAより大きい電流を生じさせ、かくして論理値″
1”を記1.はさせる。
合に漏洩電流があったり、ビット線とワード線間に短絡
があった場合には、プログラミング電流をヒユーズに供
給しようとしても、ヒユーズがオーブン状態にならない
可能性がある。多くの・FROMで使用されている標準
的なチタニウム・タングステン(Tie)ヒユーズの場
合は、ヒユーズをオーブン状態にするのに必要な約5
o mlの電流を生じさせるには、ヒユーズの両端に約
8vの電圧を必要とする。ところが、FROMの通常作
動(読出し作動)中における最大電源電圧(voo)は
約5.5vであり、したがって、ヒユーズの両端には、
ヒユーズを開路状態とするのに必要な50mAの電流を
生じさせるに充分な電圧は存在しなしゝO したがって、プログラミング手順の1つのステップとし
て、電源電圧■。0を、PROMから読出している間に
使用するレベルより充分高い約12iVに上昇させる必
要がある。アレイトランジスタX土jを含むプログラミ
ングしようとするメモリセルはワード線Wjおよびビッ
ト線Biを選定することにより選択される。この場合、
選定されたワード線、したがって、選定されたトランジ
スタXijのベースは、内部クランピング回路(図示を
省略)により決められる約8vの電圧レベルとなり、残
、りの選択されないワード線は約1Vの’4u・レベル
1にある。選定されたアレイトランジスタX1jのベー
ス・エミッタ電圧vBEは5 (l mAのベースエミ
ッタ電流の場合、約1.5■である。したがって、関連
のヒユーズfi3の一端に接続したアレイトランジスタ
Xijのエミッタは約8 V −1,5V−約6.5v
の電圧にある。プログラミング回路(図示を省略)は、
ヒユーズをオーブン状態にして論理値″′1”を記憶さ
せる場合、ヒユーズfljの他端の選定されたビット線
B土の電圧を約1.5 Vに保・持する。したがって、
ヒユーズfエコの両端のmlEは、約6.5−1.5
V =約5vとなり、ヒユーズをオーブン状態にし、5
01nAより大きい電流を生じさせ、かくして論理値″
1”を記1.はさせる。
これに対して、ヒユーズfijを開路状態とせず4メモ
リセルに論理値” u”を記憶させようとする場合は、
ビット線は約7vに保持され、したがって、ヒユーズf
ljの両端の電圧降下はヒユーズをオーブンさせる電流
を生じさせるには不充分である。
リセルに論理値” u”を記憶させようとする場合は、
ビット線は約7vに保持され、したがって、ヒユーズf
ljの両端の電圧降下はヒユーズをオーブンさせる電流
を生じさせるには不充分である。
アレイトランジスタXijは1.トランジスタXj(″
ワードドライバ′″)を介してそれに供給されるベース
電流を増幅することにより、50mAのプログラミング
電流を関連のヒユーズfij に供給する。プログラミ
ングしようとするアレイトランジスタX1jのエミッタ
・ベース(E ’B )接合が短絡しているか、充分大
きい漏れ電流を有している場合は、ワードドライバxj
により供給される駆動電流はヒユーズをオープンさせる
のに充分な電流を与える程大きくはない。
ワードドライバ′″)を介してそれに供給されるベース
電流を増幅することにより、50mAのプログラミング
電流を関連のヒユーズfij に供給する。プログラミ
ングしようとするアレイトランジスタX1jのエミッタ
・ベース(E ’B )接合が短絡しているか、充分大
きい漏れ電流を有している場合は、ワードドライバxj
により供給される駆動電流はヒユーズをオープンさせる
のに充分な電流を与える程大きくはない。
他方において、アレイトランジスタのベースと関連のビ
ット線間の短絡は同じビット線上の他のセルを不所望に
プログラミングする危険性を有する。いま、例えば、ト
ランジスタX工M(第1図参照)のベースとピット線B
□間に短絡があるものとする。ここで、トランジスタX
NLをプログラミングしようとして、ワード線W□を高
レベルにした場合は、次のような通路、すなわち、ワー
ド線W□からトランジスタX□、のベース・エミッタ接
合を通り、ヒユーズf□、を通ってビット線B□に、至
り、ビットMB□からビット線B0とトランジスタX工
Mのベース間の短絡を経由してデコードダイオードDX
に至り、さらに、Rtf記ダイオードDM+からバッフ
ァトランジスタF0を介して大地電位に至る通路に沿っ
て流れる電流により、ヒユーズf11は不本意に開路状
態となり、かくしてヒユーズf11の不所望のプログラ
ミング(オープニング)が行われる。
ット線間の短絡は同じビット線上の他のセルを不所望に
プログラミングする危険性を有する。いま、例えば、ト
ランジスタX工M(第1図参照)のベースとピット線B
□間に短絡があるものとする。ここで、トランジスタX
NLをプログラミングしようとして、ワード線W□を高
レベルにした場合は、次のような通路、すなわち、ワー
ド線W□からトランジスタX□、のベース・エミッタ接
合を通り、ヒユーズf□、を通ってビット線B□に、至
り、ビットMB□からビット線B0とトランジスタX工
Mのベース間の短絡を経由してデコードダイオードDX
に至り、さらに、Rtf記ダイオードDM+からバッフ
ァトランジスタF0を介して大地電位に至る通路に沿っ
て流れる電流により、ヒユーズf11は不本意に開路状
態となり、かくしてヒユーズf11の不所望のプログラ
ミング(オープニング)が行われる。
従前技術によるFROMは、このような短絡の存在を検
出する回路を有しておらず、したがって、FROMは標
準的にはユーザー〇こよりプログラミングされているた
め、プログラミングされていない不良品ユニットがユー
ザーに出荷される可能性がある。この問題は、’ RO
M (読取専用メモリ)の場合には発生しない。すなわ
ち、ROMは製造工程の一部として、マスクパターンO
こより標準的にプログラミングされるので、出荷前に製
造者によってテストすることができることによる。
出する回路を有しておらず、したがって、FROMは標
準的にはユーザー〇こよりプログラミングされているた
め、プログラミングされていない不良品ユニットがユー
ザーに出荷される可能性がある。この問題は、’ RO
M (読取専用メモリ)の場合には発生しない。すなわ
ち、ROMは製造工程の一部として、マスクパターンO
こより標準的にプログラミングされるので、出荷前に製
造者によってテストすることができることによる。
本発明はプログラム可能読取専用メモリPROM内に配
置した故障(または短絡)検出回路であつ・・て、プロ
グラミングを行う前に、各メモ1ノセルに所定の正電圧
を印加して、ビット線とワード線間の短絡ならびにメモ
リセル内の短絡またGま漏洩電流を検出することを可能
にした短絡検出回路を提供することを目的とする。
置した故障(または短絡)検出回路であつ・・て、プロ
グラミングを行う前に、各メモ1ノセルに所定の正電圧
を印加して、ビット線とワード線間の短絡ならびにメモ
リセル内の短絡またGま漏洩電流を検出することを可能
にした短絡検出回路を提供することを目的とする。
本発明によるときは、ビット線に流入する電流を測定す
ることにより、プログラミングを行っていないデバイス
に関し、製造者が出荷前昏こ、メモリセル内の短絡また
は漏洩接触を検出すること力5できる。また、本発明に
よるときは、メモリの通常作動中(読取作動中)、故障
(短絡)検出回路をメモリから隔離させるようにしてお
り、力)〈シて、デバイスの作動に悪影響を及ぼざなし
Aようにしている。
ることにより、プログラミングを行っていないデバイス
に関し、製造者が出荷前昏こ、メモリセル内の短絡また
は漏洩接触を検出すること力5できる。また、本発明に
よるときは、メモリの通常作動中(読取作動中)、故障
(短絡)検出回路をメモリから隔離させるようにしてお
り、力)〈シて、デバイスの作動に悪影響を及ぼざなし
Aようにしている。
以下図面により本発明を説明する。
以下の記述は標準的実施例として、NPN形トランジス
タおよび関連のアドレッシング回路を含むメモリアレイ
に関してのものであるが、これ以外に種々の他の実施P
ljが可能であること明ら力)であるO 9 第2図はヒユーズfijを介してビット線B工に接
続したエミッタと、ワード線Wjに接続したベースとを
含むNPN形トランジスタXijのメモリアレイを示す
。ただし、i、=i 、 −−−N ;j =1 、−
−− Mとする。
タおよび関連のアドレッシング回路を含むメモリアレイ
に関してのものであるが、これ以外に種々の他の実施P
ljが可能であること明ら力)であるO 9 第2図はヒユーズfijを介してビット線B工に接
続したエミッタと、ワード線Wjに接続したベースとを
含むNPN形トランジスタXijのメモリアレイを示す
。ただし、i、=i 、 −−−N ;j =1 、−
−− Mとする。
メモリアレイ内で使用するヒユーズfijは任意の一般
の形式のものでよく、例えば、チタニウム・タングステ
ン、ニッケル・プログラム、ドーピングを行った多結晶
シリコン、金属合金多結晶シリコン、半導体接合ヒユー
ズ等が種々の実施例に使用されている。
の形式のものでよく、例えば、チタニウム・タングステ
ン、ニッケル・プログラム、ドーピングを行った多結晶
シリコン、金属合金多結晶シリコン、半導体接合ヒユー
ズ等が種々の実施例に使用されている。
各ビット線BlはエミッタEj−sコレクタGiおよび
ベースBiを有するダイオード接続トランジスタDiの
エミッタに接続し、前記トランジスタD1のコレクタC
・およびベースBiを試験電圧受信用共通端子Tに接続
し、前記トランジスタDiのエミッタEiをY−デコー
ドトランジスタYiのコレクタに接続する。ただし、こ
こで1=1゜−m−Nとする。
ベースBiを有するダイオード接続トランジスタDiの
エミッタに接続し、前記トランジスタD1のコレクタC
・およびベースBiを試験電圧受信用共通端子Tに接続
し、前記トランジスタDiのエミッタEiをY−デコー
ドトランジスタYiのコレクタに接続する。ただし、こ
こで1=1゜−m−Nとする。
各ワード線Wjは、エミッタEXj1 コレクタOxj
、およびベースBXjを有するX−デコードトランジ。
、およびベースBXjを有するX−デコードトランジ。
スタXiのエミッタに接続するほか、デコードダイオー
ドDjのアノードにも接続し、前記デコードダイオード
のカソードを入力バッファの出力トランジスタF□のコ
レクタに接続し、前記出力トランジスタF0のエミッタ
を大地電位に接続するとともに、前記出力トランジスタ
のベースを入カバソファ回路の残部(図示を省略)に接
続する。
ドDjのアノードにも接続し、前記デコードダイオード
のカソードを入力バッファの出力トランジスタF□のコ
レクタに接続し、前記出力トランジスタF0のエミッタ
を大地電位に接続するとともに、前記出力トランジスタ
のベースを入カバソファ回路の残部(図示を省略)に接
続する。
ここで、j=x、−−−uとする。
また、各トランジスタXj (j” 1 * −一−M
)にベース駆動を与えるため、前記各トランジスタX
Jのコレクタ・ベース接続間には定電流源0Sj(j
= 1 、−−− M )を接続する。
)にベース駆動を与えるため、前記各トランジスタX
Jのコレクタ・ベース接続間には定電流源0Sj(j
= 1 、−−− M )を接続する。
各ベースBx・はダイオードD′1(j=11−m−M
)のアノードに接続し、前記ダイオードDIJのカソー
ドをダイオードDjのカソードに接続する。
)のアノードに接続し、前記ダイオードDIJのカソー
ドをダイオードDjのカソードに接続する。
また、各クランプトランジスタO4のエミッタをビット
線B工に接続する。ここで、i=1.−−−Nとする。
線B工に接続する。ここで、i=1.−−−Nとする。
本発明の一実施例においては、試験電圧受信用、端子T
とダイオードPD、のアノード間にIOKΩの抵抗Rを
接続し、前記ダイオードPD、のカソードをダイオード
゛PD、のアノードに接続し、前記ダイオードPD、の
カソードを大地電位に接続する。
とダイオードPD、のアノード間にIOKΩの抵抗Rを
接続し、前記ダイオードPD、のカソードをダイオード
゛PD、のアノードに接続し、前記ダイオードPD、の
カソードを大地電位に接続する。
抵抗Rの抵抗値はダイオードPD、およびPD、を通っ
て流れる電流を適当に制限するようこれを選定する。
て流れる電流を適当に制限するようこれを選定する。
本発明の他の実施例においては、ダイオードPD2のカ
ソードを大地′電位以外の第2電圧を受信する手段Sに
接続するようにしている。
ソードを大地′電位以外の第2電圧を受信する手段Sに
接続するようにしている。
第2図示メモリアレイAにおける短絡または―洩の試験
は次のようにして行う。
は次のようにして行う。
まず最初に、PNP形トランジスタ0i(土=1、−〜
−N)のベース上の電圧を、トランジスタをターンオン
させるに必要な電圧以上に高めることGこよりクランプ
トランジスタC□をターンオフさせる。
−N)のベース上の電圧を、トランジスタをターンオン
させるに必要な電圧以上に高めることGこよりクランプ
トランジスタC□をターンオフさせる。
次に、NPN形Y−デコードトランジスタY工(i=1
.−−−N)のベース電圧を、トランジスタをターンオ
フさせるのに必要な電圧以下の値に・低下させることに
より、トランジスタYiをターンオフさせ、ビット線B
0ないしBNの任意のビット線が選択されないようにす
る。
.−−−N)のベース電圧を、トランジスタをターンオ
フさせるのに必要な電圧以下の値に・低下させることに
より、トランジスタYiをターンオフさせ、ビット線B
0ないしBNの任意のビット線が選択されないようにす
る。
ついで、すべてのワード線上の電圧をデコードダイオー
ドD・(コ−1’、 −−−M )および入カッくソフ
ァ(図示を省略)の出力トランジスタF0を介して低下
させることGこより、X−デコードを不能動化(ディス
エーブル)にする。
ドD・(コ−1’、 −−−M )および入カッくソフ
ァ(図示を省略)の出力トランジスタF0を介して低下
させることGこより、X−デコードを不能動化(ディス
エーブル)にする。
次に、端子Tに試験電圧を供給し、最後に、端子Tに流
入する電流を測定して、端子TからFROMアレイを通
して流れる電流を計算する。
入する電流を測定して、端子TからFROMアレイを通
して流れる電流を計算する。
第2図に示す実施例に関し試験を行うため、端子Tには
正の8vを供給する。トランジスタXijの1つもしく
は1つのワード線と1つのビット線間に短絡が存在して
いるか否かは端子Tに流入する電流の量により決定され
る。
正の8vを供給する。トランジスタXijの1つもしく
は1つのワード線と1つのビット線間に短絡が存在して
いるか否かは端子Tに流入する電流の量により決定され
る。
短絡または漏洩のない良品のメモリの場合は、電流は端
子からIOKΩの抵抗Rを通り、ダイオードPD およ
びPD2を通って大地電位に流れる。
子からIOKΩの抵抗Rを通り、ダイオードPD およ
びPD2を通って大地電位に流れる。
順方向バイアスを与えたダイオードPD、および、 P
D、の各々に0.8vの電圧降下があるものとすれば、
8■において測定した端子に流入する電流の値は、 となる。
D、の各々に0.8vの電圧降下があるものとすれば、
8■において測定した端子に流入する電流の値は、 となる。
第8図は短絡または漏洩のない場合の第2図示回路に対
するI−V特性曲線を示し、抵抗Rの値の逆数に等しい
勾配を有する。′電流は、端子Tに供給される電圧がダ
イオードPD およびPD、をり一ンオンするに必要な
最小電圧である約1.6 Vになったとき端子Tに流入
し始める。
するI−V特性曲線を示し、抵抗Rの値の逆数に等しい
勾配を有する。′電流は、端子Tに供給される電圧がダ
イオードPD およびPD、をり一ンオンするに必要な
最小電圧である約1.6 Vになったとき端子Tに流入
し始める。
アレイ内の任意のトランジスタX1jにエミッタ・ベー
ス(EB)間に漏洩電流はあるが、アレイ内にEB短絡
または金属短絡がない場合にも、電流は端子Tからダイ
オードD□、トランジスタX4j内のEB漏電、デコー
ドダイオードD3および入力バッファF0を通して大地
電位に流れる。この場合、端子Tに流入する漏洩電流の
大きさは、どれだけの数のアレイトランジスタが漏洩を
生じて・いるか、各アレイトランジスタの漏洩電流がど
の位かにより定まる。
ス(EB)間に漏洩電流はあるが、アレイ内にEB短絡
または金属短絡がない場合にも、電流は端子Tからダイ
オードD□、トランジスタX4j内のEB漏電、デコー
ドダイオードD3および入力バッファF0を通して大地
電位に流れる。この場合、端子Tに流入する漏洩電流の
大きさは、どれだけの数のアレイトランジスタが漏洩を
生じて・いるか、各アレイトランジスタの漏洩電流がど
の位かにより定まる。
第4図は、1つまたはそれ以上のアレイトランジスタx
ijにEB間漏洩があるが、アレイ内に肋間短絡または
金属短絡がない場合の第2図示回路の標準的I−V特性
曲線を示す。また、第4図は、端子T&こ流入する電流
が良品メモリに対するものより大きいこと以外は第3図
と同様で、特性曲線のスロープはもはや抵抗Rの値の逆
数に等しくはなくなる。すなわち、この場合、勾配は(
1/:aL十(1/′Rよ)に等しくなる。ここで、R
工は端子Tから1つまたはそれ以上の@電を介してバッ
ファトランジスタF工から大地電位に至る並列電流通路
の実効抵抗である。この場合にも、端子Tに供給される
電圧が、ダイオードDiおよびデコードダイオードDj
をターンオンさせ、トランジスタF□の飽和電圧を与え
るに必要な最小電圧、もしくは、ダイオードPD、およ
びPD2をターンオンさせるに必要な最小電圧である約
1.6vになったとき、電流が流れ始める。この柚の漏
洩はプログラム生産、性およびTAA (アドレスアク
セスタイム)に影響を与える可能性がある。
ijにEB間漏洩があるが、アレイ内に肋間短絡または
金属短絡がない場合の第2図示回路の標準的I−V特性
曲線を示す。また、第4図は、端子T&こ流入する電流
が良品メモリに対するものより大きいこと以外は第3図
と同様で、特性曲線のスロープはもはや抵抗Rの値の逆
数に等しくはなくなる。すなわち、この場合、勾配は(
1/:aL十(1/′Rよ)に等しくなる。ここで、R
工は端子Tから1つまたはそれ以上の@電を介してバッ
ファトランジスタF工から大地電位に至る並列電流通路
の実効抵抗である。この場合にも、端子Tに供給される
電圧が、ダイオードDiおよびデコードダイオードDj
をターンオンさせ、トランジスタF□の飽和電圧を与え
るに必要な最小電圧、もしくは、ダイオードPD、およ
びPD2をターンオンさせるに必要な最小電圧である約
1.6vになったとき、電流が流れ始める。この柚の漏
洩はプログラム生産、性およびTAA (アドレスアク
セスタイム)に影響を与える可能性がある。
第2図示アレイ内にFB間短絡またはビット線か′らワ
ード線への短絡が起った場合には、端子Tからの電流は
、少なくとも1つの順方向バイアスダイオードDiを経
由し、1つまたは個数の短絡点を通り、少なくとも1つ
のデコードダイオード蒼 Djを介し、入力バッファトランジスタF□を通って大
地電位に流れる。
ード線への短絡が起った場合には、端子Tからの電流は
、少なくとも1つの順方向バイアスダイオードDiを経
由し、1つまたは個数の短絡点を通り、少なくとも1つ
のデコードダイオード蒼 Djを介し、入力バッファトランジスタF□を通って大
地電位に流れる。
第5図はアレイトランジスタ内にEB短絡がある場合、
もしくはワード線とビット線間に短絡がある場合におけ
る第2図示回路に対するI−V特性曲線を示す。ここで
、重要なことは、前の2つの場合のいずれよりも電流が
大きいことである。
もしくはワード線とビット線間に短絡がある場合におけ
る第2図示回路に対するI−V特性曲線を示す。ここで
、重要なことは、前の2つの場合のいずれよりも電流が
大きいことである。
これは、端子Tから1つまたは複数の短絡を経由し、つ
いで入力バッファトランジスタF□を通って大地電位に
至る低抵抗通路があることによる。
いで入力バッファトランジスタF□を通って大地電位に
至る低抵抗通路があることによる。
この場合も、曲線のスロープは1/R,十”/’R□に
より与えられる。ただし、R,は低抵抗通路の実効抵抗
である。
より与えられる。ただし、R,は低抵抗通路の実効抵抗
である。
EBqfl絡もしくはワード線とビットMaの短絡を有
するデバイスは製造の試験工程中に廃棄される。
するデバイスは製造の試験工程中に廃棄される。
また、過度のEB間漏洩を有するデバイスも排除される
。許容可能な漏洩電流の限度はデバイスの寸法により定
まる0PROλfアレイには常に公称漏・洩電流が存在
すること当然である。。許容可能な漏洩電流に対する究
極の試験は、デバイスがプログラム可能かどうかという
ことで、これは試験により確認することができる。NP
N形トランジスタのアレイを含む標準形PROKの場合
、実行可能な一次近似法は、公称漏洩電流の5倍の漏洩
電流を有する抜き型を廃棄することである。
。許容可能な漏洩電流の限度はデバイスの寸法により定
まる0PROλfアレイには常に公称漏・洩電流が存在
すること当然である。。許容可能な漏洩電流に対する究
極の試験は、デバイスがプログラム可能かどうかという
ことで、これは試験により確認することができる。NP
N形トランジスタのアレイを含む標準形PROKの場合
、実行可能な一次近似法は、公称漏洩電流の5倍の漏洩
電流を有する抜き型を廃棄することである。
以上述べてきた本発明試験回路は種々の変形が可能であ
ること勿論であり、特に、選択された複数のワード線ま
たはビット線上のメモリセルを試験し、もしくは選択さ
れたメモリセルを個々に試験しつるよう回路を変形する
ことも可能である。
ること勿論であり、特に、選択された複数のワード線ま
たはビット線上のメモリセルを試験し、もしくは選択さ
れたメモリセルを個々に試験しつるよう回路を変形する
ことも可能である。
第1図はNPIJ形トランジスタを使用した従来技術に
よるメモリアレイを示す図、 第2図はメモリアレイ内の本発明短絡検出回路の実施例
を示す図、 第8図は短絡または漏洩電流がない場合における第2図
示回路の電流・電圧(I−V)特性曲線を示す図、 第4@は多量のエミッタ・ベース(E−B)漏洩電流が
ある場合における第2図示回路のI−V特性曲線を示す
図、 第5図はエミッタ・ベース短絡もしくはワード線および
ビット線間に短絡がある場合における第2図示回路のI
−V特性曲線を示す図である。 X、−j (i=1、−−−N、j=1、−一−M)・
・・NPN形トランジスタfij(i=1.−−−N、
j=1*−一−M)・・・ヒユーズB土(土=1 、−
−−N) ・・・ピッ ト 線Wj(j=i、−−−M
)・・・ワー ド線Di(i=1.−−−N )・・・
ダイオード接続トランジスタEi(土=1.−−−Nン
+EXj(j=1t″−−−Mン ・・・エ ミ ッ
タ04(1=1t−−−N)*0xj(j=1+−−−
M) ・:l レフpBi(i=1、−−−N) 、B
Xj(j=1.−−−M)−ヘー スT・・・試験電圧
受信用共通端子 、 Y4 (i=x 、 −−−N )・・・Y−デコ
ードトランジスタ≠ Dj<j=1.−−−M)・・・デコードダイオードX
j(コ=1、−−−M)・・・X−デコードトランジス
タ08j(j=1.−一−Mン・・・定電流源F工°°
°入カバツフアの/(−1カトランジスタDJz (j
=1、−−−M)・・・ダイオード0土(i=1 、−
−−N )・・・クランプトランジスタR・・・抵抗 PD、、 PD2・・・ダイオード S・・・基準電圧(第2電圧)受信手段A・・・メモリ
アレイ。 特許出願人 モノリシック・メモリーズ・インコーホレ
ーテッド FIG、 1 FIG、 2 第1頁の続き @発明者 トン・ゴダード アメリ ノルマ 0発 明 者 ロパート・ジエイ・ボ アメリスニャク
ベアグ @発明者 シラス・ツユーイ アメリ トルバ カ合衆国カリフォルニア州95014 キュペルチオン
ディ ウェイ7665 力合衆国カリフォルニア州95030 ロス カトスリ
ーク ロード21882 力合衆国カリフォルニア州95132 サン ノゼ ミ
ロ−サークル2750
よるメモリアレイを示す図、 第2図はメモリアレイ内の本発明短絡検出回路の実施例
を示す図、 第8図は短絡または漏洩電流がない場合における第2図
示回路の電流・電圧(I−V)特性曲線を示す図、 第4@は多量のエミッタ・ベース(E−B)漏洩電流が
ある場合における第2図示回路のI−V特性曲線を示す
図、 第5図はエミッタ・ベース短絡もしくはワード線および
ビット線間に短絡がある場合における第2図示回路のI
−V特性曲線を示す図である。 X、−j (i=1、−−−N、j=1、−一−M)・
・・NPN形トランジスタfij(i=1.−−−N、
j=1*−一−M)・・・ヒユーズB土(土=1 、−
−−N) ・・・ピッ ト 線Wj(j=i、−−−M
)・・・ワー ド線Di(i=1.−−−N )・・・
ダイオード接続トランジスタEi(土=1.−−−Nン
+EXj(j=1t″−−−Mン ・・・エ ミ ッ
タ04(1=1t−−−N)*0xj(j=1+−−−
M) ・:l レフpBi(i=1、−−−N) 、B
Xj(j=1.−−−M)−ヘー スT・・・試験電圧
受信用共通端子 、 Y4 (i=x 、 −−−N )・・・Y−デコ
ードトランジスタ≠ Dj<j=1.−−−M)・・・デコードダイオードX
j(コ=1、−−−M)・・・X−デコードトランジス
タ08j(j=1.−一−Mン・・・定電流源F工°°
°入カバツフアの/(−1カトランジスタDJz (j
=1、−−−M)・・・ダイオード0土(i=1 、−
−−N )・・・クランプトランジスタR・・・抵抗 PD、、 PD2・・・ダイオード S・・・基準電圧(第2電圧)受信手段A・・・メモリ
アレイ。 特許出願人 モノリシック・メモリーズ・インコーホレ
ーテッド FIG、 1 FIG、 2 第1頁の続き @発明者 トン・ゴダード アメリ ノルマ 0発 明 者 ロパート・ジエイ・ボ アメリスニャク
ベアグ @発明者 シラス・ツユーイ アメリ トルバ カ合衆国カリフォルニア州95014 キュペルチオン
ディ ウェイ7665 力合衆国カリフォルニア州95030 ロス カトスリ
ーク ロード21882 力合衆国カリフォルニア州95132 サン ノゼ ミ
ロ−サークル2750
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも1つのメモリセルと少なくとも1つのビ
ット線を含むメモリ内に配置した短絡または漏洩電流を
検出する回路において、所定の試験電圧を受信する手段
と、基準電圧を受信する手段と、該所定試験電圧受信手
段と該各ピット線間に接続し、該各ビット線に該所定試
験電圧の予め決められた部分を供給するための手段と、
該各ビット線と該基準電圧受信手段間に接続し、該所定
試験電圧が受信されていないとき該メモリを該基準電圧
から隔離させるための手段とを具備したことを特徴とす
るPROM用短絡検出回路。 λ 該所定試験電圧の予め決められた部分を供給する手
段は、該メモリ内の各ビット線用のバイポーラトランジ
スタを含み、該トランジスタの各々はエミッタ、コレク
タおよびペース導線を有し、該ベース導線を該所定試験
電圧受信手段および該コレクタに接続し、該エミッタを
該ピット線に接続するようにしたことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の回路。 & 該隔離手段は該所定試験電圧受信手段と該基準電圧
受信手段との間に接続した抵抗を含むことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の回路。 表 該隔離手段は該所定試験電圧の予め決められた部分
を供給する手段と、2つの端部を有する抵抗と、複数の
ダイオードPD、、 PD2−−−PDk(kは正の整
数)とを含み、該抵抗の一方の端部を該所定試験電圧受
信手段に接続し、該抵抗の他の端部をダイオードPD、
のアノードに接続しくすべでの1=1.−−− 、 k
−1′に対してダイオードPDiのカソードをPD1+
、のアノードに接続し、PDkのカソードを該基準電圧
受信手段に接続したことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の回路。 五 k=2としたことを特徴とする特許請求の範囲第4
項記載の回路。 & さらに、他の基準電圧源を具えたことを特徴とする
特徴請求の範囲第1項記載の回路。 I 該基準電圧源を大地電位としたことを特徴とする特
許請求の範囲第6項記載の回路。 & さらに、他の所定試験電圧源を具えたことを特徴と
する特許請求の範囲第6項記載の回路。 9、 該所定試験電圧受信手段に流入する電流を測定す
る手段を具えたことを特徴とする特許請求の範囲第8項
記載の回路。 10、少なくとも1つのビット線と、少なくとも1つの
ワード線と、関連のアドレッシング回路とを含むメモリ
内における短絡または漏洩電流を検出する方法において
、メモリ内の各ビット線に該ビット線の関連するアドレ
ッシング回路を不能動化するに充分な第1所定電圧を供
給するステップと、メモリ内の各ワード線に該ワード線
の関連するアドレッシング回路を不能動化するに充分な
第2所定電圧を供給するステップと、該メモリ内の各ビ
ット線に所定試験電圧の予め決められた部分を供給する
ステップと、該ビット線に流入する全電流を測定するス
テップとを含むことを特徴とするメモリ内の短絡または
漏洩電流検出方法0 L 少なくとも1つのビット線と、少なくとも1つのワ
ード線と、各ビット線用のデコードトランジスタと、各
ワード線用のデコードトランジスタおよびデコーダダイ
オードと、出力トランジスタを有する入力バッファとを
含むメモリ内における短絡または漏洩電流を検出する方
法において、各ビット[4のデコードトランジスタをタ
ーンオフさせるステップと、入力バッファの出力トラン
ジスタのエミッタを大地電位に接続することにより、各
ワド線用のデコードダイオードを介して各ワード線の電
位を低下させて各ワード線用のデコードトランジスタを
ターンオフさせるステップと、該メモリ内の各ビット線
に所定試験電圧の予め決められた部分を供給するステッ
プと、該ビット線に流入する全電流を測定するステップ
とを含むことを特徴とするメモリ内の短絡または漏れ電
流検出方法O 1λ 少なくとも1つのビット線と、少なくとも1つの
ワード線と、各ビット線用のクランプトランジスタおよ
びデコードトランジスタと、各ワード線用のデコードト
ランジスタおよびデコードダイオードと、出力トランジ
スタを有する人力バッファとを含むメモリ内における短
絡または漏れ電流を検出する方法において、各ビット線
用のクランプトランジスタをターンオフさせるステップ
と、各ビット線用のデコードトランジスタをターンオフ
させるステップと、入力バッファの出力トランジスタの
エミッタを大地′電位に接続することにより、各ワード
線用のデコードダイオードを介して各ワード線の電位を
低下させて各ワード線用のデコードトランジスタをター
ンオフさせるステップと、該メモリ内の各ビット線に所
定試験電圧の予め決められた部分を供給するステップと
、該ビット線に流入する全電流を測定するステップとを
含むことを特徴とするメモリ内の短絡または漏れ電流検
出方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/564,642 US4595875A (en) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | Short detector for PROMS |
| US564642 | 1983-12-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136100A true JPS60136100A (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=24255309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59141581A Pending JPS60136100A (ja) | 1983-12-22 | 1984-07-10 | Prom用短絡検出回路 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4595875A (ja) |
| EP (1) | EP0146975A3 (ja) |
| JP (1) | JPS60136100A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03205699A (ja) * | 1990-01-05 | 1991-09-09 | Sharp Corp | 半導体記憶装置 |
| JPH11504147A (ja) * | 1992-09-21 | 1999-04-06 | サンディスク コーポレイション | Eepromにおける潜在欠陥の操作法(管理法) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4814646A (en) * | 1985-03-22 | 1989-03-21 | Monolithic Memories, Inc. | Programmable logic array using emitter-coupled logic |
| JPS6258500A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置の試験方法 |
| JPS62157400A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-13 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶回路 |
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| US4779041A (en) * | 1987-05-20 | 1988-10-18 | Hewlett-Packard Company | Integrated circuit transfer test device system |
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| US5065090A (en) * | 1988-07-13 | 1991-11-12 | Cross-Check Technology, Inc. | Method for testing integrated circuits having a grid-based, "cross-check" te |
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-
1983
- 1983-12-22 US US06/564,642 patent/US4595875A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-06-09 EP EP84200830A patent/EP0146975A3/en not_active Withdrawn
- 1984-07-10 JP JP59141581A patent/JPS60136100A/ja active Pending
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Also Published As
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|---|---|
| EP0146975A2 (en) | 1985-07-03 |
| EP0146975A3 (en) | 1988-04-20 |
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