JPS60136111A - エナメル絶縁電線の製造方法 - Google Patents
エナメル絶縁電線の製造方法Info
- Publication number
- JPS60136111A JPS60136111A JP25167383A JP25167383A JPS60136111A JP S60136111 A JPS60136111 A JP S60136111A JP 25167383 A JP25167383 A JP 25167383A JP 25167383 A JP25167383 A JP 25167383A JP S60136111 A JPS60136111 A JP S60136111A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- varnish
- enamel
- heating
- conductor
- insulated wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の技術分野〉
本発明れ、気泡のない平滑で、浮きの均一な板切ｔイ（
するエナメル絶縁ＭＵＩ％！のｈ９１造方法に関するも
のである。
するエナメル絶縁ＭＵＩ％！のｈ９１造方法に関するも
のである。
〈従来技術の背景とその問題点〉
従来、エナメルＭ！３縁電綿は、導体上に適宜溶剤で希
釈し７ヒエナメルワニスｔ−重布し、これを電熱、赤外
線、熱風等の熱源により、乾燥、硬化させるという方法
で飾付けて親達している。
釈し７ヒエナメルワニスｔ−重布し、これを電熱、赤外
線、熱風等の熱源により、乾燥、硬化させるという方法
で飾付けて親達している。
しかしながら、上記従来の方法では、いずれもワニス皮
膜を外側から加熱するものである良め、皮膜表面側の溶
剤（揮発成分）から先に乾燥してｂき、この乾燥によ如
ワニスの樹脂分（不揮発成分）が多くなってくると、ワ
ニス皮膜は内部の溶剤の乾燥を待たずに表面が硬化する
。
膜を外側から加熱するものである良め、皮膜表面側の溶
剤（揮発成分）から先に乾燥してｂき、この乾燥によ如
ワニスの樹脂分（不揮発成分）が多くなってくると、ワ
ニス皮膜は内部の溶剤の乾燥を待たずに表面が硬化する
。
この上うＫして表面が硬化すると、内部に溶剤が閉じ込
められ、この残った溶剤は、温度の上昇がその沸騰点以
上になると、沸騰し、ワニス皮膜の外部に抜けようとす
るが、上記のように表面の硬化が既に進行しているため
、皮膜表面の近傍に気泡を形成したり、気泡が破裂した
り、あるいは亀裂（りＶ−タ）が生じて、とても、平滑
で厚さの均一なエナメル皮膜を得ることはできなかった
。
められ、この残った溶剤は、温度の上昇がその沸騰点以
上になると、沸騰し、ワニス皮膜の外部に抜けようとす
るが、上記のように表面の硬化が既に進行しているため
、皮膜表面の近傍に気泡を形成したり、気泡が破裂した
り、あるいは亀裂（りＶ−タ）が生じて、とても、平滑
で厚さの均一なエナメル皮膜を得ることはできなかった
。
ｌｈに、揮発成分の少ないワニスを使用した場合、外側
からの加熱により、皮膜表面での乾燥、硬化が極めて速
く行なわれるため、上記気泡の形成、破裂、亀裂の発生
等の現象が顕著に現われる。そのため、エナメル線の物
理的、電気的特性が著しく低下する。
からの加熱により、皮膜表面での乾燥、硬化が極めて速
く行なわれるため、上記気泡の形成、破裂、亀裂の発生
等の現象が顕著に現われる。そのため、エナメル線の物
理的、電気的特性が著しく低下する。
近年、この分野においても当然省エネルギー化がめられ
、揮発成分たる溶剤の少ないワ−ｘを採用する傾向が強
く、上記エナメル線の均一な皮ｔｔａｔ−作ることは前
記の理由から重装な問題となつ°〔きＣいる。
、揮発成分たる溶剤の少ないワ−ｘを採用する傾向が強
く、上記エナメル線の均一な皮ｔｔａｔ−作ることは前
記の理由から重装な問題となつ°〔きＣいる。
〈考案の目的〉
本発明は、上記の如〈従来技術の現状に鑑みてなされた
もので、通常のエナメルワニスは勿論のこと、揮発成分
（溶剤）の少ないエナメルワニスト１２用しても、無気
泡、平滑な皮膜を有するエナメル絶縁電線の製造方法を
提供することを目的とするものである。
もので、通常のエナメルワニスは勿論のこと、揮発成分
（溶剤）の少ないエナメルワニスト１２用しても、無気
泡、平滑な皮膜を有するエナメル絶縁電線の製造方法を
提供することを目的とするものである。
これによって、エナメル線の電気的、物理的特性ｔ−著
しく低下させることなく、良好なエナメルＰ／Ｍを製造
することができる。
しく低下させることなく、良好なエナメルＰ／Ｍを製造
することができる。
〈発明の構成〉
本発明の特徴は、エナメルワニス塗膜の焼付けにＰいて
、従来、皮膜の外側から加熱していたのに対し、少なく
とも焼付けの初期にあっては、誘導加熱手段を用いて、
ワニスを導体側の内部から、乾燥させ、硬化させるよう
にした点にある。
、従来、皮膜の外側から加熱していたのに対し、少なく
とも焼付けの初期にあっては、誘導加熱手段を用いて、
ワニスを導体側の内部から、乾燥させ、硬化させるよう
にした点にある。
第１図は、本発明方法を実軸し゛【有用な装置の一態＃
（示したもので、以下同量に基づ軽、本発明をより具体
的に説明する。
（示したもので、以下同量に基づ軽、本発明をより具体
的に説明する。
先ず、導体１（通常は銅、アルミ、銅合金またはアルば
合金製）をエナメルワニスの入っている塗料槽２１Ｃ下
方から上方に通して導体外側にワニスを塗布する。続い
て、このワニスの塗布された導体１をｉイー装置、に通
し、余分７ワーオｂ夛除きながら、ワニス塗布層を均一
な厚・さに仕上げる。次いで、これを加熱炉４に導入し
、加熱炉４の乾燥領域ａでワニス塗布層中の溶剤を蒸発
建ぜ゛Ｃ乾燥させ、炉４の硬化領域すでは乾燥した上記
ワニス皮膜を硬化させ、焼イ」ける。
合金製）をエナメルワニスの入っている塗料槽２１Ｃ下
方から上方に通して導体外側にワニスを塗布する。続い
て、このワニスの塗布された導体１をｉイー装置、に通
し、余分７ワーオｂ夛除きながら、ワニス塗布層を均一
な厚・さに仕上げる。次いで、これを加熱炉４に導入し
、加熱炉４の乾燥領域ａでワニス塗布層中の溶剤を蒸発
建ぜ゛Ｃ乾燥させ、炉４の硬化領域すでは乾燥した上記
ワニス皮膜を硬化させ、焼イ」ける。
このようにして硬化の完了したエナメル被覆層を有する
導体１′は冷却領域０で冷却した後、加熱炉４の上下に
設は九プ’Ｊ−５，６間を複数回、往復させてエナメル
被覆１梅を繰シ返し、エナメル被覆層が所定の厚さに達
し比ら、これを外部に取シ出し、製品ボビン（図示雀略
）に巻取る。
導体１′は冷却領域０で冷却した後、加熱炉４の上下に
設は九プ’Ｊ−５，６間を複数回、往復させてエナメル
被覆１梅を繰シ返し、エナメル被覆層が所定の厚さに達
し比ら、これを外部に取シ出し、製品ボビン（図示雀略
）に巻取る。
本発明において、上記加熱炉４中で乾燥領域ａの加熱手
段として、肪導加熱ツイルＴからなる誘導加熱手段を袷
成し、先ず、導体１自体を加熱するようにしである。し
たがって、塗布された？ニスにあっては導体表面に接す
る内部から加熱Δれ、除々に内部の溶剤が揮発し、未だ
硬化ぢれＣいないワニスの表＃Ｉｊ′ｉ側ＪＣスＡ−ズ
に移っていく。そして、次の工程である硬化領域すでの
加熱手段とし−〔、本例では加熱ヒータ８を用いている
から、除々にワニス皮膜の外側が加熱建れ、表向側の溶
剤が揮発、乾燥後にワニス自体は硬化される。したがつ
゛Ｃ１従来のように溶剤が内部に閉じ込められ、外部に
抜は田れなくなって、好゛ましくない上述の気泡の形成
、破裂、亀裂の発生などは全くなくなる。
段として、肪導加熱ツイルＴからなる誘導加熱手段を袷
成し、先ず、導体１自体を加熱するようにしである。し
たがって、塗布された？ニスにあっては導体表面に接す
る内部から加熱Δれ、除々に内部の溶剤が揮発し、未だ
硬化ぢれＣいないワニスの表＃Ｉｊ′ｉ側ＪＣスＡ−ズ
に移っていく。そして、次の工程である硬化領域すでの
加熱手段とし−〔、本例では加熱ヒータ８を用いている
から、除々にワニス皮膜の外側が加熱建れ、表向側の溶
剤が揮発、乾燥後にワニス自体は硬化される。したがつ
゛Ｃ１従来のように溶剤が内部に閉じ込められ、外部に
抜は田れなくなって、好゛ましくない上述の気泡の形成
、破裂、亀裂の発生などは全くなくなる。
上記誘導加熱は、商用周波数による低周波加熱であって
も、高周波を利用する高周波加熱であつ−Ｃもよいが、
生産性向上の点からすると、迅速加熱ができ、加熱効率
の良い高周波加熱の方が好ましい、ｔた、高周波加熱の
場合、使用周波数はｌ Ｑ ＫＨ，から１．０００ＫＨ
ｚの範囲が好ましい。即ち、１０〜１．０００ＫＵ、の
間が加熱効率が良＜、ｉ、ｏｏ。
も、高周波を利用する高周波加熱であつ−Ｃもよいが、
生産性向上の点からすると、迅速加熱ができ、加熱効率
の良い高周波加熱の方が好ましい、ｔた、高周波加熱の
場合、使用周波数はｌ Ｑ ＫＨ，から１．０００ＫＨ
ｚの範囲が好ましい。即ち、１０〜１．０００ＫＵ、の
間が加熱効率が良＜、ｉ、ｏｏ。
ＫＨ２以上では設備費、運転費が増加のため実用的でな
い。
い。
仁の誘導加熱は、本発明の場合、乾燥領域ａにおいて、
必須の加熱手段とするが、この領域ａで、電熱、赤外線
、熱風等の従来の加熱手段を補助的に併用することもで
きる。この併用によると、エネルギー化が安く済むとい
う利点がある。
必須の加熱手段とするが、この領域ａで、電熱、赤外線
、熱風等の従来の加熱手段を補助的に併用することもで
きる。この併用によると、エネルギー化が安く済むとい
う利点がある。
゛マ比、本発明１ｒｃｓｐいて、硬化領域すの加熱手段
とし゛〔は、上記例の加熱ヒータ８のみならず、従来か
らよく採用されている赤外線、熱風を熱源とすることが
できることは勿論のこと、上記誘導加熱との併用、ある
いは誘導加熱単独で用いることもできる。この誘導加熱
との併用によると、エネルギー化が安く済むという利点
がある。
とし゛〔は、上記例の加熱ヒータ８のみならず、従来か
らよく採用されている赤外線、熱風を熱源とすることが
できることは勿論のこと、上記誘導加熱との併用、ある
いは誘導加熱単独で用いることもできる。この誘導加熱
との併用によると、エネルギー化が安く済むという利点
がある。
更に１本発明Ｉ／ｃおｈて用いるエナメルワニスとして
は、ポリエステル、ホルマール、ボジクＶタン、ポリエ
ステルイミド、ポリエステルアでド、ポリイミド等如何
なものであっても広く適用することができ、エナメルの
種類に限定されな騒。
は、ポリエステル、ホルマール、ボジクＶタン、ポリエ
ステルイミド、ポリエステルアでド、ポリイミド等如何
なものであっても広く適用することができ、エナメルの
種類に限定されな騒。
〈実施料〉
導体（銅製）の外周に樹脂分（不揮発成分）５０チのポ
リエステルワニスを塗布し、これｔＳ導加熱によりワニ
ス塗布層の導体内部側から加熱乾燥させ、続いて、各種
の熱源により加熱して塗布層を硬化・させ、焼イ」け、
これを数回繰り返して、ポリエステル絶縁電線′ｆ：製
造し７ｔところ、第１表の結果を得た。 窺 なお、比較例として従来の加熱手段による方法も示しで
ある。 −１ 法 〈発明の効果〉 本発明のエナメル絶縁電線の製造方法によると、導体外
周Ｋｍ布したワニスを乾燥ないし硬化させるＫおイー（
、誘導加熱コイルによって導体自体を加熱するものであ
るため、ワニスの乾燥は導体側と接する内部から除々に
行なわれるので、従来のように溶剤が表面の硬化によっ
て内部に閉じ込められることがなくなる。このため、ワ
ニス皮ｊ虞の表面近傍に気泡や亀裂等が生ずることはな
く、平１’ｆｔで）￥σの均一な被覆を侍ることができ
る。また、揮発成力の少ないエナメルワニスにも十分対
応することができる次め、電線屓造工程の省エネルギー
化を図ることができる。
リエステルワニスを塗布し、これｔＳ導加熱によりワニ
ス塗布層の導体内部側から加熱乾燥させ、続いて、各種
の熱源により加熱して塗布層を硬化・させ、焼イ」け、
これを数回繰り返して、ポリエステル絶縁電線′ｆ：製
造し７ｔところ、第１表の結果を得た。 窺 なお、比較例として従来の加熱手段による方法も示しで
ある。 −１ 法 〈発明の効果〉 本発明のエナメル絶縁電線の製造方法によると、導体外
周Ｋｍ布したワニスを乾燥ないし硬化させるＫおイー（
、誘導加熱コイルによって導体自体を加熱するものであ
るため、ワニスの乾燥は導体側と接する内部から除々に
行なわれるので、従来のように溶剤が表面の硬化によっ
て内部に閉じ込められることがなくなる。このため、ワ
ニス皮ｊ虞の表面近傍に気泡や亀裂等が生ずることはな
く、平１’ｆｔで）￥σの均一な被覆を侍ることができ
る。また、揮発成力の少ないエナメルワニスにも十分対
応することができる次め、電線屓造工程の省エネルギー
化を図ることができる。
第１図は本発明に係るエナメル絶縁電線の製造方法を夾
施するにおいて有用な装置の一例を示す概略図である。 １・・・導体、４φ・・加熱炉、Ｔ・・・誘導加熱手段
（誘導加熱コイル）、ａ−・・乾燥領域、ｂ・・・硬化
領域。 特許出願人 藤倉電線株式会社
施するにおいて有用な装置の一例を示す概略図である。 １・・・導体、４φ・・加熱炉、Ｔ・・・誘導加熱手段
（誘導加熱コイル）、ａ−・・乾燥領域、ｂ・・・硬化
領域。 特許出願人 藤倉電線株式会社
Claims (1)
- 導体外周にエナメルワニスを塗布し、これを加熱炉に通
してワニス塗布層を乾燥させつつ硬化させるエナメル絶
縁紙線の製造方法において、加熱炉の少なくとも乾燥領
域の加熱に話導加熱手段を用いたことを特徴とするエナ
メル絶Ｕ屯線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25167383A JPS60136111A (ja) | 1983-12-24 | 1983-12-24 | エナメル絶縁電線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25167383A JPS60136111A (ja) | 1983-12-24 | 1983-12-24 | エナメル絶縁電線の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136111A true JPS60136111A (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=17226316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25167383A Pending JPS60136111A (ja) | 1983-12-24 | 1983-12-24 | エナメル絶縁電線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136111A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008155237A1 (fr) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Societe De Technologie Michelin | Procede de depot d'un solute sur un fil metallique |
| CN102074317A (zh) * | 2010-12-15 | 2011-05-25 | 林兆欣 | 热风循环和交换漆包烘炉 |
| JP2012252868A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Sumitomo Electric Wintec Inc | 絶縁電線の製造装置および絶縁電線の製造方法 |
| JP2016031867A (ja) * | 2014-07-29 | 2016-03-07 | 日立金属株式会社 | エナメル線の製造方法及び製造装置 |
| CN110931167A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-03-27 | 陈明珠 | 一种电缆加工用冷却后双重干燥设备 |
-
1983
- 1983-12-24 JP JP25167383A patent/JPS60136111A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008155237A1 (fr) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Societe De Technologie Michelin | Procede de depot d'un solute sur un fil metallique |
| FR2917755A1 (fr) * | 2007-06-20 | 2008-12-26 | Michelin Soc Tech | Dispositif et procede de depot d'un solute sur un fil metallique |
| JP2010530298A (ja) * | 2007-06-20 | 2010-09-09 | ソシエテ ド テクノロジー ミシュラン | 溶質を金属スレッド上に堆積させる方法 |
| CN102074317A (zh) * | 2010-12-15 | 2011-05-25 | 林兆欣 | 热风循环和交换漆包烘炉 |
| JP2012252868A (ja) * | 2011-06-02 | 2012-12-20 | Sumitomo Electric Wintec Inc | 絶縁電線の製造装置および絶縁電線の製造方法 |
| JP2016031867A (ja) * | 2014-07-29 | 2016-03-07 | 日立金属株式会社 | エナメル線の製造方法及び製造装置 |
| CN110931167A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-03-27 | 陈明珠 | 一种电缆加工用冷却后双重干燥设备 |
| CN110931167B (zh) * | 2019-11-27 | 2020-12-08 | 江西万上实业有限公司 | 一种电缆加工用冷却后双重干燥设备 |
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