JPS60140543A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法Info
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- JPS60140543A JPS60140543A JP24678083A JP24678083A JPS60140543A JP S60140543 A JPS60140543 A JP S60140543A JP 24678083 A JP24678083 A JP 24678083A JP 24678083 A JP24678083 A JP 24678083A JP S60140543 A JPS60140543 A JP S60140543A
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- Japan
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- undercoat layer
- magnetic recording
- recording medium
- substrate
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アンダコート層を有する磁気記録媒体及びそ
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
最近、磁気記録媒体として、従来の塗布型に代わり、強
磁性金属を真空蒸着やイオンブレーティングして強磁性
薄膜を形成した簿膜型のものが用いられるようになって
きた。
磁性金属を真空蒸着やイオンブレーティングして強磁性
薄膜を形成した簿膜型のものが用いられるようになって
きた。
ところで、このような薄膜型の磁気記録媒体は、基体と
強磁性薄膜との密着性等を改良するために、イれ等の間
にアンダーコート層を設けることがある。しかしながら
、従来のアンダーコート層は、この層中の不純物のため
に部分的に強磁性薄膜との密着性が低下し、ドロップア
ウトの原因となり、スチル特性を低下させる欠点があっ
た。
強磁性薄膜との密着性等を改良するために、イれ等の間
にアンダーコート層を設けることがある。しかしながら
、従来のアンダーコート層は、この層中の不純物のため
に部分的に強磁性薄膜との密着性が低下し、ドロップア
ウトの原因となり、スチル特性を低下させる欠点があっ
た。
本発明は、以上の欠点を改良し、アンダーコート層と強
ｆ４ｋ ’ｒ’Ｊ ｎｌＪ膜との密着性を向上しうる磁
気記録媒体とその製造方法の提供を目的とするものであ
る。
ｆ４ｋ ’ｒ’Ｊ ｎｌＪ膜との密着性を向上しうる磁
気記録媒体とその製造方法の提供を目的とするものであ
る。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体に高分子
材からなるアンダーコート層が設けられ、該アンダーコ
ート層の表面に強磁性薄膜が設けられている磁気記録媒
体において、基体の表面にＴｉ 、Ｖ、Ｏｒ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｗ。
材からなるアンダーコート層が設けられ、該アンダーコ
ート層の表面に強磁性薄膜が設けられている磁気記録媒
体において、基体の表面にＴｉ 、Ｖ、Ｏｒ、Ｚｒ、Ｎ
ｂ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｗ。
ｐｔ 、 ＭＯ、Ｇ−ｅのうちの少なくとも一種類を分
散して付着することを特徴とする磁気記録媒体を提供す
るものである。
散して付着することを特徴とする磁気記録媒体を提供す
るものである。
また、本発明は、−上記の目的を達成するために、基体
に高分子材からなるアンダーコート層及び強磁性薄膜を
順次設けた磁気記録媒体の製造方法において、基体の表
面にＴｉ 、Ｖ、Ｃｒ、 Ｚｒ。
に高分子材からなるアンダーコート層及び強磁性薄膜を
順次設けた磁気記録媒体の製造方法において、基体の表
面にＴｉ 、Ｖ、Ｃｒ、 Ｚｒ。
Ｎｂ、Ｐｄ、ｌ−１ｆ、Ｗ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｇｅのうちの
少な（とも一種類をイオンボンバードし分・散して付着
することを特徴とする磁気記録媒体の製造等の高分子フ
ィルムを用いる。この基体の一面に高分子を塗布や蒸着
等により付着してアンダーコート層を形成する。次に、
アンダーコート層の表面にＴｉやＶ、Ｏｒ、Ｚｒ、Ｎｂ
、Ｐｄ、ｌ−１ｆ。
少な（とも一種類をイオンボンバードし分・散して付着
することを特徴とする磁気記録媒体の製造等の高分子フ
ィルムを用いる。この基体の一面に高分子を塗布や蒸着
等により付着してアンダーコート層を形成する。次に、
アンダーコート層の表面にＴｉやＶ、Ｏｒ、Ｚｒ、Ｎｂ
、Ｐｄ、ｌ−１ｆ。
Ｗ、Ｐｔ 、ＭＯ、Ｇｅのうちの少なくとも一種類を分
散して付着し形成する。これ等の物質をアンダーコート
層の表面に付着するには、真空槽内において高周波コイ
ルや直流放電電極を用いて、ＴｉやＶ等の物質をアンダ
ーコート層表面にイオンボンバードする。この際、真空
槽の内壁にＴｉやＶ等の物質をコーティングすることに
より、付着が容易になる。また、イオンボンバードの際
の真空度は１０’ Ｔ ｏｒｒ以上がよく、好ましくは
１０−４Ｔｏｒｒ程度がよい。真空度が高すぎると、ア
ンダーコート層からたたき出された不純物質が再びｌ１
１表面に付着することがある。アンダーコート層に７ｉ
やＶ等の物質を分散させて付着した後、Ｆｅやｃｏ、Ｎ
ｉ等の強磁性金属を真空蒸着法やイオンブレーティング
法、スパッタリング法等により付着して強磁性薄膜を形
成する。
散して付着し形成する。これ等の物質をアンダーコート
層の表面に付着するには、真空槽内において高周波コイ
ルや直流放電電極を用いて、ＴｉやＶ等の物質をアンダ
ーコート層表面にイオンボンバードする。この際、真空
槽の内壁にＴｉやＶ等の物質をコーティングすることに
より、付着が容易になる。また、イオンボンバードの際
の真空度は１０’ Ｔ ｏｒｒ以上がよく、好ましくは
１０−４Ｔｏｒｒ程度がよい。真空度が高すぎると、ア
ンダーコート層からたたき出された不純物質が再びｌ１
１表面に付着することがある。アンダーコート層に７ｉ
やＶ等の物質を分散させて付着した後、Ｆｅやｃｏ、Ｎ
ｉ等の強磁性金属を真空蒸着法やイオンブレーティング
法、スパッタリング法等により付着して強磁性薄膜を形
成する。
すなわち、本発明によれば、アンダーコート層の表面に
ＴｉやＶ等の物質を分散して付着しており、これ等の物
質は、高分子材と強磁性金属との密着を改良しつるもの
であり、特に、イオンボンバードにより付着させるとア
ンダーコート層の不純物が層外にたたき出されるために
よりいっそうアンダーコート層と強磁性Ｓ膜との密着が
改良される。
ＴｉやＶ等の物質を分散して付着しており、これ等の物
質は、高分子材と強磁性金属との密着を改良しつるもの
であり、特に、イオンボンバードにより付着させるとア
ンダーコート層の不純物が層外にたたき出されるために
よりいっそうアンダーコート層と強磁性Ｓ膜との密着が
改良される。
なお、ＴｉやＶ等は分散して付着することが必要であり
、アンダーコート層の表面全面にこれ等の物質が付着す
ると、基体に歪が発生し易くなり、強磁性薄膜を形成す
る際に、シワが生じる欠点がある。
、アンダーコート層の表面全面にこれ等の物質が付着す
ると、基体に歪が発生し易くなり、強磁性薄膜を形成す
る際に、シワが生じる欠点がある。
以上の通り、本発明によれば、アンダーコート層と強磁
性薄膜どの密着性を向上できるため、ドロップアウトを
軽減でき、スチル特性を向上できる等の信頼性の高い磁
気記録媒体及びその製造方法が得られる。
性薄膜どの密着性を向上できるため、ドロップアウトを
軽減でき、スチル特性を向上できる等の信頼性の高い磁
気記録媒体及びその製造方法が得られる。
特許出願人 日立コンデンサ株式会社
手続補正書（自発）
１、事件の表示
昭和５８年特許１１１ｉ第２４６７８０ｊｊ２、発明の
名称 磁気記録媒体とその製造方法 ３、補正をする者 ４、補正の対象 明ａ書の特許請求のＷ！卯の欄及び発明の詳細な説明の
欄５、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通りに補正する。
名称 磁気記録媒体とその製造方法 ３、補正をする者 ４、補正の対象 明ａ書の特許請求のＷ！卯の欄及び発明の詳細な説明の
欄５、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通りに補正する。
（２）明細由の第３ページ第１行目「基体」を「アンダ
ーコート層」と補正する。
ーコート層」と補正する。
別 紙
特許請求の範囲
「（１）基体に高分子材からなるアンダーコート層が設
けられ、該アンダーコート層の表面に強磁性薄膜が設け
られている磁気記録媒体において、アンダーコート層の
表面にｒ＋ 、ｖ。
けられ、該アンダーコート層の表面に強磁性薄膜が設け
られている磁気記録媒体において、アンダーコート層の
表面にｒ＋ 、ｖ。
Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｐｄ、ｌ」ｆ、Ｗ、Ｐｔ。
ＭＯ、Ｑｅのうちの少なくとも一種類を分散して付着す
ることを特徴とする磁気記録媒体。
ることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）基体に高分子材からなるアンダーコート層及び強
磁性ＷＪ膜を順次設けた磁気記録媒体の製造方法におい
て、アンダーコート層の表面にＴｉ 、Ｖ、Ｏｒ 、Ｚ
ｒ 、Ｎｂ 、Ｐｄ 、Ｈｆ 。
磁性ＷＪ膜を順次設けた磁気記録媒体の製造方法におい
て、アンダーコート層の表面にＴｉ 、Ｖ、Ｏｒ 、Ｚ
ｒ 、Ｎｂ 、Ｐｄ 、Ｈｆ 。
Claims (2)
- （１）基体に高分子材からなるアンダーコート層が設け
られ、該アンダーコート層の表面に強磁性薄膜が設けら
れている磁気記録媒体において、基体の表面に：Ｔｉ
、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ。 Ｎｂ、Ｐｄ、Ｉ」ｆ、Ｗ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｇｅのうちの少
なくとも一種類を分散して付着することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。 - （２） 基体に高分子材からなるアンダーコート層及び
強磁性薄膜を順次設けた磁気記録媒体の製造方法におい
て、基体の表面にＴｉ 、Ｖ。 Ｏｒ、’Ｚｒ、Ｎｂ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｗ、Ｐｔ。 ＭＯ、（３ｅのうちの少なくとも一種類をイオンボンバ
ードし分散して付着することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24678083A JPS60140543A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24678083A JPS60140543A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140543A true JPS60140543A (ja) | 1985-07-25 |
| JPH0252326B2 JPH0252326B2 (ja) | 1990-11-13 |
Family
ID=17153547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24678083A Granted JPS60140543A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140543A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7722963B2 (en) * | 2005-11-21 | 2010-05-25 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Resin product having a metallic coating |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP24678083A patent/JPS60140543A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7722963B2 (en) * | 2005-11-21 | 2010-05-25 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Resin product having a metallic coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0252326B2 (ja) | 1990-11-13 |
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