JPS60140764U - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS60140764U JPS60140764U JP2722884U JP2722884U JPS60140764U JP S60140764 U JPS60140764 U JP S60140764U JP 2722884 U JP2722884 U JP 2722884U JP 2722884 U JP2722884 U JP 2722884U JP S60140764 U JPS60140764 U JP S60140764U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma processing
- processing equipment
- opening
- vacuum chamber
- baffle plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、本考案によるプラズマ処理装置の一実施例を
示す要部縦断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ視断面図
である。 ′ １０・・・真空室、４０・・・排気管、５０・・・
固定バッフルプレート、５１．６１・・・開口、６０・
・・回転共ツフルプレート。
示す要部縦断面図、第２図は、第１図のＡ−Ａ視断面図
である。 ′ １０・・・真空室、４０・・・排気管、５０・・・
固定バッフルプレート、５１．６１・・・開口、６０・
・・回転共ツフルプレート。
Claims (1)
- 試料をプラズマ処理する真空室を、該真空室に内設され
た固定バッフルプレートの開口と回転バッフルプレート
の開口とを介して排気可能に構成したことを特徴とする
プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2722884U JPS60140764U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2722884U JPS60140764U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140764U true JPS60140764U (ja) | 1985-09-18 |
Family
ID=30523975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2722884U Pending JPS60140764U (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140764U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032377A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-08 | Ulvac Corp | プラズマ処理装置 |
| JP2013503494A (ja) * | 2009-08-31 | 2013-01-31 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ閉じ込めを実施するためのマルチペリフェラルリング構成 |
| JP2014175606A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Toshiba Corp | 平行平板型ドライエッチング装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法 |
| JP2019102680A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気装置、処理装置及び排気方法 |
| JP2023033356A (ja) * | 2021-10-26 | 2023-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP2722884U patent/JPS60140764U/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH032377A (ja) * | 1989-05-30 | 1991-01-08 | Ulvac Corp | プラズマ処理装置 |
| JP2013503494A (ja) * | 2009-08-31 | 2013-01-31 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ閉じ込めを実施するためのマルチペリフェラルリング構成 |
| JP2014175606A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Toshiba Corp | 平行平板型ドライエッチング装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法 |
| JP2019102680A (ja) * | 2017-12-05 | 2019-06-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 排気装置、処理装置及び排気方法 |
| US11315770B2 (en) | 2017-12-05 | 2022-04-26 | Tokyo Electron Limited | Exhaust device for processing apparatus provided with multiple blades |
| US12322578B2 (en) | 2017-12-05 | 2025-06-03 | Tokyo Electron Limited | Exhaust device, processing apparatus, and exhausting method |
| JP2023033356A (ja) * | 2021-10-26 | 2023-03-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
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