JPS60141863A - 連続熱処理方法および連続熱処理装置 - Google Patents
連続熱処理方法および連続熱処理装置Info
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- JPS60141863A JPS60141863A JP24793183A JP24793183A JPS60141863A JP S60141863 A JPS60141863 A JP S60141863A JP 24793183 A JP24793183 A JP 24793183A JP 24793183 A JP24793183 A JP 24793183A JP S60141863 A JPS60141863 A JP S60141863A
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- heating
- atmosphere heating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、異なる条件での雰囲気熱処理を同時にかつ
連続して行うことができるようにした連続熱処理方法お
よび連続熱処理装置に関するものである。
連続して行うことができるようにした連続熱処理方法お
よび連続熱処理装置に関するものである。
雰囲気熱処理としては、浸炭、浸炭窒化、窒化などの表
面硬化処理があるが、これらの雰囲気熱処理は、被熱処
理品の内部の靭性を保持しつつ表面を硬化させるのに使
用され、例えば、歯車、軸および軸受、ゲージ、工具、
各種摺動部品等々の製造に採用されている。
面硬化処理があるが、これらの雰囲気熱処理は、被熱処
理品の内部の靭性を保持しつつ表面を硬化させるのに使
用され、例えば、歯車、軸および軸受、ゲージ、工具、
各種摺動部品等々の製造に採用されている。
例えば、上記各種部品のガス浸炭においては、トレー搬
送型の連続浸炭焼入装置を使用することもあるが、この
場合には例えば第１図に示すようなトレープッシャー型
のものが多い。
送型の連続浸炭焼入装置を使用することもあるが、この
場合には例えば第１図に示すようなトレープッシャー型
のものが多い。
第１図に示すトレーブツシャ−型連続浸炭焼入装置は、
前洗浄室１において前処理した被熱処理品を前パージ室
２に移し、次いでトレー搬送ブツシャ−３により被熱処
理品を加熱炉４内に装入し、トレー搬送プッシャー３の
作動によって被処理品を加熱炉４内の加熱室、浸炭（拡
散）室、焼入保持室に順次移動させ、次いでトレー搬出
プッシャー５によって被熱処理品を焼入室６内に移して
焼入し、次いで後パージ室７、焼もどし炉８、後洗浄室
２を経て所望の熱処理品を得るようにしたものである。
前洗浄室１において前処理した被熱処理品を前パージ室
２に移し、次いでトレー搬送ブツシャ−３により被熱処
理品を加熱炉４内に装入し、トレー搬送プッシャー３の
作動によって被処理品を加熱炉４内の加熱室、浸炭（拡
散）室、焼入保持室に順次移動させ、次いでトレー搬出
プッシャー５によって被熱処理品を焼入室６内に移して
焼入し、次いで後パージ室７、焼もどし炉８、後洗浄室
２を経て所望の熱処理品を得るようにしたものである。
このようなトレープッシャー型連続浸炭焼入装置は、搬
送が単純であり、連続式の熱処理装置において特に嫌う
駆動部の故障が少なく、安定した熱処理を連続して行う
ことが可能であるというすぐれた特徴を有しているが、
次に示すようないくつかの問題点もあった。すなわち、 ■加熱炉４内の加熱室、浸炭（拡散）室、焼入保持室の
各室間において中間扉を設けることができないため、加
熱室および焼入保持室の部分で炭素の析出（スーティン
グ）を生じやすいこと、■加熱炉４内の加熱室、浸炭（
拡散）室、焼入保持室における被処理品の通過速度およ
び時間を個別に変えることができないため、例えば浸炭
深さなどの処理条件を変えるときにはかなりの待ち時間
を生じ、処理効率がかなりわるくなること、■被熱処理
品に対する処理条件の異なる熱処理、例えば浸炭焼入と
加熱焼入、深い浸炭ど浅い浸炭を同時に並行して実施す
ることができないこと、■一つの加熱炉内に温度の異な
る加熱区域、浸炭（拡散）区域、焼入保持区域があるの
で各区域間で熱の移動を生じ、熱効率がかなり悪くなる
こと、 などの問題点があった。
送が単純であり、連続式の熱処理装置において特に嫌う
駆動部の故障が少なく、安定した熱処理を連続して行う
ことが可能であるというすぐれた特徴を有しているが、
次に示すようないくつかの問題点もあった。すなわち、 ■加熱炉４内の加熱室、浸炭（拡散）室、焼入保持室の
各室間において中間扉を設けることができないため、加
熱室および焼入保持室の部分で炭素の析出（スーティン
グ）を生じやすいこと、■加熱炉４内の加熱室、浸炭（
拡散）室、焼入保持室における被処理品の通過速度およ
び時間を個別に変えることができないため、例えば浸炭
深さなどの処理条件を変えるときにはかなりの待ち時間
を生じ、処理効率がかなりわるくなること、■被熱処理
品に対する処理条件の異なる熱処理、例えば浸炭焼入と
加熱焼入、深い浸炭ど浅い浸炭を同時に並行して実施す
ることができないこと、■一つの加熱炉内に温度の異な
る加熱区域、浸炭（拡散）区域、焼入保持区域があるの
で各区域間で熱の移動を生じ、熱効率がかなり悪くなる
こと、 などの問題点があった。
一方、」二連した連続式浸炭焼入装置に対して、第２図
に示すようなバッチ型浸炭焼入装置もよく使用される。
に示すようなバッチ型浸炭焼入装置もよく使用される。
この第２図に示すバッチ型浸炭焼入装置は、内部に発熱
体１１を備えた加熱炉１２と、焼入油槽１３とを隣接し
て一体化した構造を有するものであり、一般には浸炭焼
入に際して拡散を促進させる意味で高温において浸炭（
拡散）し、次いで８３０〜８５０℃まで降温した後に焼
入れするようにしている。このようなバッチ型浸炭焼入
装置では、バッチ処理であるため処理条件はその都度変
更することが可能であり、したがっ ７て処理の融通性
は高いという利点を有しているが、次のような問題点が
ある。すなわち、■加熱炉ごと昇温および降温するため
時間的、熱エネルギー的な損失が著しく大きいこと、■
連続した処理ができず、また、処理時間が長くかかりや
すいので生産性が悪いこと、 などの問題点があった。
体１１を備えた加熱炉１２と、焼入油槽１３とを隣接し
て一体化した構造を有するものであり、一般には浸炭焼
入に際して拡散を促進させる意味で高温において浸炭（
拡散）し、次いで８３０〜８５０℃まで降温した後に焼
入れするようにしている。このようなバッチ型浸炭焼入
装置では、バッチ処理であるため処理条件はその都度変
更することが可能であり、したがっ ７て処理の融通性
は高いという利点を有しているが、次のような問題点が
ある。すなわち、■加熱炉ごと昇温および降温するため
時間的、熱エネルギー的な損失が著しく大きいこと、■
連続した処理ができず、また、処理時間が長くかかりや
すいので生産性が悪いこと、 などの問題点があった。
この発明は、上述したような従来の問題点に着目してな
されたもので、１ユニツトの雰囲気熱処理系統において
異なる条件での雰囲気熱処理を同時にかつ連続して行う
ことが可能であり、各雰囲気熱処理毎の雰囲気の安定化
および炭素の析出（スーティング）抑制をはかることが
でき、連続処理が可能であるため時間的および熱エネル
ギー的な損失が非常に小さく、雰囲気熱処理における生
産性および作業性に著しく優れた連続熱処理方法および
連続熱処理装置を提供することを目的としている。
されたもので、１ユニツトの雰囲気熱処理系統において
異なる条件での雰囲気熱処理を同時にかつ連続して行う
ことが可能であり、各雰囲気熱処理毎の雰囲気の安定化
および炭素の析出（スーティング）抑制をはかることが
でき、連続処理が可能であるため時間的および熱エネル
ギー的な損失が非常に小さく、雰囲気熱処理における生
産性および作業性に著しく優れた連続熱処理方法および
連続熱処理装置を提供することを目的としている。
この発明は、被熱処理品を雰囲気加熱前段階、雰囲気加
熱段階および雰囲気加熱後段階を経て浸炭・窒化等の雰
囲気熱処理を行う方法において、少なくとも前記雰囲気
加熱段階を複数並列に設けて各々前記雰囲気加熱前段階
および雰囲気加熱後段階と連続させ、単一の雰囲気熱処
理系統において異なる条件での連続した雰囲気熱処理を
可能にしたことを特徴としており、この連続熱処理方法
の実施に直接使用するこの発明による連続熱処理装置は
、前パージ室と、前記前パージ室と連通会遮断可能に隣
接する複数の雰囲気加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室
と連通・遮断可能に隣接する後パージ室とを備え、前記
前パージ室、雰囲気加熱室および後パージ室の室内条件
を各々個別に制御可能としたことを特徴としている。
熱段階および雰囲気加熱後段階を経て浸炭・窒化等の雰
囲気熱処理を行う方法において、少なくとも前記雰囲気
加熱段階を複数並列に設けて各々前記雰囲気加熱前段階
および雰囲気加熱後段階と連続させ、単一の雰囲気熱処
理系統において異なる条件での連続した雰囲気熱処理を
可能にしたことを特徴としており、この連続熱処理方法
の実施に直接使用するこの発明による連続熱処理装置は
、前パージ室と、前記前パージ室と連通会遮断可能に隣
接する複数の雰囲気加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室
と連通・遮断可能に隣接する後パージ室とを備え、前記
前パージ室、雰囲気加熱室および後パージ室の室内条件
を各々個別に制御可能としたことを特徴としている。
第３図はこの発明の一実施態様を示す連続熱処理装置の
平面説明図であって、この連続熱処理装置２１は、前パ
ージ室２２と、前記前パージ室２２と扉２３を介して連
通・遮断可能にした加熱室２４と、前記加熱室２４と各
々扉２５．２６を介して連通Φ遮断可能にした複数すな
わち図示例のように二つの雰囲気加熱室（例えば浸炭室
）２７．２８と、前記各雰囲気加熱室２７．２８と各々
扉３１．３２を介して連通φ遮断可能にした焼入保持室
３３と、前記焼入保持室３３と扉３４を介して連通・遮
断可能にし且つ油槽３５ａを設置した焼入兼後パージ室
３５とを備えたものであり、加熱室２４、雰囲気加熱室
２７．２８および焼入保持室３′５ならびに所２５．２
６．３１ 。
平面説明図であって、この連続熱処理装置２１は、前パ
ージ室２２と、前記前パージ室２２と扉２３を介して連
通・遮断可能にした加熱室２４と、前記加熱室２４と各
々扉２５．２６を介して連通Φ遮断可能にした複数すな
わち図示例のように二つの雰囲気加熱室（例えば浸炭室
）２７．２８と、前記各雰囲気加熱室２７．２８と各々
扉３１．３２を介して連通φ遮断可能にした焼入保持室
３３と、前記焼入保持室３３と扉３４を介して連通・遮
断可能にし且つ油槽３５ａを設置した焼入兼後パージ室
３５とを備えたものであり、加熱室２４、雰囲気加熱室
２７．２８および焼入保持室３′５ならびに所２５．２
６．３１ 。
３２が一体的に断熱壁３６によって囲まれた構成をなし
、ｔＲｚｓ、３＋も断熱壁により形成してなるものであ
る。
、ｔＲｚｓ、３＋も断熱壁により形成してなるものであ
る。
この場合、前パージ室２２および加熱室２斗が雰囲気加
熱室２７．２８すなわち雰囲気加熱段階に対する雰囲気
加熱前段階となり、焼入保持室３３および焼入兼後パー
ジ室３５が雰囲気加熱室２７．２８すなわち雰囲気加熱
段階に対する雰囲気加熱後段階となり、前記雰囲気加熱
前段階、雰囲気加熱段階および雰囲気加熱後段階が同一
の雰囲気熱処理系統内において連続するように構成しで
ある。
熱室２７．２８すなわち雰囲気加熱段階に対する雰囲気
加熱前段階となり、焼入保持室３３および焼入兼後パー
ジ室３５が雰囲気加熱室２７．２８すなわち雰囲気加熱
段階に対する雰囲気加熱後段階となり、前記雰囲気加熱
前段階、雰囲気加熱段階および雰囲気加熱後段階が同一
の雰囲気熱処理系統内において連続するように構成しで
ある。
また、加熱室２４内にはヒーター４４を備え、雰囲気加
熱室２７．２８内には各々ヒーター２７ａ、２７ｂ、２
８ａ２８ｂを備え、焼入保持室３３内にはヒーター５３
を備えていて、それぞれ各室内の温度、雰囲気等の条件
を個別に制御しうるようになっている。
熱室２７．２８内には各々ヒーター２７ａ、２７ｂ、２
８ａ２８ｂを備え、焼入保持室３３内にはヒーター５３
を備えていて、それぞれ各室内の温度、雰囲気等の条件
を個別に制御しうるようになっている。
なお、図において５１は被熱処理品装入口の扉、５２は
前パージ室２２内に装入した被処理品を移動させる駆動
装置、５４は加熱室２４内の被処理品を移動させる駆動
装置、５７．５８はそれぞれ雰囲気加熱室２７．２８内
の被処理品を移動させる駆動装置である。
前パージ室２２内に装入した被処理品を移動させる駆動
装置、５４は加熱室２４内の被処理品を移動させる駆動
装置、５７．５８はそれぞれ雰囲気加熱室２７．２８内
の被処理品を移動させる駆動装置である。
このような熱処理装置２１における温度および雰囲気制
御等は、各扉２３，２５．２６．３１ 。
御等は、各扉２３，２５．２６．３１ 。
３２．３４によって各室２２．２４．２７゜２８．３３
．３５を遮断することが可能であるため、各々影響を与
えることなく各室別に行うことができる。そして、この
場合の制御は簡単なコンピュータを使用して容易に行う
ことが可能であり、例えば最終段階から逆算して前パー
ジ室２２への被熱処理品の搬入時期およびその他各段階
における制御プログラムを自動的に決定する。そして、
必要に応じて各処理段階における処理パターンを磁気テ
ープ等により記録しておき、被熱処理品を複数ロット準
備して、各ロフト毎に前記記録した処理パターンに従っ
て全自動式に熱処理を行うようにし、熱処理作業の全自
動化、無人化を実現させることも可能である。
．３５を遮断することが可能であるため、各々影響を与
えることなく各室別に行うことができる。そして、この
場合の制御は簡単なコンピュータを使用して容易に行う
ことが可能であり、例えば最終段階から逆算して前パー
ジ室２２への被熱処理品の搬入時期およびその他各段階
における制御プログラムを自動的に決定する。そして、
必要に応じて各処理段階における処理パターンを磁気テ
ープ等により記録しておき、被熱処理品を複数ロット準
備して、各ロフト毎に前記記録した処理パターンに従っ
て全自動式に熱処理を行うようにし、熱処理作業の全自
動化、無人化を実現させることも可能である。
次に、上述した構成の連続熱処理装置２１を使用して浸
炭、窒化、浸炭窒化等の雰囲気熱処理を行う態様につい
て説明する。
炭、窒化、浸炭窒化等の雰囲気熱処理を行う態様につい
て説明する。
第４図（ａ）において、被熱処理品を前パージ室２２内
に装入して前パージしたのち、扉２３を開けて前記被熱
処理品を加熱室２４内に移して加熱を行う。次いで、扉
２５を開けて前記被熱処理品の一部または全部を雰囲気
加熱室２７内に移して浅い浸炭を行ったのち、扉３１を
開けて前記浸炭後の被熱処理品を焼入保持室３３内に移
す。一方、前記加熱室２４内の被熱処理品の他部または
全部を扉２６を開けて雰囲気加熱室２８内に移し、深い
浸炭を行ったのち、扉３１を開けて前記浸炭後の被熱処
理品を焼入保持室３３内に移す。
に装入して前パージしたのち、扉２３を開けて前記被熱
処理品を加熱室２４内に移して加熱を行う。次いで、扉
２５を開けて前記被熱処理品の一部または全部を雰囲気
加熱室２７内に移して浅い浸炭を行ったのち、扉３１を
開けて前記浸炭後の被熱処理品を焼入保持室３３内に移
す。一方、前記加熱室２４内の被熱処理品の他部または
全部を扉２６を開けて雰囲気加熱室２８内に移し、深い
浸炭を行ったのち、扉３１を開けて前記浸炭後の被熱処
理品を焼入保持室３３内に移す。
次いで、層３４を開けて前記焼入保持室３３内の被熱処
理品を焼入兼後パージ室３５内の油槽３５ａ内に入れる
とともに、焼入兼後パージ室３５内をパージする。
理品を焼入兼後パージ室３５内の油槽３５ａ内に入れる
とともに、焼入兼後パージ室３５内をパージする。
したがって、単一の連続熱処理装置２１によって、被熱
処理品に対する浅い浸炭と深い浸炭とを必要に応じて同
時に行うことができるという従来全く見られなかったす
ぐれた効果が得られる。
処理品に対する浅い浸炭と深い浸炭とを必要に応じて同
時に行うことができるという従来全く見られなかったす
ぐれた効果が得られる。
また、第４図（ｂ）においては、焼入保持室３３内をも
浸炭雰囲気とし、浸炭後の被処理品の焼入保持を省略す
る場合を示している。この態様は、浸炭温度が低い場合
や、浸炭温度が高いときでも歪の問題が少ない場合など
に適しており、このときにも雰囲気加熱室２７．２８内
における浸炭処理条件を異ならせることが可能である。
浸炭雰囲気とし、浸炭後の被処理品の焼入保持を省略す
る場合を示している。この態様は、浸炭温度が低い場合
や、浸炭温度が高いときでも歪の問題が少ない場合など
に適しており、このときにも雰囲気加熱室２７．２８内
における浸炭処理条件を異ならせることが可能である。
さらに、第４図（Ｃ）においては、一方の雰囲気加熱室
２７内を浸炭雰囲気としない場合を示しており、このよ
うにした場合には一方の雰囲気加熱室２７内に被熱処理
品を移すことによって通常の焼入れが行われ、他方の雰
囲気加熱室２８内に被熱処理品を移すことによって浸炭
焼入れが行われるようになり、単一の熱処理装置２１に
おいて異なる熱処理を必要に応じて同時に行うことが可
能であるという従来には見られない独特の熱処理をしか
も連続的に行える。
２７内を浸炭雰囲気としない場合を示しており、このよ
うにした場合には一方の雰囲気加熱室２７内に被熱処理
品を移すことによって通常の焼入れが行われ、他方の雰
囲気加熱室２８内に被熱処理品を移すことによって浸炭
焼入れが行われるようになり、単一の熱処理装置２１に
おいて異なる熱処理を必要に応じて同時に行うことが可
能であるという従来には見られない独特の熱処理をしか
も連続的に行える。
第４図（ｄ）は両方の雰囲気加熱室２７ 、２８ともに
浸炭雰囲気としない場合を示しており、通常の加熱焼入
のみを行う場合である。
浸炭雰囲気としない場合を示しており、通常の加熱焼入
のみを行う場合である。
このように、第３図に例示したこの発明による熱処理装
置２１を使用することによって■各室２２．２＋、２７
．２８．３３．３５が扉２３．２５，２６．３１．３２
．３４によって仕切られているので、温度や雰囲気ある
いは場合によって圧力等の異なる各室２２，２４，２７
゜２８．３３．３５毎の制御が可能であり、安定した雰
囲気が得られると共に、炭素の析出（スーティング）が
抑制されること、 ■連続炉でありながら処理条件の異なった熱処理、例え
ば浸炭焼入と加熱焼入、あるいは深い浸炭と浅い浸炭等
を同時に処理することが可能であること、 ■加熱室２４．雰囲気加熱室２７．２８、焼例保持室３
３が別々に設けてあり、被熱処理品だけの昇温・降温と
なるので、時間的および熱エネルギー的な損失が著しく
少ないこと、 ■各室２４，２７，２８．３３を断熱扉２３゜２５．２
６，３１．３２．３４で仕切っているので、各室間の熱
の出入りが著しく少なく、熱効率がかなり向上すること
、 ■各室２４．２７，２８．３３ごとに温度管理や雰囲気
管理等の管理が精度よくできるので、浅い浸炭はもちろ
んのこと、高温浸炭にも適すること、 ■多品稀少ロット処理が可能であるが、基本的には連続
炉であり、したがってバッチ型熱処理炉に比較して処理
量が大幅に増加し、生産性が著しく高まること、 ■構造が簡単で故障が少ないこと、 ■空間を有効に利用しているため設置スペースが ）少
なくて済むこと、 などの著しく優れた利益を得ることが可能である。
置２１を使用することによって■各室２２．２＋、２７
．２８．３３．３５が扉２３．２５，２６．３１．３２
．３４によって仕切られているので、温度や雰囲気ある
いは場合によって圧力等の異なる各室２２，２４，２７
゜２８．３３．３５毎の制御が可能であり、安定した雰
囲気が得られると共に、炭素の析出（スーティング）が
抑制されること、 ■連続炉でありながら処理条件の異なった熱処理、例え
ば浸炭焼入と加熱焼入、あるいは深い浸炭と浅い浸炭等
を同時に処理することが可能であること、 ■加熱室２４．雰囲気加熱室２７．２８、焼例保持室３
３が別々に設けてあり、被熱処理品だけの昇温・降温と
なるので、時間的および熱エネルギー的な損失が著しく
少ないこと、 ■各室２４，２７，２８．３３を断熱扉２３゜２５．２
６，３１．３２．３４で仕切っているので、各室間の熱
の出入りが著しく少なく、熱効率がかなり向上すること
、 ■各室２４．２７，２８．３３ごとに温度管理や雰囲気
管理等の管理が精度よくできるので、浅い浸炭はもちろ
んのこと、高温浸炭にも適すること、 ■多品稀少ロット処理が可能であるが、基本的には連続
炉であり、したがってバッチ型熱処理炉に比較して処理
量が大幅に増加し、生産性が著しく高まること、 ■構造が簡単で故障が少ないこと、 ■空間を有効に利用しているため設置スペースが ）少
なくて済むこと、 などの著しく優れた利益を得ることが可能である。
なお、上記の説明では主に雰囲気加熱室２７゜２８内を
浸炭雰囲気または通常雰囲気とする場合について述べた
が、浸炭雰囲気に限らず浸炭窒化雰囲気、窒化雰囲気、
浸硫雰囲気とすることも可能であり、適宜の変成ガスを
利用した雰囲気熱処理を行うことができるものである。
浸炭雰囲気または通常雰囲気とする場合について述べた
が、浸炭雰囲気に限らず浸炭窒化雰囲気、窒化雰囲気、
浸硫雰囲気とすることも可能であり、適宜の変成ガスを
利用した雰囲気熱処理を行うことができるものである。
以上説明してきたように、この発明の連続熱処理方法お
よび連続熱処理装置によれば、被熱処理品を雰囲気加熱
前段階、雰囲気加熱段階および雰囲気加熱後段階を経て
浸炭・窒化等の雰囲気熱処理を行う方法において、少な
くとも前記雰囲気加熱段階を複数並列に設けて各々前記
雰囲気加熱前段階および雰囲気加熱後段階と連続させ、
単一の雰囲気熱処理系統において異なる条件での連続し
た雰囲気熱処理を可能とするようにし、この方法の実施
に直接使用する装置においては、前パージ室と、前記前
パージ室と連通・遮断可能に隣接する複数の雰囲気加熱
室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通・遮断可能に隣接
する後パージ室とを備え、前記前パージ室、雰囲気加熱
室および後パージ室を各々個別に制御可能とした構成に
したから、１ユニツトの雰囲気熱処理系統において異な
る条件での雰囲気熱処理を同時にかつ連続して行うこと
が可能であり、各雰囲気熱処理毎の雰囲気の安定化およ
び炭素の析出（スーティング）抑制をはかることができ
、連続処理が可能であるため時間的および熱エネルギー
的な損失が非常に小さく、熱処理における生産性および
作業性を著しく向」ニさせることが可能であるという従
来には全くみられない著大なる効果をもたらすものであ
る。
よび連続熱処理装置によれば、被熱処理品を雰囲気加熱
前段階、雰囲気加熱段階および雰囲気加熱後段階を経て
浸炭・窒化等の雰囲気熱処理を行う方法において、少な
くとも前記雰囲気加熱段階を複数並列に設けて各々前記
雰囲気加熱前段階および雰囲気加熱後段階と連続させ、
単一の雰囲気熱処理系統において異なる条件での連続し
た雰囲気熱処理を可能とするようにし、この方法の実施
に直接使用する装置においては、前パージ室と、前記前
パージ室と連通・遮断可能に隣接する複数の雰囲気加熱
室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通・遮断可能に隣接
する後パージ室とを備え、前記前パージ室、雰囲気加熱
室および後パージ室を各々個別に制御可能とした構成に
したから、１ユニツトの雰囲気熱処理系統において異な
る条件での雰囲気熱処理を同時にかつ連続して行うこと
が可能であり、各雰囲気熱処理毎の雰囲気の安定化およ
び炭素の析出（スーティング）抑制をはかることができ
、連続処理が可能であるため時間的および熱エネルギー
的な損失が非常に小さく、熱処理における生産性および
作業性を著しく向」ニさせることが可能であるという従
来には全くみられない著大なる効果をもたらすものであ
る。
第１図は従来の連続式熱処理装置の平面説明図、第２図
は従来のバッチ式熱処理装置の平面説明図、第３図はこ
の発明の一実施例による連続熱処理装置の平面説明図、
第４図（ａ）（ｂ） （ｃ）（ｄ）はこの発明による連
続熱処理装置の使用態様を示す各々説明図である。 ２１・・・熱処理装置、 ２２・・・前パージ室、 ２３，２５，２６，３１．３２．３４・・・扉、２４・
・・加熱室、 ２７．２８・・・雰囲気加熱室、 ３３・・・焼入保持室、 ３５・・・焼入兼後パージ室、 ３５ａ・・・油槽。 特許出願人 株式会社 サンチック 代理人弁理士 小 塩 豊 ３２５− 手続補正書 昭和５９年０２月０２Ｅｌ 特許庁長官 若杉 和夫 殿 ■、事件の表示 昭和５８年特許願第２４７９３１号 ２、発明の名称 連続熱処理方法および連続熱処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所（居所）埼玉県浦和市大間木１６１０番地７氏名（
名称）株式会社 サンチック 代表者 横山芳昭 ４、代理人 住所（居所）〒１０４東京都中央区銀座二丁目８番９号
木挽館銀座ビル 電話０３（５８７）２７８１番（代表
）６、補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 明細書の特許請求の範囲９発明の詳細な説明の欄８、補
正の内容 別紙の通り １、明細書第１頁第４行〜第１８行の特許請求の範囲を
次のとおり補正する。 ［２、特許請求の範囲 （１）被熱処理竹叉下囲気熱処理を粂方法にお熱処理を
可能にしたことを特徴とする１熱処理方法。 （２）前パージ室と、前記前パージ室と連通・囲気加熱
室と連通番遮断可能に隣接する後パージ室とを備え、前
記前パージ室、雰囲気加熱室および後パージ室の室内条
件を各々個別に制御可能としたことを特徴とする連続熱
処理装置。」２、明細書第５頁第１７行〜第６頁第１１
行を次のとおり補正する。 ［この発明は、被熱処理品を雰囲気熱処理する方法にお
いて、雰囲気熱処理の独立した個々の部室を縦横並列に
複数設けて異なる条件での連続した雰囲気熱処理を可能
にしたことを特徴としており、この連続熱処理方法の実
施に直接使用するこの発明による連続熱処理装置は、前
パージ室と、前記前パージ室と連通・遮断可能に隣接し
且つ個々に独立した部室を縦横並列に複数並べた雰囲気
加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通φ遮断可能に
隣接する後パージ室とを備え、前記前パージ室、雰囲気
加熱室および後パージ室の室内条件を各々個別に制御可
能としたことを特徴としている。」 ３、同第６頁第１７行〜第１８行を次のとおり補正する
。 「して連通φ遮蔽可能にし且つ個々に独立した部室から
なる縦横並列に複数すなわち図示例のように二つ並べた
雰囲気加熱室（例えば浸炭室）」４、同第７頁第４行の
「加熱室２４、雰囲気加熱室」を「加熱室２４、個々に
独立して並列に設けた雰囲気加熱室」に補正する。 ５、同第７頁第１６行の「系統内において連続するよう
に」を「系統内において並列して連続するように」に補
正する。 ６、同第８頁第１３行の「遮断することが可能」を「遮
断して各々独立した部室とすることが可能」に補正する
。 ７、同第１３頁第９行〜第１４頁第４行の「被熱処理品
を・・・會・φにおいて異なる条件」を次のとおり補正
する。 「被熱処理品を雰囲気熱処理する方法において、雰囲気
熱処理の独立した個々の部室を縦横並列に複数設けて異
なる条件での連続した雰囲気熱処理を可能とするように
し、この方法の実施に直接使用する装置においては、前
パージ室と、前記前パージ室と連通・遮断可能に隣接し
且つ個々に独立した部室を縦横並列に複数並べた雰囲気
加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通ｅ遮断可能に
隣接する後パージ室とを備え、前記前パージ室。 雰囲気加熱室および後パージ室を各々個別に制御可能と
した構成にしたから、一つの雰囲気熱処理設備において
異なる条件」 以上 代理人弁理士 小 塩 豊 ３２９−
は従来のバッチ式熱処理装置の平面説明図、第３図はこ
の発明の一実施例による連続熱処理装置の平面説明図、
第４図（ａ）（ｂ） （ｃ）（ｄ）はこの発明による連
続熱処理装置の使用態様を示す各々説明図である。 ２１・・・熱処理装置、 ２２・・・前パージ室、 ２３，２５，２６，３１．３２．３４・・・扉、２４・
・・加熱室、 ２７．２８・・・雰囲気加熱室、 ３３・・・焼入保持室、 ３５・・・焼入兼後パージ室、 ３５ａ・・・油槽。 特許出願人 株式会社 サンチック 代理人弁理士 小 塩 豊 ３２５− 手続補正書 昭和５９年０２月０２Ｅｌ 特許庁長官 若杉 和夫 殿 ■、事件の表示 昭和５８年特許願第２４７９３１号 ２、発明の名称 連続熱処理方法および連続熱処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所（居所）埼玉県浦和市大間木１６１０番地７氏名（
名称）株式会社 サンチック 代表者 横山芳昭 ４、代理人 住所（居所）〒１０４東京都中央区銀座二丁目８番９号
木挽館銀座ビル 電話０３（５８７）２７８１番（代表
）６、補正により増加する発明の数 ７、補正の対象 明細書の特許請求の範囲９発明の詳細な説明の欄８、補
正の内容 別紙の通り １、明細書第１頁第４行〜第１８行の特許請求の範囲を
次のとおり補正する。 ［２、特許請求の範囲 （１）被熱処理竹叉下囲気熱処理を粂方法にお熱処理を
可能にしたことを特徴とする１熱処理方法。 （２）前パージ室と、前記前パージ室と連通・囲気加熱
室と連通番遮断可能に隣接する後パージ室とを備え、前
記前パージ室、雰囲気加熱室および後パージ室の室内条
件を各々個別に制御可能としたことを特徴とする連続熱
処理装置。」２、明細書第５頁第１７行〜第６頁第１１
行を次のとおり補正する。 ［この発明は、被熱処理品を雰囲気熱処理する方法にお
いて、雰囲気熱処理の独立した個々の部室を縦横並列に
複数設けて異なる条件での連続した雰囲気熱処理を可能
にしたことを特徴としており、この連続熱処理方法の実
施に直接使用するこの発明による連続熱処理装置は、前
パージ室と、前記前パージ室と連通・遮断可能に隣接し
且つ個々に独立した部室を縦横並列に複数並べた雰囲気
加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通φ遮断可能に
隣接する後パージ室とを備え、前記前パージ室、雰囲気
加熱室および後パージ室の室内条件を各々個別に制御可
能としたことを特徴としている。」 ３、同第６頁第１７行〜第１８行を次のとおり補正する
。 「して連通φ遮蔽可能にし且つ個々に独立した部室から
なる縦横並列に複数すなわち図示例のように二つ並べた
雰囲気加熱室（例えば浸炭室）」４、同第７頁第４行の
「加熱室２４、雰囲気加熱室」を「加熱室２４、個々に
独立して並列に設けた雰囲気加熱室」に補正する。 ５、同第７頁第１６行の「系統内において連続するよう
に」を「系統内において並列して連続するように」に補
正する。 ６、同第８頁第１３行の「遮断することが可能」を「遮
断して各々独立した部室とすることが可能」に補正する
。 ７、同第１３頁第９行〜第１４頁第４行の「被熱処理品
を・・・會・φにおいて異なる条件」を次のとおり補正
する。 「被熱処理品を雰囲気熱処理する方法において、雰囲気
熱処理の独立した個々の部室を縦横並列に複数設けて異
なる条件での連続した雰囲気熱処理を可能とするように
し、この方法の実施に直接使用する装置においては、前
パージ室と、前記前パージ室と連通・遮断可能に隣接し
且つ個々に独立した部室を縦横並列に複数並べた雰囲気
加熱室と、前記複数の雰囲気加熱室と連通ｅ遮断可能に
隣接する後パージ室とを備え、前記前パージ室。 雰囲気加熱室および後パージ室を各々個別に制御可能と
した構成にしたから、一つの雰囲気熱処理設備において
異なる条件」 以上 代理人弁理士 小 塩 豊 ３２９−
Claims (2)
- （１）被熱処理品を雰囲気加熱前段階、雰囲気加熱段階
および雰囲気加熱後段階を経て浸炭・窒化等の雰囲気熱
処理を行う方法において、少なくとも前記雰囲気加熱段
階を複数並列に設けて各々前記雰囲気加熱前段階および
雰囲気加熱後段階と連続させ、単一の雰囲気熱処理系統
において異なる条件での連続した雰囲気熱処理を可能に
したことを特徴とする熱処理方法。 - （２）前パージ室と、前記前パージ室と連通・遮断可能
に隣接する複数の雰囲気加熱室と、前記複数の雰囲気加
熱室と連通・遮断可能に隣接する後パージ室とを備え、
前記前パージ室、雰囲気加熱室および後パージ室の室内
条件を各々個別に制御可能としたことを特徴とする連続
熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24793183A JPS60141863A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 連続熱処理方法および連続熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24793183A JPS60141863A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 連続熱処理方法および連続熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60141863A true JPS60141863A (ja) | 1985-07-26 |
Family
ID=17170678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24793183A Pending JPS60141863A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 連続熱処理方法および連続熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60141863A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62185866A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-14 | Daido Steel Co Ltd | 浸炭処理装置 |
| JPH06509171A (ja) * | 1991-07-22 | 1994-10-13 | アクティエボラゲット ボルボ | 帯状可撓要素の所定張力を指示するための装置 |
| EP0723034A3 (en) * | 1995-01-20 | 1996-12-11 | Dowa Mining Co | Gas carburizing method and apparatus |
| FR2874079A1 (fr) * | 2004-08-06 | 2006-02-10 | Francis Pelissier | Machine de traitement thermochimique de cementation |
| KR100636714B1 (ko) * | 2000-12-15 | 2006-10-20 | 고요 써모시스템 주식회사 | 열처리 장치 및 열처리 방법 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP24793183A patent/JPS60141863A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62185866A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-14 | Daido Steel Co Ltd | 浸炭処理装置 |
| JPH06509171A (ja) * | 1991-07-22 | 1994-10-13 | アクティエボラゲット ボルボ | 帯状可撓要素の所定張力を指示するための装置 |
| EP0723034A3 (en) * | 1995-01-20 | 1996-12-11 | Dowa Mining Co | Gas carburizing method and apparatus |
| KR100636714B1 (ko) * | 2000-12-15 | 2006-10-20 | 고요 써모시스템 주식회사 | 열처리 장치 및 열처리 방법 |
| FR2874079A1 (fr) * | 2004-08-06 | 2006-02-10 | Francis Pelissier | Machine de traitement thermochimique de cementation |
| JP2008509282A (ja) * | 2004-08-06 | 2008-03-27 | エテュード エ コンストリュクスィオン メカニーク | 低圧熱化学的処理機械 |
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