JPS60142929A - シツフ塩基の製造方法 - Google Patents
シツフ塩基の製造方法Info
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- JPS60142929A JPS60142929A JP58245558A JP24555883A JPS60142929A JP S60142929 A JPS60142929 A JP S60142929A JP 58245558 A JP58245558 A JP 58245558A JP 24555883 A JP24555883 A JP 24555883A JP S60142929 A JPS60142929 A JP S60142929A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyridine Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカルビニル化合物と第１級アミンを三ハロゲン
化ホウ素の存在下で反応させることを特徴とする、シッ
フ塩基を製造する方法に関する。
化ホウ素の存在下で反応させることを特徴とする、シッ
フ塩基を製造する方法に関する。
カルビニル化合物と第１級アミンとの縮合反応は平衡反
応であり、生成する水を除去することにより、シップ塩
基の生成は進行することが知られている。
応であり、生成する水を除去することにより、シップ塩
基の生成は進行することが知られている。
しかし、上記の組合反応を無触媒で行なった場合、比較
的長い反応時間を袈したり、生成するシッフ塩基が低収
率でしか得らｔ″Ｌηい。特に、カルビニル化合物のカ
ル−ニル基や雛１級アミンのアミノ基に近接した位置に
嵩高い基が結合しているカルボニル化合物及び１１１７
級アミンを岸いた場合には、上記の欠点が著しい本のと
なる〜。
的長い反応時間を袈したり、生成するシッフ塩基が低収
率でしか得らｔ″Ｌηい。特に、カルビニル化合物のカ
ル−ニル基や雛１級アミンのアミノ基に近接した位置に
嵩高い基が結合しているカルボニル化合物及び１１１７
級アミンを岸いた場合には、上記の欠点が著しい本のと
なる〜。
このような欠点を改良するために、触媒を用いる方法が
研究され、増化亜鉛や酢酸等を触媒として用いることが
提案されている。しかしながら、このような触媒′ｆｔ
片いても、前記の欠点は十分には改良され得ない。
研究され、増化亜鉛や酢酸等を触媒として用いることが
提案されている。しかしながら、このような触媒′ｆｔ
片いても、前記の欠点は十分には改良され得ない。
本発明者らは、上記のような背景のもとにカル／ニル化
合物と第１級アミンとを反応させる方法について研究を
重ねた結果、触媒として三ノ・ログン化ホウ紫を用いる
と上記反応の反応時間か短く、しかも生成するシップ塩
基の収率も大肯いことを見い出し、本発明を完成きせる
に至った。
合物と第１級アミンとを反応させる方法について研究を
重ねた結果、触媒として三ノ・ログン化ホウ紫を用いる
と上記反応の反応時間か短く、しかも生成するシップ塩
基の収率も大肯いことを見い出し、本発明を完成きせる
に至った。
即ち、本発明は、カル＆ ニル化合物と糖１級アミンを
三ハロゲン化ホウ素の存在下に反応させることを％徴と
するシッフ塩基の製造方法である。
三ハロゲン化ホウ素の存在下に反応させることを％徴と
するシッフ塩基の製造方法である。
本発明に於ける三ハログイ化ホウ素は、カル−ニル基と
アミノ基との反応、を短時間に、しかも効率良く行なう
触媒作用を有するものである。従って、カルボニル化合
物及び第１級アミンは、それぞれカル）／ニル基及びア
ミノ基を有する本のであれは特に限定さ１ず甲い得る。
アミノ基との反応、を短時間に、しかも効率良く行なう
触媒作用を有するものである。従って、カルボニル化合
物及び第１級アミンは、それぞれカル）／ニル基及びア
ミノ基を有する本のであれは特に限定さ１ず甲い得る。
該カルビニル化合物は一般に、Ｒ４及びＲ２を有機基と
するとき、一般式、 Ｒ−Ｃ−Ｒ２・・・・・・・・・・・・・・（１）１ で示される化合物である。上記Ｒ４及びＲ２の不機基は
権々のものが公知で、本発明に於いてもこれらの不披基
が特に限定されるものではない。一般に工業的に好適に
使用される有機基の代狡的７１ｘ本のを例示すると次ぎ
のようなものである。
するとき、一般式、 Ｒ−Ｃ−Ｒ２・・・・・・・・・・・・・・（１）１ で示される化合物である。上記Ｒ４及びＲ２の不機基は
権々のものが公知で、本発明に於いてもこれらの不披基
が特に限定されるものではない。一般に工業的に好適に
使用される有機基の代狡的７１ｘ本のを例示すると次ぎ
のようなものである。
例えばＲ４及びＲ２としては同時に水素原子になる場合
を除きそれぞｆ水素原子；アルキル基；アルケニル基：
アルキニル基；フェニル基：ナフチル基、アントリル基
、ビフェニリル基等のアリール基；ピロリル基、ピラゾ
リル基、フリル基、チェニル基、ピリジル基、インドリ
ル基、ヘンソフリル基、ベンゾチェニル基、キノリル基
、オキサシリル基、イソオキサシリル基、チアゾリル基
、チアジアゾリル基、ピリミジニル基、グリニル基、ｆ
ｆ＋）ジニル基、トリアゾリル基等の複素環基；ハロゲ
ン原子、水酸基、シアノ基、アルキル基、へログノアル
キル基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基等で（至
）′換された置換アリール基又は上記の基で置換された
置換抄素壌基等が好適である。工業的に特に広く利用さ
れるカルビニル化合物をより具体的に例示すると、アセ
トン、エチルメチルケトン、メチルグロビルケトン、イ
ングロビルメチルケトン、ブチルアルデヒド等の１］Ｉ
ｆｆ 肪ｍ ａ 和ケトン；メチルビニルケトン、メシ
チルオキシド、メチルへグチノン等の不飽和ケトン：ア
セトフェノン、グロピオフェノン、ブチロフェノン、バ
レロフエノン、コーアセトナフトン、ジフェニルケトン
等の芳香族ケトン：アセトチェノン、コーアセトフロン
、コーアセチルインドール、コーアセチルチアゾール、
コーアセチルグテリジン、チェニルフェニルケトン等の
被素寝式ケトン等のケトン類或いはホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、グロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド、バレルアルデヒド等の脂肪族飽和アルデヒド；
グリオキサール、スクシンジアルデヒド等の脂肪族ジア
ルデヒド：アクロレイン、クロトンアルデヒド、グロピ
オールオルデヒド等の脂肪族不飽和アルデヒド；ベンズ
アルデヒド、ｏ−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド
、α−１β−カプトアルデヒド、シンナムアルデヒド、
コーチオフンアルデヒド、ｌ−アセチル−ニーメトキシ
ベンセン等ノ芳香族アルデヒド；フルフラール、ノーメ
チル−３−フルフラール、３−メトキシ−コーチオフエ
ンアルデヒド、３−エトキシ−、ｌ−ピリジンアルデヒ
ド、Ｎ−メチルビロールーコーアルデヒド、ノーメトキ
シメチル−３−チオフェンアルデヒド、３−エチルチオ
フェンーコーエチルケトン、ヴーメチルー／、２．ター
オキサジアゾール−３−アルデヒド等の複素壊式アルデ
ヒド等のアルデヒド類である。
を除きそれぞｆ水素原子；アルキル基；アルケニル基：
アルキニル基；フェニル基：ナフチル基、アントリル基
、ビフェニリル基等のアリール基；ピロリル基、ピラゾ
リル基、フリル基、チェニル基、ピリジル基、インドリ
ル基、ヘンソフリル基、ベンゾチェニル基、キノリル基
、オキサシリル基、イソオキサシリル基、チアゾリル基
、チアジアゾリル基、ピリミジニル基、グリニル基、ｆ
ｆ＋）ジニル基、トリアゾリル基等の複素環基；ハロゲ
ン原子、水酸基、シアノ基、アルキル基、へログノアル
キル基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルコキシアルキル基、アルキルチオアルキル基等で（至
）′換された置換アリール基又は上記の基で置換された
置換抄素壌基等が好適である。工業的に特に広く利用さ
れるカルビニル化合物をより具体的に例示すると、アセ
トン、エチルメチルケトン、メチルグロビルケトン、イ
ングロビルメチルケトン、ブチルアルデヒド等の１］Ｉ
ｆｆ 肪ｍ ａ 和ケトン；メチルビニルケトン、メシ
チルオキシド、メチルへグチノン等の不飽和ケトン：ア
セトフェノン、グロピオフェノン、ブチロフェノン、バ
レロフエノン、コーアセトナフトン、ジフェニルケトン
等の芳香族ケトン：アセトチェノン、コーアセトフロン
、コーアセチルインドール、コーアセチルチアゾール、
コーアセチルグテリジン、チェニルフェニルケトン等の
被素寝式ケトン等のケトン類或いはホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、グロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド、バレルアルデヒド等の脂肪族飽和アルデヒド；
グリオキサール、スクシンジアルデヒド等の脂肪族ジア
ルデヒド：アクロレイン、クロトンアルデヒド、グロピ
オールオルデヒド等の脂肪族不飽和アルデヒド；ベンズ
アルデヒド、ｏ−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド
、α−１β−カプトアルデヒド、シンナムアルデヒド、
コーチオフンアルデヒド、ｌ−アセチル−ニーメトキシ
ベンセン等ノ芳香族アルデヒド；フルフラール、ノーメ
チル−３−フルフラール、３−メトキシ−コーチオフエ
ンアルデヒド、３−エトキシ−、ｌ−ピリジンアルデヒ
ド、Ｎ−メチルビロールーコーアルデヒド、ノーメトキ
シメチル−３−チオフェンアルデヒド、３−エチルチオ
フェンーコーエチルケトン、ヴーメチルー／、２．ター
オキサジアゾール−３−アルデヒド等の複素壊式アルデ
ヒド等のアルデヒド類である。
上記に示したカルがニル化命物の中でも、従来の技術で
はカルボニル基に近接した位置に嵩＾い、４を弔する化
合物音用いた場合、カルボニル基の反応性が低下し、シ
ップ塩基の収率が低下したり反応時間が長くなったりす
る傾向が強かった。しかしながら、本発明によると、こ
のような傾向の現象はなく、従って、カルボニル基に近
接した位置に嵩高い基を有するカルボニル化合物を使用
した場合、本発明の効果はより一層著しいものとなる。
はカルボニル基に近接した位置に嵩＾い、４を弔する化
合物音用いた場合、カルボニル基の反応性が低下し、シ
ップ塩基の収率が低下したり反応時間が長くなったりす
る傾向が強かった。しかしながら、本発明によると、こ
のような傾向の現象はなく、従って、カルボニル基に近
接した位置に嵩高い基を有するカルボニル化合物を使用
した場合、本発明の効果はより一層著しいものとなる。
本発明が特に好適に応用さｎるカルビニル化合物をグル
ーグ化して示すと次き′に示すようなグルーグに楓する
カルボニル化合物である。
ーグ化して示すと次き′に示すようなグルーグに楓する
カルボニル化合物である。
■ ＃記一般式【１）の式中、Ｒ４とＲ２の両方が置換
又は非＃換アリー四基或いは置換又は非置換神素珈基を
結合して有するカルビニル化合物■ 前記一般式（１１
０式中、Ｒ１又はＲ２の少くとも一方が置換アリール基
又は−換′０素墳基であり、且つカルボニル基に対して
少くとも／っのオルソ位に＃換基を有するカルボニル化
合物同上記■のダル−ｆに極するカルボニル化合物は前
記具体的な化合物名で示せは、ジフェニルケトン、チェ
ニルフェニルケトン等であり、ＩＩｊｌＵ＜■のグルー
１に属するカルボニル化合物は、例えばコーメチルペン
ズアルデヒド、ニーメチル−３−フルフラール、３−メ
トキシ−２−チオフェンアルデヒド、３′−エトキシ−
ニーピリジンアル７”ヒト、Ｎ−メチルビロールーニー
アルデヒド、ノーメトキシメチル−３−チオフェンアル
デヒド、／−アセチルーニーメトキシベンゼン、３−エ
チルチオフエンースーエチルケトン、ジフェニルケトン
、グーメチル−’ ＊ ＝２ ＋ ５−オキサジアゾー
ル−３−アルデヒド等が挙けら１．る。
又は非＃換アリー四基或いは置換又は非置換神素珈基を
結合して有するカルビニル化合物■ 前記一般式（１１
０式中、Ｒ１又はＲ２の少くとも一方が置換アリール基
又は−換′０素墳基であり、且つカルボニル基に対して
少くとも／っのオルソ位に＃換基を有するカルボニル化
合物同上記■のダル−ｆに極するカルボニル化合物は前
記具体的な化合物名で示せは、ジフェニルケトン、チェ
ニルフェニルケトン等であり、ＩＩｊｌＵ＜■のグルー
１に属するカルボニル化合物は、例えばコーメチルペン
ズアルデヒド、ニーメチル−３−フルフラール、３−メ
トキシ−２−チオフェンアルデヒド、３′−エトキシ−
ニーピリジンアル７”ヒト、Ｎ−メチルビロールーニー
アルデヒド、ノーメトキシメチル−３−チオフェンアル
デヒド、／−アセチルーニーメトキシベンゼン、３−エ
チルチオフエンースーエチルケトン、ジフェニルケトン
、グーメチル−’ ＊ ＝２ ＋ ５−オキサジアゾー
ル−３−アルデヒド等が挙けら１．る。
一方、本発明で用いられる第１級アミンはＲ３分有機基
とするとき下記式＋２＋で示される。
とするとき下記式＋２＋で示される。
Ｒ５−ＮＨ２・・・・・・・・・・・・・・・（２１上
記一般式（２１中のＲ３の弔機基は糊々のものが公知で
、本発明ｅζ於いてもこれらの有機基が特に限定ζｎず
用いられる。一般に工業的に好適に使用される本のを例
示すると例えばアルキル基；アルケニル基：アルキニル
基；前記一般式（１１のＲ４として例示したようなアリ
ール基；前記一般式（１１のＲ５として例示したような
？Ｊ緊甲基：及びハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ア
ルキル基、ハロゲノアルキル基、ニトロ基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキル
チオアルキル基、環状ポリエーテル等で置換されたψ換
アリール基又は上記基で置換さｔ′した置換複素環基等
である。
記一般式（２１中のＲ３の弔機基は糊々のものが公知で
、本発明ｅζ於いてもこれらの有機基が特に限定ζｎず
用いられる。一般に工業的に好適に使用される本のを例
示すると例えばアルキル基；アルケニル基：アルキニル
基；前記一般式（１１のＲ４として例示したようなアリ
ール基；前記一般式（１１のＲ５として例示したような
？Ｊ緊甲基：及びハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ア
ルキル基、ハロゲノアルキル基、ニトロ基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルコキシアルキル基、アルキル
チオアルキル基、環状ポリエーテル等で置換されたψ換
アリール基又は上記基で置換さｔ′した置換複素環基等
である。
工業的に好適に使用さｎる第１級アミンをより具体的に
例示すると、メチルアミン、グロビルアミン、ヘキシル
アミン、デシルアミン、アリルアミン、シクロヘキシル
アミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、メチルアニ
リン、コ１．乙−ジメチルアニリン、コーメチルー乙−
エチルアニリンコーメチル−６−メトキシアニリン、ニ
ーエチル−６一メトキシアニリン、ノーイングロピルー
６−メチル了ニリン、２−ｔ−ブチル−乙−メチルアニ
リン、２．Ｉ、−ジクロロアニリ／、コ、乙−ジニトロ
アニリン１，２．４．乙−トリエチＡ、アニリン３−シ
アノーコーアミノヂオフェン、／−アミノ−ナフタレン
等が挙けらｎる。
例示すると、メチルアミン、グロビルアミン、ヘキシル
アミン、デシルアミン、アリルアミン、シクロヘキシル
アミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、メチルアニ
リン、コ１．乙−ジメチルアニリン、コーメチルー乙−
エチルアニリンコーメチル−６−メトキシアニリン、ニ
ーエチル−６一メトキシアニリン、ノーイングロピルー
６−メチル了ニリン、２−ｔ−ブチル−乙−メチルアニ
リン、２．Ｉ、−ジクロロアニリ／、コ、乙−ジニトロ
アニリン１，２．４．乙−トリエチＡ、アニリン３−シ
アノーコーアミノヂオフェン、／−アミノ−ナフタレン
等が挙けらｎる。
上記に示した第７級アミンの中でも、Ｒ３が置換アリー
ル基又は置換抜翠墳基であり、アミン基に対して少くと
もｌっのオルソ位に置換基を有する鎮１級アミベ具体的
には例えば上記コ、６−シメチルアニリン乃ｉ／−アミ
ノ−ナフタレ斐京したものについては、本発明が特に効
果的に適用される。
ル基又は置換抜翠墳基であり、アミン基に対して少くと
もｌっのオルソ位に置換基を有する鎮１級アミベ具体的
には例えば上記コ、６−シメチルアニリン乃ｉ／−アミ
ノ−ナフタレ斐京したものについては、本発明が特に効
果的に適用される。
甘た、本発明の触媒である三ハロヶ゛ン化ポウ素は公知
な化合物であり、傷に限定されず使用出来る。好適に使
用される三ハロゲン化ポウ素會例示すると三フッ化ホウ
素、三フッ化ホウ素エチルエーテル、三項化ホウ素、三
叉化ホウ素、三ヨウ化ホウ素等が好適である。就中、三
叉化ホウ素及び三フッ化ホウ素エチルエーテルは、上記
のカルボニル化合物と枦１Ｍアミンの反応時間を知くし
、しかも生成するシップ塩基の収率を太きくするために
、本発明で％に好ましく使用享れる。
な化合物であり、傷に限定されず使用出来る。好適に使
用される三ハロゲン化ポウ素會例示すると三フッ化ホウ
素、三フッ化ホウ素エチルエーテル、三項化ホウ素、三
叉化ホウ素、三ヨウ化ホウ素等が好適である。就中、三
叉化ホウ素及び三フッ化ホウ素エチルエーテルは、上記
のカルボニル化合物と枦１Ｍアミンの反応時間を知くし
、しかも生成するシップ塩基の収率を太きくするために
、本発明で％に好ましく使用享れる。
帥記木発明の反応を示せば、下記の辿シである。
本発明により、触媒として三ハロケ°ン化ホウ素會用い
、カルビニル化合物と第１級アミンからシップ塩基を製
造する際、通常は不活性有機溶媒を用いるのが好ましい
。該不活性有機溶媒としては、あらゆる種類の不活性有
機溶媒が通用でき、特に限定きれるものではないが、特
に水と共沸する不活性有機溶媒であるベンゼン、トルエ
ン、キシレン等が好適に使用さｎる。本発明の実施にお
いて、反応操作の手順として、不活性有機溶媒中へのカ
ルがエル化合物、第１級アミン及び三ハロゲン化ホウ素
の象加１−序は特に限定されるものではないが、好まし
くは、不活性溶媒中にカルビニル化合物と第１級アミン
を加えて加熱し、還流が始１つた後にニハログン化ホウ
素を徐加するのが艮い。
、カルビニル化合物と第１級アミンからシップ塩基を製
造する際、通常は不活性有機溶媒を用いるのが好ましい
。該不活性有機溶媒としては、あらゆる種類の不活性有
機溶媒が通用でき、特に限定きれるものではないが、特
に水と共沸する不活性有機溶媒であるベンゼン、トルエ
ン、キシレン等が好適に使用さｎる。本発明の実施にお
いて、反応操作の手順として、不活性有機溶媒中へのカ
ルがエル化合物、第１級アミン及び三ハロゲン化ホウ素
の象加１−序は特に限定されるものではないが、好まし
くは、不活性溶媒中にカルビニル化合物と第１級アミン
を加えて加熱し、還流が始１つた後にニハログン化ホウ
素を徐加するのが艮い。
またカルボニル化合物と第１級アミンのモル比は特に限
定されるものでＶｉないが、一般にはｌ：Ｑ、／−／：
ＩＱ、好ましくは／ ：（１７，、、？〜／：３の範囲
から選べばよい。好適には、単離操作上、ｌ：ｌの割合
で使用するのが艮い。また、触媒はカルボニル化合−に
対して（、Ｊ、／−ＩＱ、θＭｆｔＩパーセント、好捷
しくはθ、Ｓ−コ、０重量重量ノナ−セント囲から選ば
ｎる。更にまた、カルボニル化合物と不活性有機溶媒の
重量比は一般にｌ二コ〜ｌ：２０、好壕しくはｌ：３〜
／：ｌθの範囲から選べばよい。本発明の反応における
反応温度は特に限定されず、広い温度範囲で選びうるが
、一般にはり０〜１８０℃、好ましくは５０〜１５０℃
の範囲から選ぶと良い。
定されるものでＶｉないが、一般にはｌ：Ｑ、／−／：
ＩＱ、好ましくは／ ：（１７，、、？〜／：３の範囲
から選べばよい。好適には、単離操作上、ｌ：ｌの割合
で使用するのが艮い。また、触媒はカルボニル化合−に
対して（、Ｊ、／−ＩＱ、θＭｆｔＩパーセント、好捷
しくはθ、Ｓ−コ、０重量重量ノナ−セント囲から選ば
ｎる。更にまた、カルボニル化合物と不活性有機溶媒の
重量比は一般にｌ二コ〜ｌ：２０、好壕しくはｌ：３〜
／：ｌθの範囲から選べばよい。本発明の反応における
反応温度は特に限定されず、広い温度範囲で選びうるが
、一般にはり０〜１８０℃、好ましくは５０〜１５０℃
の範囲から選ぶと良い。
本発明で得られるシッフ塩基の精製方法は、特に限定さ
れるものではないが、不活性有機溶媒を除去すると触媒
である三ノ・ログン化ホウ素をも除去できるので、単に
常圧、減圧、本しくは真空蒸留を行なえは艮く、必袈に
応じて再結晶、またはクロマトグラフによる精製方法を
用いることも出来る。
れるものではないが、不活性有機溶媒を除去すると触媒
である三ノ・ログン化ホウ素をも除去できるので、単に
常圧、減圧、本しくは真空蒸留を行なえは艮く、必袈に
応じて再結晶、またはクロマトグラフによる精製方法を
用いることも出来る。
本発明方法により得られるシッフ塩基は、例え、げ、殺
菌剤、殺虫剤、除草剤の農薬あるいは医薬品、及び、６
椎の農薬原料、医薬品ｐ料、コゝムの老化防止剤、なら
びに液晶などに有用である。
菌剤、殺虫剤、除草剤の農薬あるいは医薬品、及び、６
椎の農薬原料、医薬品ｐ料、コゝムの老化防止剤、なら
びに液晶などに有用である。
以上の説明で明らかなように本発明によｎは、カルボニ
ル化合物と第１級アミンとの反応時間が短縮でき、しか
も生成するシップ塩基を収率良く得ることができる。特
に、従来の触媒では効果的でなかったカルボニル化合物
や第１級アミンとして、カルビニル基やアミノ基に近接
した位置に嵩高い基を有する本のを使用した場合にも、
上記の効果は十分に発揮出来る大きな利点？有する。し
かも、本発明で使用する三ハロゲン化ホウ素は、反応終
了後に溶媒と共に留去するだけで除去可能であるため、
反応終了後の生成物の精製が極めて容易に行なえる。従
って、本発明は、工業的にも優ｎた利点を有するもので
ある。
ル化合物と第１級アミンとの反応時間が短縮でき、しか
も生成するシップ塩基を収率良く得ることができる。特
に、従来の触媒では効果的でなかったカルボニル化合物
や第１級アミンとして、カルビニル基やアミノ基に近接
した位置に嵩高い基を有する本のを使用した場合にも、
上記の効果は十分に発揮出来る大きな利点？有する。し
かも、本発明で使用する三ハロゲン化ホウ素は、反応終
了後に溶媒と共に留去するだけで除去可能であるため、
反応終了後の生成物の精製が極めて容易に行なえる。従
って、本発明は、工業的にも優ｎた利点を有するもので
ある。
以下に、本発明を具体的に説明するために実施例を挙げ
るが、本発明はこｎらの実施例に限定−れるものではな
い。
るが、本発明はこｎらの実施例に限定−れるものではな
い。
実施例１
共沸脱水装置ｎｋ備えた２ ００ ｍｌの三つロフラス
コＫ、２−エチルカルビニル−５−メチルフラン／ Ｏ
ｆ （０−０７、、？ ｍｏＪｉ！ｅ ） 、２ 、
Ａ−ゾ１チル ’アニリンｌθ、ざＰ（０，０７、？
ｍｏ、、６１ｅ ） とベンゼン７００ｍ１ｆ加え、加
熱した。還流し始めてから、反応溶液に０．２０−〇三
フッ化ホウ素エチルエーテルを加え、３時間加熱還流し
た。仕込みモル数に対応した生成水音確認した後、反応
溶液を室温まで冷却した。溶媒及び三フッ化ホウ章エチ
ルエーテル留去した後、残清紮真空蒸留し、沸Ａ／／７
℃１０．！；！；咽Ｈ１の下記の構造式で示されるシッ
フ塩基、ｔ ｌ、 、 ７１ｉ’ （０、０１−２ｍｏ
ｄｅ）、が、淡黄色液体として得られた。収出はｇり％
であった。
コＫ、２−エチルカルビニル−５−メチルフラン／ Ｏ
ｆ （０−０７、、？ ｍｏＪｉ！ｅ ） 、２ 、
Ａ−ゾ１チル ’アニリンｌθ、ざＰ（０，０７、？
ｍｏ、、６１ｅ ） とベンゼン７００ｍ１ｆ加え、加
熱した。還流し始めてから、反応溶液に０．２０−〇三
フッ化ホウ素エチルエーテルを加え、３時間加熱還流し
た。仕込みモル数に対応した生成水音確認した後、反応
溶液を室温まで冷却した。溶媒及び三フッ化ホウ章エチ
ルエーテル留去した後、残清紮真空蒸留し、沸Ａ／／７
℃１０．！；！；咽Ｈ１の下記の構造式で示されるシッ
フ塩基、ｔ ｌ、 、 ７１ｉ’ （０、０１−２ｍｏ
ｄｅ）、が、淡黄色液体として得られた。収出はｇり％
であった。
２Ｈ５
比較例１
実施？ｌＩｌに於いて、三フッ化ホウ素ｌを添加せず、
ベンゼン／ ００ ｍｌに代えキシレンｌθＱ ｍｌ
ｆｉ１″用い反応を３日間実施した以外は実施例１と同
様に実施した。その結果、実施例１と１ｒｉｉじシッフ
塩基を収本夕、１％（収量；１．θ１１（０，００，３
７ｍ０〕ｅ）） を得た。
ベンゼン／ ００ ｍｌに代えキシレンｌθＱ ｍｌ
ｆｉ１″用い反応を３日間実施した以外は実施例１と同
様に実施した。その結果、実施例１と１ｒｉｉじシッフ
塩基を収本夕、１％（収量；１．θ１１（０，００，３
７ｍ０〕ｅ）） を得た。
比較例コ
実施例１に焚いて三フッ化ホウ素の代ねに環化亜鉛０．
！ｔＰ（０，００３７ｍｏｌｅ） ｋ用い、反応全２日
間行った以外は実施ｆＩｌ／と伎１＠に実施した。その
結果実施例１と１■Ｉじシッフ塩基を収量２０．３％（
収１１’、０Ｐ（０，０１５ｍｏ−ｅｅ））で得た。
！ｔＰ（０，００３７ｍｏｌｅ） ｋ用い、反応全２日
間行った以外は実施ｆＩｌ／と伎１＠に実施した。その
結果実施例１と１■Ｉじシッフ塩基を収量２０．３％（
収１１’、０Ｐ（０，０１５ｍｏ−ｅｅ））で得た。
比較例３
実施例１に於いて三フッ化ホウ素の代りに酢醜０− Ｓ
ｌｉ’ （０、００ｇ ３ｍｏ１３ｅ ） を加え、
反応を６時間行った以外は実施例１と１ｉ＝ｉ様に実施
した。
ｌｉ’ （０、００ｇ ３ｍｏ１３ｅ ） を加え、
反応を６時間行った以外は実施例１と１ｉ＝ｉ様に実施
した。
その結果実施例／と同じシップ塩基金収率／９．’１９
６（収量、３．ｇＰ（θ、０ ／ ’Ｉ ｍｏ、、ｌｌ
＋ｅ ））を得た。
６（収量、３．ｇＰ（θ、０ ／ ’Ｉ ｍｏ、、ｌｌ
＋ｅ ））を得た。
実施例ユ
Ｎ１３
と全表／に示−を三ハロゲン化ホウ素が存在するベンゼ
ン溶媒中、加熱還流下に１時間反応を行った。
ン溶媒中、加熱還流下に１時間反応を行った。
反応中の生成中は共沸脱水装置を用いて除去した。
その結果、
ＣＨ。
表／に示す収率で得た。
表 ｌ
実施例１３
表コに示すカルビニル化合物音Ｑ、１０ｍ０１３＠と表
２に示す第１級アミンをθ、 ／ ｍｏ−ｅｅ 用い、
三フッ化ホウ素エヂルエーテル（０、５ｍ ｍｏ４）を
触媒とし表２に示す反応時間、加熱還流した以外は実施
例１と１５，１様に夾施した。その結果表コに示すシッ
フ塩基を表２に示す収率で得た。
２に示す第１級アミンをθ、 ／ ｍｏ−ｅｅ 用い、
三フッ化ホウ素エヂルエーテル（０、５ｍ ｍｏ４）を
触媒とし表２に示す反応時間、加熱還流した以外は実施
例１と１５，１様に夾施した。その結果表コに示すシッ
フ塩基を表２に示す収率で得た。
以下余白
填１頁の続き
３３３：００）
手続補正書
昭和５９年７月２０日
特許庁長官若杉和夫殿
昭和３に年り２月、２ｆｆ日提出の特許Ｊｕｌ （４１
、発明の名称 シック塩基の製造方法 ３、補正をする者 手性との関係 特許出願人 住 所 山ロ県徳山市御影町／番／号 ヶ補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 左補正の内容 （１） 明細書第Ｓ頁ｑ行目 ［プロピオールアルデヒド」を「プロピオールアルデヒ
ド」に補正する。
、発明の名称 シック塩基の製造方法 ３、補正をする者 手性との関係 特許出願人 住 所 山ロ県徳山市御影町／番／号 ヶ補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 左補正の内容 （１） 明細書第Ｓ頁ｑ行目 ［プロピオールアルデヒド」を「プロピオールアルデヒ
ド」に補正する。
（２） 同第７３頁下から一行目；第１１頁６行目及び
７３行目 「三フッ化ホウ素」ヲ［三フッ化ホウ素エチルエーテル
」に補正する。
７３行目 「三フッ化ホウ素」ヲ［三フッ化ホウ素エチルエーテル
」に補正する。
（３） 同第１１Ｉｆｉ９行目
「シック塩基」を「シック塩基」に補正する。
（４） 同第７９頁表コ
Ａ ／ ／のカルボニル化合物及びシッフ塩基の構造式
中 に補正する。
中 に補正する。
（５） 同第７９頁表２
Ａ ／ ３（７） カル、ｙニル化合物の構造式中Ｎ
Ｊ ＨＪ る。
Ｊ ＨＪ る。
（６）同第２０頁表２
Ａ／Ａのシッフ塩基の構造式中
に補正する。
（７） 同第コθ頁表２
Ａ／’７のシップ塩基の構造式中
に補正する。
以上
Claims (1)
- カルがニル化合物と第一級アミンを三ハロゲン化ホウ素
の存在下に反応させること’ｔ％徴とするシッフ塩基の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58245558A JPS60142929A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シツフ塩基の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58245558A JPS60142929A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シツフ塩基の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60142929A true JPS60142929A (ja) | 1985-07-29 |
| JPH0581587B2 JPH0581587B2 (ja) | 1993-11-15 |
Family
ID=17135487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58245558A Granted JPS60142929A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シツフ塩基の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60142929A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017532345A (ja) * | 2014-10-17 | 2017-11-02 | 上海 インスティテュート オブ オーガニック ケミストリー、チャイニーズ アカデミー オブ サイエンシーズＳｈａｎｇｈａｉ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｃｈｉｎｅｓｅ Ａｃａｄｅｍｙ Ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ | 新規なポリオレフィン触媒およびその使用 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP58245558A patent/JPS60142929A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017532345A (ja) * | 2014-10-17 | 2017-11-02 | 上海 インスティテュート オブ オーガニック ケミストリー、チャイニーズ アカデミー オブ サイエンシーズＳｈａｎｇｈａｉ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｃｈｉｎｅｓｅ Ａｃａｄｅｍｙ Ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ | 新規なポリオレフィン触媒およびその使用 |
| US10961329B2 (en) | 2014-10-17 | 2021-03-30 | Shanghai Chemrun Co. Ltd. | Polyolefin catalyst and use thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0581587B2 (ja) | 1993-11-15 |
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