JPS60143588A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高周波加熱装置における加熱室内の被加熱物
への高周波照射の改良に関するものである。

従来例の構成とその問題点 ２　ページ 高周波加熱装置特に電子レンジ等において被加熱物を均
一に加熱しようと従来より種々の発明、考案がなされて
きたが、その１つの方向として高周波の放射源を複数個
設けたものが実用に供されている。又、複数個の放射源
を設けることによって比較的大きな被加熱物でも均一に
加熱できるということを利用して、加熱室内に中間棚を
設は上下に複数個の被加熱物を配置して加熱しようとい
う試みがある。

第１図に複数個の放射源を設けた従来例を示す。

本体１内には、被加熱物２の出入にかかる扉３を加熱室
壁の一部に有する加熱室４が設けられている。この加熱
室４に対し、第１の高周波照射手段として加熱室上壁５
の略中心部に回転自在のアンテナを持つ開口６を設け、
導波管７を高周波発振を行うマグネトロン８のアンテナ
部に高周波的結合がなされている。本体１前面に設けた
操作ｔＺネル（図示せず）を操作し、マグネトロン８に
電力を印加すると、導波管７を伝わって伝送された高周
波が開口６から放射され、被加熱物２を動振加３　ペー
ジ 熱する。同様な構成が加熱室４の底壁９の略中央部分に
設けられている。即ち第２の高周波照射手段として底壁
９の略中心部に回転自在のアンテナを持つ開口１０を設
け、導波管１１を第２のマグネトロン１２のアンテナ部
と高周波的結合がなされている。第１の高周波の放射手
段と同様、操作者が操作パネル（図示せず）を操作する
ことで加熱室４内へ高周波を放射し、被加熱物載置台１
３の上面に載置する被加熱物２を底面中心より加熱する
ようにしている。

上記のごとき構成により被加熱物２を加熱した場合、上
下からの高周波により単一の高周波源のものに比較して
かなり均一な加熱が可能となった。

さらにこのことを利用して第２図に示すごとく加熱室４
内の中間に脱着自在の被加熱物載置台１４を設けて被加
熱物１５を載置し、上下２段に置いた被加熱物２，１５
を上部および下部からの高周波により均一に同時加熱し
ようとする試みである。

つまり、限られた加熱室容積で、上下２段に被加熱物を
配することにより、一度に多量の加熱ができ効率向上を
図ることができるわけである。しかし上記の上下２段の
同時加熱では上段の被加熱物１５と下段の被加熱物２に
温度差が生じてしまうという問題があった。つまり上部
から放射される高周波は上段の被加熱物１５を加熱し、
加熱室壁４に反射した高周波は下段の被加熱物２にも照
射される。しかし下部から放射される高周波は、被加熱
物２と開口１０の距離が非常に近く、大部分が直上の被
加熱物２を加熱する為、下段の被加熱物２の方が早く加
熱されてしまい、上段の被加熱物１５の加熱不足を生じ
、上下の被加熱物の均一な加熱について不満足と言わざ
るを得なかった。

発明の目的 本発明は上記従来の欠点を解消するもので、上下２段に
置かれた被加熱物の均一加熱を目的とするものである。

発明の構成 上記目的を達する為、本発明の高周波加熱装置は、上段
の被加熱物１５の加熱不足状態を防止する為に上部から
の高周波の照射時間を下部からの５　ページ 高周波照射時間より長くするという構成であり、上下の
被加熱物の均一加熱を実現できるという効果を有するも
のである。

実施例の説明 以下、本発明の一実施例について図面に基づいて説明す
る。第３図は本発明の高周波加熱装置の操作パネルの例
である。被加熱物を加熱室に入れ、出力選定キー１６の
高出力（ＨＩＧ）（）又は低出力（ＬＯＷ）を選び、次
にロータリーエンコーダ１７を回して時間設定を行う。

例えば高出力（ＨＩＧＨ）で３分間の時間設定をすれば
表示部１８には設定出力の高出力（ＨＩＧＨ）と設定時
間の３分が表示される。スタートキー１９を押せば、加
熱を開始し３分で停止する。これは最近の電子レンジに
多く見られる操作手順である。さらに上記の被加熱物２
コを上下２段で同時に加熱したい場合、１コの加熱時間
３分を設定し、ｘ２キーを押すと、加熱時間と加熱パタ
ーンが変更される。つまり前述のごとく上部からの高周
波照射時間と下部からの高周波照射時間が同一では、下
段の被加熱物の方６　べ−、ジ が早く加熱され、これを防止する為、上部の高周波照射
時間を下部の高周波照射時間より長くなるように加熱パ
ターンが変わる。第４図にその加熱パターンを示したも
のである。１コの被加熱物で３分間加熱の場合、上部及
び下部の高周波照射時間とも３分間である。２コの被加
熱物を加熱する場合、従来は上部と下部の高周波照射時
間が３分の約２倍の約６分で行っていたのに対し、本発
明では上部の高周波照射時間を３分×２．１倍の６分１
８秒。下部の高周波照射時間を３分×１．９倍の５分４
２秒とすることによって上下の被加熱物が温度差なく加
熱される。上部の高周波照射時間の２．１倍、及び下部
の高周波照射時間の１．９倍は一例であり、それぞれの
高周波加熱装置の特性に合わせて決定される定数であり
、この限りでない。

つまり、ロータリーエンコーダ１７により設定された被
加熱物１個の加熱時間Ｔと、２段加熱キー２０を設定す
ることにより、上部の高周波照射時間Ｔ１はＴＩ＝ＴＸ
　Ｋ１　（Ｋ１はあらかじめ与えられた定数。上記の例
では２．１）で決定される。

７　ページ 下部の高周波照射時間Ｔ２は同様にＴ２＝ＴＸＫ２（Ｋ
２はあらかじめ与えられた定数。上記の例では１．９）
で決定される。これらの制御は第５図に示すマイクロコ
ンビーータを含む電子回路で行われる。入力部２１より
出力設定、時間設定及び、２段加熱を指示されると、マ
イクプロセッサ２２で上部と下部それぞれの加熱時間を
油算処理し駆動部２３を通じて、本体２５を動作させる
。マイクロプロセッサ２２で演算処理された加熱時間は
表示部２４に表示させる。

発明の効果 従来のように上下２段加熱を行った場合、下段の被加熱
物が下部の高周波放射の開口から近い為に早く加熱され
てしまい、上段の被加熱物の加熱不足を生じてしまうと
いう高周波照射構造の欠点を解消し、上段、下段の被加
熱物を均一に加熱することができる。表１に上段、下段
の被加熱物の温度差の実測データを示す。従って上段の
被加熱物の加熱不足の為、下段の被加熱物をとり出して
、上段の被加熱物のみを追加加熱する手間が省け、トー
タル的な所要時間を減少させることができた。

又、最近の傾向として、電子レンジ等は、台所スペース
の有効利用ということで、外形寸法をなるべく小さくし
ようという動きがある。従って加熱室寸法も限られたも
のになってしまうが、上下２段加熱が可能になったこと
により、２倍の加熱室を持ったことになり、結果、加熱
室の上下に被加熱物を配置して一度に大量の被加熱物の
加熱を行うことができる。本発明は特にレストラン等で
使用される業務用電子レンジにきわめて有効であり、均
一加熱性能、作業効率を著しく向上させることができる
ものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は２個の高周波発振器を備えた高周波加熱装置の
側面断面図、第２図は同装置で二段加熱を行った時の状
態を示す側面断面図、第３図は本発明の高周波加熱装置
の操作パネルの正面図、第４図は二段加熱を行った時の
加熱時間を従来例と９　ベージ ト・・・・本体、２，１５・・・被加熱物、８，１２・
・　高周波発振器、４・・・・加熱室、６，１０　・給
電の為の開口、１７・・・・・加熱時間設定つまみ、２
０・・・２段加熱時の上下の高周波発振時間変更キー。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名品　
１　図 累　２　因 第　３　図 Ｂ 第　５　区 纂６図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室内へ高
   周波を給電する複数個の高周波発振器を備え、前記複数
   個の高周波発振器の個々の高周波発振時間を異ならせた
   高周波加熱装置。
2. （２）加熱室には上下２段に被加熱物を配置させる構成
   とした特許請求の範囲第１項に記載の高周波加熱装置。
3. （３）前記複数個の高周波発振器の個々の高周波発振時
   間を変えるスイッチを備えた特許請求の範囲第１項又は
   第２項に記載の高周波加熱装置。