JPS60151932A - ビ−ムインデツクス型カラ−陰極線管のマスクパタ−ン製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本劣明はビームインデ噌りス型カラー陰極線管のマスク
パターン製造方法に関する。

（ロ）従来技術 まず１本兄明の説明荀分りやすくするため（二。

７シヤドウマスク型陰極線管の露光方法ζ；ついて。

説明する。尚、このことは、特公昭５７−１８６５９号
公報にも従来技術として記載さオｔている。

第１図はシャドウマスク型の露光装置であり、（１１は
パネル、（２１はシャドウマスク、（３）は光源（４）
からの光の軌道を電子ビームの軌道に二近似さセるため
の補正レンズ、（５）は中心と周辺の光量を調整する調
光フィルタ、　（４ｔｆ４’ｌは他の２色の螢光体を露
光する時の光源の位置を表わしている。第２図は、シャ
ドウマスク型陰極線當の一部の断面図であり。

ｆｂｌｆｙｌｉｒ）ｉ、ｊ：３本の電子ビーム、（２ａ
）はシャドウマスク（２）に設けられ磁子ビーム（ｂ）
（ハｉｒｌが通過する孔、　１ｌｌ（ＨＧＨＢＩは孔（
２ａ　）ｉ通過した電子ビーム１ｂｌｆｙＨｒ１．を二
対応する色の原色螢光体、（７）はプラークストライプ
である。そして、　＃３ｉＪ記第１図の露光装置は、第
２図の磁子ビーム１ｂｌｌｙ）（ｒｌと、光源（布４１
（４７からの光の軌道を、近似させて螢光面を露光する
ものである。すなわち、３本の電子ビームの（至）向中
心≦二対応する位置に夫々設置された光源（４）からの
光は、電子ビーム軌道と近似させるための補正しンズ（
３）及び調光フィルタ（５１及びシャドウマスク（２）
の孔（２ａ）を介してパネル（１１の内面の所定の位置
を照らし、その部分を露光する。

このように、シャドウマスク型陰極線管の場合は、シャ
ドウマスク（２）の１つの孔（２ａ）を３本の電子ビー
ムｆｂｌ（ａ）ｌｒｌが通過した後に、この電子ビーム
が夫々に対応した螢光体（Ｂ）ｆｃ＋ｌ　ｆＲｌに面画
して色再生がイテなわＲ７Ｊ。そし℃、パネル（１）の
内面の螢光面も、成子ビームに対比、する露）シ用の光
が、シャドウマスク（２）の孔（２ａ）を介して照らし
た部分を総光することにより形成される。このようじシ
ャドＩクマスク（２）は螢光面ｔＵ）“Ｃするためのマ
スクパターンとしても使用されるため、パネル（１）と
シャドウマスク（２１はβる一定の１１隔だけ離さｎて
設置されている。

ところで、第６図乃至第５図（二示すようなビームイン
デ叩りス型陰極線せでは、単−手続（８）より放射さｒ
した一本の電子ビーム（９）が螢光面の３原色螢元体ｆ
Ｒ１１（）ｌ　（Ｂｌ　ｋ励起すると共にインチ９クス
螢光体ｆ１１も励起する。そして、このインデ雫りス螢
光体ｔＩ）からの光ｎｔＮは光検出器（１，１）Ｃより
元電笈換された後≦ニインデックス処理回路（１２１に
入力される。インデ噌りス処理回路（１２１では１元検
出器圓からの信号により１電子ビーム（９１の掃引位置
を検出し、電子銃（８）Ｃ二供給する色信号を切り換え
ている。このように、ビームインデ・ψクス型陰極線當
Ｃ二於いては、単・成子ビーム（９）により色再生を行
な・】ているので、シャドウマスクが必要ではい。尚、
第４因及び第５図に於いて、　（１：（ｉは水ｌ容性有
機物實、１４１はメタルバ噌り膜である。

ところで、螢光１１１ｉ３（ｆ：精度よく露光形成する
ためと二は、パネル内面とマスクパタンの間隔は小さい
方が艮い。このことを第６図及び第７図１ｃ番照しつつ
説明する。ある有効な径をもった光源（４）からの光を
マスクパターン（２謄介してパネル内面ｉ：照射して一
元する場合、第６図（二示すよう（二、ツクネル内面と
マスクパターンＸ２ｆとの曲に距離があると。

パネル内面の真影部（Ｆ−Ｇ）と半影部（Ｅ−Ｆ。

Ｇ−Ｈ）で光強度の差が生じる。尚、第６図第７図（＝
於いて＋Ｄｉは露光量の分布状態をボすものである。こ
のため半影部（Ｅ−Ｆ、Ｇ−Ｈ）での螢光体の形成が直
値（：出来ない。一方第７図に示すようＣ、パネル内面
とマスクパターン（２１と〕間１ｆＭ’に小さくすると
、半影部が生じることがなく螢光体を精度よく形成でき
る。

以上のことより、インデ曜りス型陰甑線管に於いて、パ
ネル内面とマスクパターンを密、温させて露光全行Ｉχ
えば、精度良い螢ｉＨ面を得ることが出来ることが分る
。このため、パネル内面とマスクパターンを近接して露
光する方法（以丁この方法ｔプロキシミテイ方ｌ丑と迩
す。）が考えられるが。

この方法では、パネル内面とマスクパターンの間隔ｆ　
Ｈ７ｉ　；ｆＪ　＋ニ一定としなくてはなしない。この
ため。

マスクパターンとパネル内面の形状が一致していな（て
ｔよ７．Ｃらな刀１りた。

し→　発明の目的 本発明は上記の点Ｃ二Ｍｆｉ　４−（なさλｔたもので
あり。

パネル内面とマスクパターンの１１４隔を一足にするこ
とが口■能なビームインデ〜クス型カラーｒ倉（血線管
のマスクパターン製造方法ｒ提供すること金目的とする
。

日　発明の構成 本光明は、パネル内面と同一曲率の而ｔもつ１１８１金
型と、押型金型の面と半行な【ωをもつ胴型彼型によっ
て成型することｔ′浴凛と゛づ−るビーム・ｆンデイグ
ス型カラー陰極線管のマスクパターン製造方ｌ去°であ
る。

泳ｊ　冥　ｈ也　列 本釦明によるビーム・ｆンｆヅクス型陰極、体篩ど説明
する。第８図は、パ冬ル（１１社成、杉し℃いる金型の
ようすｒ示すもので、　Ｉｌｉ司型Ｕ扮【二硲解したガ
ラスを注入し、押型１５１とｊ飼型匡６）でパイ・ルｉ
ｌｌを成形する。ところで、この押型の押面（１５ａ）
のうち外 パネル内面の有効１而ＣＬ饋（記９図参照〕４の四隅に
対応する部分（二、凹部（図ボセｒ）を設けて、パ　□
ネル目付Ｃ二突出部１ｉ８１を形成している（第９図参
照）。以下この突出部（Ｌ８１ｔ−プロキシミティマー
力と称す。このブロキシミ１イーマーカ化は＝蛍＞’ｔ
、面蕗光露光、マスクパターンと当接して、マスクパタ
ーン監二よって有効画面内に望１下された螢光体が損傷
すく）のを防止している。ところで、第８図のよう響阿
Ｊｙ、稈１Ｌ、たパネルｉ１１の内面の曲率は当然押型
（Ｌ５）の曲率と同一である。そこで、肌１０図（二示
すように、押型（１５）と同一曲率の面？持つ押４（ν
位型囚と、押収用２（１）の面を反転した曲、率の面全
持つ胴型金型シ旧二よ−て、パネル（１）の仁１料と１
占１じガラスケ熔解して成ジしたマ・スフパターン祠＋
２′ｆを要運する。

このマスクパターン！Ａ１２）＆’ｌ当然、ノζネル内
面と同一形状である。又−押４！Ｖｌ　ｆ２ｔｌｌは押
型１５＋−二比Ｉ＜押面ば小さく出来ている。このため
−このマスクツくターン材（２１によりイ′１：成され
たマスクパターン材２）であれは％然パネル（１１の形
状が球面であろうが、ノーネルの長軸側と短軸側の曲率
が異なる非＋Ｊｉ面でろ・５つと、パネル内面と正確（
二車性（：設置することが６１能となり、螢光体の露光
の小旧賃が向上１−る。尚。

本実施例ではマスクパターン祠（２）４ニガラスで成型
したが、例えばパネル（１１の梠料と；整ｊ膨張率が同
一な遜明１ｉト１脂で成型【、でもよい。え、マスクツ
ーターン材Ｃ：所望のパターンを描画する方法としては
。

レーザー加工法、エ一チング法或いは電着性でも良い。

尚、第１１図区二所望のパターンが描口…さ几たマスク
パターン（２謄示す。第１０図に於いてのは光通過部分
、ルはパネル側（二設けられた不透明膜部分である。

次（＝露光１二ついて述べる。通゛帛ブラ噌りストライ
プと称せられる３ｕ吸収性細条が形成されたパネル【二
螢元体とフォトレジスト２混合して懸濁したスラリーを
回転墜布等響二より皇イ１デし、乾燥する。

そして、第１２図１ａｌ　ｌ二示すようＣ：まず、マス
クパターン（２鐘上下に駆動可能なＺ方向ステージｃｌ
！但二設置する。そして、Ｘ方向、Ｙ方向（Ｘ、Ｚと垂
直方向）−〇方向（回転方向）に駆動＝１能なＸＹｏ方
同ステージ（２５１ζ：パネル（１１を設置する。次に
パネル（１１とマスクパターン（２）の位置合わせ會ア
ライメントマーカ等Ｃ二よりＸＡＹθ方向ステージＣか
全駆動して行う。尚、アライメントマーカーとしてプロ
キシミティマーカ（Ｌ８１ヲ使用してもよい。そして、
この後、２方向ステージｔ２４＋　’にパネル（１１方
向に移動してパネル内面のうち螢光体ｕ６１が墜布さｎ
た有効画面の外に設けらｎたプロキシミティマーカ酩と
マスクパターン（２１を接触させ、パネル内面とマスク
パターン（２１の間隔（例えば２０μｍ〜１００μｍ）
を一定に保つ（第１２図１ａｌ参照）。そしてその後Ｆ
Ａ１２図（ｃ）に示すようＣニジ％’ｗター機構（図示
せず）等Ｃ二より螢う“６面（二紫外線（２７１＝を照
射して一定時曲露光する。その後１品水スプレー等で未
４光ｉｉＵ分を現１象処理すると螢光体ストライプパタ
ーンがパネル内面に形成される。以上のような（４１３
調ｔニフロチャートで示す）工程を例えば緑。

爵、赤という順序で、且つその度に、ＸＹθ方向ステー
ジ１２５）　ｆ　Ｘ方向（二移動した所（二設置して、
露光及び現１逮全行なえば３原色螢光体ストライプが一
４又のマスクパターン（２）で形成出来る。その後。

パネル（１１の内面に水溶性有機′ｊお質を塗布しさら
にこの上にアルミニウム等の光反射性金属換（メタルノ
ぞ・・り膜）勿詠石等の方法Ｃ二よって形成する。

セして−ピームインデヴクス型陰、画線前特有のインデ
ックス螢光体とフォトレジストからなるスラリーヲ三原
色螢）を体ストライプと同様に、塗布。

乾燥して所定のマスクパターンを介して露光、現像全す
れば、インデックス型陰極線管の螢光而が形成出来る。

尚１本実施例に於いては、プロキシミティマー力をパネ
ル内面（二設けたが、例えばマスクパターンのパネル側
（二設けてもよい。又１本実施例に於いては、マスクパ
ターン材を３原色螢光体ストライブの露光用として用い
たが２例えばプラ噌りストライプ露光用のパターンを描
画す２Ｌばブラヴクストライプの露光にも使用出来る。

又、インデックス螢光体の露光Ｃ二ついても同様である
。又、蛍光体露光用のマスクパターンを赤、肖、経用に
３つ用意してもよい。

Ｎ　発明の効果 上記の如く本発明では、パネル内面と同一曲率の面をも
つ押型金型と、押型金型の面と平行な而をもつ胴型金型
によってマスクパターンを成型しているので、パネル内
面とマスクパターンを正確に二平行Ｃ二設置することが
出来有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は従来技術に係ｖ、ｍ１図はシャドウ
マスク型カラー陰極線管用の露光装置の図、第２図はシ
ャドウマスク型カラー隘極り管の螢光面部分の拡大曲面
図、第３図はビームインデ〜クス型カラー受１家ムの動
作を説明するための図。 第４図はビームインデヴクス型カラー陰極線管の螢光面
部分の拡大断面図、第５図は第４図の一部拡大図、第６
図及び第７図は露先方法の違い監＝よる螢光面の違いを
説明するだめの凶である。第８図乃至第１６凶は本発明
の一実施例に係り、第８図Ｖまパネル成型を説明するた
めの図、第９図はパネルを示す図、　第１０ｄはマスク
パターン材の成型を説明するための図、第１１図はマス
クパターンτ表わ１図、第１２図及び第１３図は露光工
程を説明ｒるための図である。 （１）・・・パネル、１２Ｈ２＋・・パンスクパターン
、＋２０１・・・押型並型−１，！Ｄ・・・胴帯金型。 出願人　圧洋電機株式会社 代理人　弁理士　佐　野　静　夫 第１灰１ 第２図 第３図 第４図 第６図 第８図 第９図 （ｂ） 第６図 第７図 エ」 手　続　補　正　書（自発） 昭和５９年６゛βｊ（’６日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第８８９０　号 ２、発明の名称　ビームインデックス型カラー陰極線管
のマスクパターン製造方法 ろ、補正をする者 事件との関係　特許出願人 名称　（１８８）三洋電機株式会社 ４、代　理　人 住所　守口市京阪本通２丁目１８番地 連絡先：電話（東京）　８３５−１１１１特ｒｒセンタ
ー駐在中川５、捕旧の対象 明細箸の「特許請求の範囲」の１及び１−発明の詳細な
説明」の欄。 ６、補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の通り補正する。 （２）明細書第６ページ６行目の１−４子ビームｔｂｌ
ｔａｌ（ｒｌ　Ｊを「電子ビームｔｂｌｆｇｌｌｒｌ　
Ｊと訂正ｒる。 （３）明縄暑第６ページ３行目乃至同ページ７行目の記
載をＬ記の如く補正ｒる。 記 ［本発明は、パネル内面と略同−曲率の曲をもつ胴型金
型と、このＩＩ＋４型欣型の面と平行２面をもつ押型側
］こよって成型することを特徴とＴるビームインデック
ス型カラー陰極線管のマスクパタ〜ン製造方法である。 」 （４）明細書第７ページ５行目乃至同ページ１行目の記
載をＬ記の如く補正「る。 記 「（廁の押１１Ｉｉ（１５ａ）の曲率と同一である。そ
こで第１０図に示すように、第８図の押面（１５ａ）と
略同−曲率の而（２１ａ）を持つ桐型遮型しＤと、この
而（２１ａ）と同心の平行な＋１ｉ（２０りを侍つ押型
位型□□□によって、パネル（１）の材料と同じ力゛ラ
スを熔」（５）　明、１ｍｌ計第７ペー９１４行目の１
１１に平行１（設置することが」を［正１１ｆｆｉに設
置ｆることか］と訂正［る。 （６）男イｉｌｌ訃、第１０ページ１４行目乃至同ペー
ジ１８行−の記載をＬ記の如く補正する。 記 １−　Ｌ記の・ノロ（本発明では、パネル内面と略同−
曲率のｏｌｉをもつ嗣型金型と、この嗣型金型の面と平
ｔｒ　／Ｊ：　ｌ田をもつ押型ζＩ２型にまってンスク
ノマターン、を成型しているので、パネル内面と１スク
ｔｚａターンを正確に設置４−ることが出来１イ用であ
る。」以り 特許請求の範囲 ［（１）　パネル内面に近接又は奇骨したマスクパター
ンを介して露光用光源からの光を１１Ｊ記パネル内面に
照射することにより螢光面を形成するビームインデック
ス型カラー陰極ｉ泉αのンスクパターン製造方法に於い
て、前記パネル内面と略同−曲率特徴とするビームイン
デックス盾カラー１；λ極線庁のンスクパターン製造方
法。」

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１１ハネル内面に近接又は密看したマスクパターンを
   介して露）を用元源からの元を前記パネル内面Ｃ二照射
   すること（二より螢光面葡形成するビームインデヴクス
   型カラー陰極線管のマスクパターン製造方法に於いて、
   前記パネル内面と同一曲率の面をもつ押型囲壁と、前記
   押型金型の前記面と平行な面をもつ胴壁金型によって成
   型することを特徴とするビームインデ噌りス型カラー陰
   極線管のマスクパターン製造方法。