JPS60152386A - レ−ザ加工装置 - Google Patents

レ−ザ加工装置

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Publication number
JPS60152386A
JPS60152386A JP59155374A JP15537484A JPS60152386A JP S60152386 A JPS60152386 A JP S60152386A JP 59155374 A JP59155374 A JP 59155374A JP 15537484 A JP15537484 A JP 15537484A JP S60152386 A JPS60152386 A JP S60152386A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
wavelength
rectangular aperture
reference source
laser beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59155374A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikio Hongo
幹雄 本郷
Takeoki Miyauchi
宮内 建興
Hiroshi Yamaguchi
博司 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP59155374A priority Critical patent/JPS60152386A/ja
Publication of JPS60152386A publication Critical patent/JPS60152386A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/03—Observing, e.g. monitoring, the workpiece

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はレーザ加工装置に関するものである。
〔発明の背景〕
発県器から発振されたレーザ光をスリットにより任意の
大きさの矩形に成形し、対物レンズによりこのスリット
像を加工面上に縮小投影して矩形領域を一括加工する方
式のレーザ加工装置として、第6図に示した構成のもの
が知られている。即ちYAGレーザ発振器1から発振さ
れたレーザ光2はビームエキスパンダ乙によりビーム径
を拡けられて、ダイクロインクミラー4によりスリット
6上に照射され、同時に参照元源5からの参照元はレー
ザ光2と同じ元軸上をダイクロイックばラー4を透過し
てスリントロ上に照射される構成VCなっている。まず
、参照元が任意の大きさの矩形にスリット6により成形
され、スリット6を通過した尤はノ・−7ミラー7で曲
げられ、対物レンズ8により被加工物9上に対物レンズ
8の倍率の逆数の大きさのスリット像が結像される。そ
の像をレーザ光をカットするフ・「ルタ10.プリズム
11.接111iレンズ12を通して観察しながら加工
領域に応じてスリット6の大きさ調整および位置合せを
行い、レーザ光2を照射する。然るにレーザ光2は参照
元と同様にスリット6で成形され、縮小されたスリット
像として被加工物9上に結像され、参照元を見ながら調
整した大きさで、位置合せした位置を加工することがで
きる。
しかし、第6図に示したレーザ加工装置においては、観
察は白色光、参照元は特定波長の可視光を使い、かつフ
・「ルタ10によシレーザi2をカットできる様にレー
ザ尤2と12て可視領域以外の波長を使用しており、参
照元によるスリット像と実際に加工される領域は、対物
レンズ80色収差の影響でずれが生じる。この色収差に
よるずれは加工対象がフォトマスクやICの様に限定さ
れたm細な領域である場合には、致命的な欠点となる。
これを解決するため、色収差を補正するための光学系を
付加させたり、参照元とレーザ尤の色収差のない対物レ
ンズを使用する必要があるが、前者は調整が困難であり
、完全に色収差をなくすることは難しく、後者は特別V
C製作しなければならず、傷めて高価になってしまうと
いう欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、色
収差の影響を受けない、高精度な加工を行えるレーザ加
工装置を提供するVcめる。
〔発明の概要j 本発明は、レーザ元と参照元を波長の極めて近いものを
使用することにより、対物レンズによる色収差の影響を
ハくシたものである。即ち、可視領域の波長のレーザ′
#、を使用し、反射帯域の極めて狭いダイクロイックミ
ラーで反射させ、かつ、しτザ尤の波長に近く、ダイク
ロインクミラーを透過できる波長の元を参照元とし又使
用し、対物レンズの色収差を無視するように構成した。
〔発明の実施例〕
以下本発明を図に従って具体的に説明する。
第1図に示したのは本発明によるレーザ加工装置の概略
図である。可視領域の波長のレーザ尤18を発振する発
振器(図ては一例としてN2レーザ発振器15で発振さ
れたN2レーザ尤16で励起する色素レーザ発振器17
で示しである)からのビームをビームエキスパンダ6で
拡け、ダイクロイックミラー19で反射させてスリット
6上に照射する。一方、参照元源5からの参照元は特性
フ・〔ルタ20に、より、レーザ尤の波長r近く、かつ
ダイクロインクミラー19を透過できる波長のみ透過さ
せて、スリット6上に照射させる。
ここで、まずスリット6によって任意の大きさの矩形に
成形し、/・−)ばラー7で反射させて対物レンズ8に
よシ被加工物9上に対物レンズ80倍率の逆数に縮小さ
れたスリット像が結像される。その像を接眼レンズ12
で観察しながら加工領域に応じてスリット6VCよる開
口の大きさの調整およびカロエ位箇合せを行う。この場
合、ンヤノタ21は開いた状態にある。その後レーザ尤
を発振させる。この時、制御回路22により、7ヤツタ
21が閉じてから、即ちセンサ23でシャッタが閉じた
ことを確認してから設定したノくルス数あるいは設定し
た時間だけ発振させ、発振が終了してから/ヤツタ21
を開く。こ′Flにより、レーザ尤が観察者の眼に入る
ことを防ぐことができる。
ここで、前に述べたダイクロイックミラー19の反射ま
たは透過特性は第2図に示す如く、極めて狭い反射帯域
を持つものであり、また、特定波長(この場合にはレー
ザ元の波長λT−)の反射率は十分に高いもので、誘電
体の多層膜を透明基板上に蒸着することにより、容易に
得られる0 また、特性フ・rシタ20は第6図に示す如く、極めて
狭い透過帯域をもち、かつ特定波長(この場合にはレー
ザ尤の波長に近く、ダイクロイックミラー19の透過率
が大である波長λp)の透過率が十分に太きいもので、
誘′亀体の多層膜を透明基板に蒸着することにより得ら
れる。
以上の様に、第2図、第6図に示す特性を持ったダイク
ロイックミラー19と特性フィルタ20を使用すること
によシ、レーザ尤の波長λLと参照元の波長λpを極め
て近くすることができ、対物レンズによる色収差の影響
を無視することができる。また、第6図にはλしくλp
で示しであるが、λL〉λpの場合も同様である。
次に他の実施例を示す。第1図に示した加工装置におい
て、第3図に示した透過帯域の非常に狭いフィルタ20
の代りに、第4図に示す様にレーザ尤の波長λLを中心
に、一定巾の透過率を持つフィルタを使用するものであ
る。この場合、参照元としては第5図に示す様なレーザ
尤の波長λLの両側にピークがある尤(λp+、λpz
)を使用することになり、それぞれλp+とλp2のレ
ーザ尤の波長λLからのずれによる色収差を平均化する
色収差の影#を全く無視することができる。
さらに、第1図において、レーザ光源(ビームエキスパ
ンダ3を含む)と参模元源の位置が入れ換った場合でも
、ダイクロイックミラー19の特性が反転したもの、即
ち、第2図において縦軸を反射率に置き換えた特性のも
のを使用することにより、全く同じ効果があることは明
らかである。
また、本実施例で用いている色素レーザけ、発振波長可
変であり、ダイクロイックミラー19の透過率曲線から
、許容されるぎりぎシまで、参照元の波長に近く調整が
可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発BAによれば、従来加工に使用
するレーザ尤の波長と、位置合せ等に使用する参照元の
波長が大きく違い、対物レンズの色収差により高精度な
位置合せが行えず、その色収差を取り除くために補正光
学系を設けたり、色収差を取り除いた特別なし/ズを製
作したりするため光学系が高価であり、調整も大変であ
ったが、安価な光学系により、色収差の影響を受け7:
【い高精度な加工が行える。
爆らに便来用いられて赤外の波長のレーザ(YAGレー
ザ)IC比べて短波長である可視領域のレーザを使用す
るため、回折の影響が小さく、より高精度な加工が行え
る効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるレーザ加工装置の光学系構成図、
第2図は第1図に示す装置に用いられて(ハ)るダイク
ロイックミラーの透過曲線、第6図は第1図に示す装置
に用いられている特性(干渉)フィルタの透過曲線、第
5図は第4図と異なる透過帯域の広いフィルタの透過曲
線、第6図は第4図に示した特性を持つダイクロイック
ばラーと第5図に示した特性をもつフィルタを透過した
参照元の分光透過率曲線を示す図、第6図は従来技術の
レーザ加工装置の光学系構成図である。 符号の説明 6・・スリット 8・・対物レンズ 9・・被加工物 17・・・色素レーザ発振器 1B・・色素レーザ尤 19・・−ダイクロインクミラー 20・・・特性フィルタ 21・・・ンヤツタ22・・
制御回路。 才1図 2 f 2 図 1′) /f 3辺 □ 屓 文豪 f4−閏 IQO↓ 8°ゝ′ 液長 手続補正書c方式) ・It f’lの表引 昭(1159イl 1し’l願第 155574 53
発明の名作 レーザ加工装置 1山1(を4−ると 1・11・・叫()特1.′1出願人 ?、I・ □゛1町;λt: −++ It −1’l
: シ2 イ21 所代 理 人 (2) 明洲l岩第9¥J第4行目[−第6し1は第4
し月を1−Pi”、5しjは2J’、 3図」とIt正
する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 可視領域の波長をもつレーザ光を発生するレザ尤発生手
    段と上記レーザ光発生手段からのレザ元の波長と極めて
    近い波長を有し、かつ比較的狭い波長帯域の参照元を発
    生する参照元発生手段と、上記レーザ光と参照光と同一
    光軸上に結合する光学系と、上記元軸に垂直な面内で任
    意寸法の矩形開口を形成する矩形開口手段と、該矩形開
    口を被加工物表面に縮小投影させる対物レンズと、上記
    参照′#Sによる上記矩形開口の縮小投影像と被加工物
    表面を観察する観察光学系とを備えたことを特数とする
    レーザ加工装置。
JP59155374A 1984-07-27 1984-07-27 レ−ザ加工装置 Pending JPS60152386A (ja)

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JP59155374A JPS60152386A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 レ−ザ加工装置

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JP59155374A JPS60152386A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 レ−ザ加工装置

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JPS60152386A true JPS60152386A (ja) 1985-08-10

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ID=15604535

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JP59155374A Pending JPS60152386A (ja) 1984-07-27 1984-07-27 レ−ザ加工装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62212091A (ja) * 1986-03-12 1987-09-18 Toshiba Corp レ−ザ加工装置
JPH0433789A (ja) * 1990-05-30 1992-02-05 Hitachi Ltd レーザ加工装置及びその方法
US6861611B2 (en) * 2002-07-19 2005-03-01 Fasweld Inc. Weld checking apparatus for laser welding machine

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5127920A (en) * 1974-09-03 1976-03-09 Kogyo Gijutsuin Hikari 2 shokuseikagyakukankozairyo
JPS5266444A (en) * 1975-11-27 1977-06-01 Laser Ind Ltd Apparatus for alignng laser light flux

Patent Citations (2)

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