JPS60154432A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60154432A JPS60154432A JP863284A JP863284A JPS60154432A JP S60154432 A JPS60154432 A JP S60154432A JP 863284 A JP863284 A JP 863284A JP 863284 A JP863284 A JP 863284A JP S60154432 A JPS60154432 A JP S60154432A
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- Japan
- Prior art keywords
- mask
- shadow
- shadow mask
- main surface
- granular material
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
- H01J9/146—Surface treatment, e.g. blackening, coating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラー受像管に用いられるシャドウマスクの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
一般にＶヤドウマスク型カラー受像管は第１図に示すよ
うに典型的には碍子で形成された外囲器は、実質的に矩
形状のパネル（１）と漏斗状のファンネル（２）とネッ
ク（３）とから構成される。そしてパネル（１）の内面
には赤、緑及び青に夫々発光する例えばストライプ状螢
光体スクリーン（４）が設けられ、一方ネツク（３）に
はパネル（１）の水平軸線に沿って一列に配列され赤、
緑及び青に対応する３本の電子ビーム四を射出するいわ
ゆるインライン型電子銃（６）が内設されている。また
スクリーン（４）に近接対向して多数の透孔の穿設され
た曲面状の主面を有するシャドウマスク（５）が配設さ
れる。シャドウマスク（５）の周辺部はパネル外形に対
応して折り曲げられたスカート部（８）を有し、このス
カート部（８）は断面り字型の枠からなるマスクフレー
ム（７）によつて支持固定され、さらにマスクフレーム
（７）はスプリング（９）を介してパネル（１）内側壁
に埋め込まれたビン（図示せず）で係止めされている。
うに典型的には碍子で形成された外囲器は、実質的に矩
形状のパネル（１）と漏斗状のファンネル（２）とネッ
ク（３）とから構成される。そしてパネル（１）の内面
には赤、緑及び青に夫々発光する例えばストライプ状螢
光体スクリーン（４）が設けられ、一方ネツク（３）に
はパネル（１）の水平軸線に沿って一列に配列され赤、
緑及び青に対応する３本の電子ビーム四を射出するいわ
ゆるインライン型電子銃（６）が内設されている。また
スクリーン（４）に近接対向して多数の透孔の穿設され
た曲面状の主面を有するシャドウマスク（５）が配設さ
れる。シャドウマスク（５）の周辺部はパネル外形に対
応して折り曲げられたスカート部（８）を有し、このス
カート部（８）は断面り字型の枠からなるマスクフレー
ム（７）によつて支持固定され、さらにマスクフレーム
（７）はスプリング（９）を介してパネル（１）内側壁
に埋め込まれたビン（図示せず）で係止めされている。
このようなカラー受像管シニおいて、電子銃（６）から
射出された３本の電子ビーム顛はファンネル（２）近傍
の外部に配置された偏向装置（図示せず）によって偏向
され、実質的に矩形状のパネル（１）に対応する矩形状
・の範囲を走査するように且つシャドウマスク（５）の
透孔な介して色選別され、各色発光ストライプ状螢光体
に正しく対応射突せしめてカラー映像を現出させる。こ
こでシャドウマスク（５）の透孔な通過する有効電子ビ
ーム址はその機構上１／３以下であり、残りの電子ビー
ムはシャドウマスクに射突し熱エネルギーζ＝変換され
時として８Ｃ程度迄シャドウマスクを加熱させる。シャ
ドウマスク（５）は一般に０〜１００℃での熱膨張係数
が１．２ Ｘ １０−’７Ｇと大きい鉄を主成分とする
いわゆる冷間圧延鋼からなる厚さ０．１朋〜Ｑ、 ３ｖ
ｉｔｔｒの薄板から形成されており、このシャドウマス
ク（５）のスカート部（８）を支持するマスクフレーム
（７）は厚さｌ ｍｙｘ前後の強固な断面り型の黒化処
理を施こされた同じく冷間圧延鋼から形成されている。
射出された３本の電子ビーム顛はファンネル（２）近傍
の外部に配置された偏向装置（図示せず）によって偏向
され、実質的に矩形状のパネル（１）に対応する矩形状
・の範囲を走査するように且つシャドウマスク（５）の
透孔な介して色選別され、各色発光ストライプ状螢光体
に正しく対応射突せしめてカラー映像を現出させる。こ
こでシャドウマスク（５）の透孔な通過する有効電子ビ
ーム址はその機構上１／３以下であり、残りの電子ビー
ムはシャドウマスクに射突し熱エネルギーζ＝変換され
時として８Ｃ程度迄シャドウマスクを加熱させる。シャ
ドウマスク（５）は一般に０〜１００℃での熱膨張係数
が１．２ Ｘ １０−’７Ｇと大きい鉄を主成分とする
いわゆる冷間圧延鋼からなる厚さ０．１朋〜Ｑ、 ３ｖ
ｉｔｔｒの薄板から形成されており、このシャドウマス
ク（５）のスカート部（８）を支持するマスクフレーム
（７）は厚さｌ ｍｙｘ前後の強固な断面り型の黒化処
理を施こされた同じく冷間圧延鋼から形成されている。
従って加熱されたシャドウは黒化処理を施こされた熱容
量の大きなマスクフレーム（７）に対接しているため輻
射や伝導によりシャドウマスク周辺からマスクフレーム
に熱が移動し、Ｖヤドクマスク周辺の温度が中央部より
も低くなる。このためシャドウマスク（５）の中央部と
周辺部に温度差を生じ相対的に中央部を主体として卯熱
膨張されたいわゆるドーミング現象を生ずる。
量の大きなマスクフレーム（７）に対接しているため輻
射や伝導によりシャドウマスク周辺からマスクフレーム
に熱が移動し、Ｖヤドクマスク周辺の温度が中央部より
も低くなる。このためシャドウマスク（５）の中央部と
周辺部に温度差を生じ相対的に中央部を主体として卯熱
膨張されたいわゆるドーミング現象を生ずる。
この結果シャドウマスク（５）と螢光体スクリーン（４
）との距離が親化し電子ビームの正確なランディングが
乱され色純度の劣化を生ずる。このような現象は特にカ
ラー受像管の動作初期において顕著である。また部分的
に高輝度の映像が映出される場合も・７ヤドウ′７り０
対応部位で局部的なドー Ｉミング現象を生ずる。
）との距離が親化し電子ビームの正確なランディングが
乱され色純度の劣化を生ずる。このような現象は特にカ
ラー受像管の動作初期において顕著である。また部分的
に高輝度の映像が映出される場合も・７ヤドウ′７り０
対応部位で局部的なドー Ｉミング現象を生ずる。
このようなカラー受像管のドーミング現象に対しては多
くの提案がなされている。例えば米国特許第２８２６５
３８号ではシャドウマスクの熱放射を促進すべくシャド
ウマスクの曲面状の主面に黒鉛よりなる黒色層を設ける
提案がなされている。また低熱膨張、低熱伝導率のガラ
ス状層をシャドウマスクの曲面１状の主面に設ける提案
が本発明と同一の出願人により特願昭５８」１４８８４
３でなされいる。上記何れの場合もシャドウマスクの曲
面状の主面への粒状物の塗布形成は、均一な膜厚、透孔
の孔詰まりのないこと及び量産性に富むことが要求され
る。このような塗布形成法としてはスプレー方式が最も
簡便な方法である。
くの提案がなされている。例えば米国特許第２８２６５
３８号ではシャドウマスクの熱放射を促進すべくシャド
ウマスクの曲面状の主面に黒鉛よりなる黒色層を設ける
提案がなされている。また低熱膨張、低熱伝導率のガラ
ス状層をシャドウマスクの曲面１状の主面に設ける提案
が本発明と同一の出願人により特願昭５８」１４８８４
３でなされいる。上記何れの場合もシャドウマスクの曲
面状の主面への粒状物の塗布形成は、均一な膜厚、透孔
の孔詰まりのないこと及び量産性に富むことが要求され
る。このような塗布形成法としてはスプレー方式が最も
簡便な方法である。
第２図はこのようなスプレー方式の装置の概略を示すも
ので、まず多数の透孔な有する主面（１２１は曲面状に
、主面の周縁部はスカート部（鴎として形成されたシャ
ドウマスクａυのスカート部Ｑ３）をマスクフレーム０
４）に溶接等により支持固定してシャド□ ウマスフ構
体を完成する。次いでこのシャドウマスク構体をスプレ
ーブースα物上のスプレー金側上の１９１定位置に載置
し、ブース住９内のスプレーノズル（１７）から粒状物
を噴射して主面（１２ｉ上に粒状物層（２）を塗布形成
する。その後焼成炉を通してカラー受像管内に組み込ま
れる。尚、場合によっては黒化処理を施こす場合もある
。
ので、まず多数の透孔な有する主面（１２１は曲面状に
、主面の周縁部はスカート部（鴎として形成されたシャ
ドウマスクａυのスカート部Ｑ３）をマスクフレーム０
４）に溶接等により支持固定してシャド□ ウマスフ構
体を完成する。次いでこのシャドウマスク構体をスプレ
ーブースα物上のスプレー金側上の１９１定位置に載置
し、ブース住９内のスプレーノズル（１７）から粒状物
を噴射して主面（１２ｉ上に粒状物層（２）を塗布形成
する。その後焼成炉を通してカラー受像管内に組み込ま
れる。尚、場合によっては黒化処理を施こす場合もある
。
しかし乍らこのような塗布方法では、スプレーの回り込
みによって必要とする部分以外、例えばスカート部（１
３やマスクフレーム０滲にも粒状物が不規則に形成され
後工程の螢光面露光形成時のシャドウマスク構体の複数
回の脱着作業により剥れを生じ易く、シャドウマスク構
体の管内組込後も含めて透孔の孔詰まりや耐絶縁性の低
下を生ずる原因となる。また塗布工程終了後の検量によ
り不良となった場合、少なくともマスクフレームはシャ
ドーウマスフに比して機械的に強固であり回収再使用を
計ることとなるが−この場合マスクフレームに付着した
粒状物を除去する別工程が必要となる。
みによって必要とする部分以外、例えばスカート部（１
３やマスクフレーム０滲にも粒状物が不規則に形成され
後工程の螢光面露光形成時のシャドウマスク構体の複数
回の脱着作業により剥れを生じ易く、シャドウマスク構
体の管内組込後も含めて透孔の孔詰まりや耐絶縁性の低
下を生ずる原因となる。また塗布工程終了後の検量によ
り不良となった場合、少なくともマスクフレームはシャ
ドーウマスフに比して機械的に強固であり回収再使用を
計ることとなるが−この場合マスクフレームに付着した
粒状物を除去する別工程が必要となる。
本発明は以上の点に鑑みてなされたしので、シャドウマ
スクに粒状物を塗布形成するにあたり、不要な部位に粒
状物が付着せずまた回収も容易な製造方法を提供するこ
とを目的とする。
スクに粒状物を塗布形成するにあたり、不要な部位に粒
状物が付着せずまた回収も容易な製造方法を提供するこ
とを目的とする。
本発明は、シャドウマスクのスカート部とマスクフレー
ムを固定する前に少なくともスカート部を遮蔽する治具
を介し゛て粒状物を塗布形成して後スカート部とマスク
フレームを固定するシャドウマスクの製造方法である。
ムを固定する前に少なくともスカート部を遮蔽する治具
を介し゛て粒状物を塗布形成して後スカート部とマスク
フレームを固定するシャドウマスクの製造方法である。
以下本発明の実施例について説明する。尚、本発明に適
用されるシャドウマスク及びカラー受像管自体は第１図
に示すものと同様であるので、全体構成（＝ついての説
明は省略する。
用されるシャドウマスク及びカラー受像管自体は第１図
に示すものと同様であるので、全体構成（＝ついての説
明は省略する。
第３図は本発明の実施例に適用される塗布装置の一例を
示すものである。まず所定の形状に成形されたシャドウ
マスクＵυはマスクフレーム（図示せず）に固定する前
に単独で遮蔽治具ｔｔＳを介してスプレーブース（１５
１上のスプレー台（ＩＱ上の所定位置に載置される。こ
の遮蔽治具翰はシャドウマスクａυの周縁部と相似の形
状に形成されており、Ｖヤドウマスクをこの遮蔽治具に
嵌挿するだけでよい。
示すものである。まず所定の形状に成形されたシャドウ
マスクＵυはマスクフレーム（図示せず）に固定する前
に単独で遮蔽治具ｔｔＳを介してスプレーブース（１５
１上のスプレー台（ＩＱ上の所定位置に載置される。こ
の遮蔽治具翰はシャドウマスクａυの周縁部と相似の形
状に形成されており、Ｖヤドウマスクをこの遮蔽治具に
嵌挿するだけでよい。
この実施例の場合、遮蔽治具住障はシャドウマスク（１
ｍ）のスカート部ｕ３から主面１′ＩＪの周縁無透孔部
員まで延在しており、周縁無透孔部（至）の対応部分は
相似の曲面状に成形されている。次いでブース（１粉内
、の主面（１つに対向するスプレーノズル住ηからシャ
ドウマスクαυの所定部位に粒状物（ｌを所定の膜厚と
なるよう塗布形成する。その後シャドウマスク（１１）
単体は所定の焼成炉を通した後マスクフレームに固定さ
れてＶヤドウマスク構体が完成する。
ｍ）のスカート部ｕ３から主面１′ＩＪの周縁無透孔部
員まで延在しており、周縁無透孔部（至）の対応部分は
相似の曲面状に成形されている。次いでブース（１粉内
、の主面（１つに対向するスプレーノズル住ηからシャ
ドウマスクαυの所定部位に粒状物（ｌを所定の膜厚と
なるよう塗布形成する。その後シャドウマスク（１１）
単体は所定の焼成炉を通した後マスクフレームに固定さ
れてＶヤドウマスク構体が完成する。
このような製造方法では以下の利点を有゛する。
まず粒状物の塗布部位に応じて遮蔽冶具住→を任意に設
定すればよく、不要な部分に粒状物が付着しないので剥
離による透孔の孔詰まりや耐絶縁性の危険性が減少する
。またマスクフレームとは全く無関係となるので従来の
ような検査不良の場合のマスクフレームの回収も無関係
となる。さらにシャドウマスクのスカート部をマスクフ
レームの内側に固定するか、または外側に固定するかの
固定〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、マスクフレームとは無関
係にシャドウマスクの必要な部分にのみ粒状物を塗布形
成することができ、透孔の孔詰まりや耐絶縁性の低下の
危険性を軽減し、量産性に富むシャドウマスクの製造方
法を提供することができる。
定すればよく、不要な部分に粒状物が付着しないので剥
離による透孔の孔詰まりや耐絶縁性の危険性が減少する
。またマスクフレームとは全く無関係となるので従来の
ような検査不良の場合のマスクフレームの回収も無関係
となる。さらにシャドウマスクのスカート部をマスクフ
レームの内側に固定するか、または外側に固定するかの
固定〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、マスクフレームとは無関
係にシャドウマスクの必要な部分にのみ粒状物を塗布形
成することができ、透孔の孔詰まりや耐絶縁性の低下の
危険性を軽減し、量産性に富むシャドウマスクの製造方
法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図はシャドウマスク型カラー受像管の構成を示す概
略断面図、第２図は従来の粒状物塗布装置を示″Ｊ−概
略構成図、第３図は本発明の実施例に適用される塗和装
置をボす概略構成図である。 ａυ・・・シャドウマスク （ｌり・・・主面（ｔ↓・
・・スカート川５ａ４）・・・マスクフレーム（１５）
・・・ブース （１６１・・・スプレー合軸）・・・ス
プレーノズル （１８１−・・粒状物置・・・遮蔽治具 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（ばか１名）第 １
図 第 ２ 図
略断面図、第２図は従来の粒状物塗布装置を示″Ｊ−概
略構成図、第３図は本発明の実施例に適用される塗和装
置をボす概略構成図である。 ａυ・・・シャドウマスク （ｌり・・・主面（ｔ↓・
・・スカート川５ａ４）・・・マスクフレーム（１５）
・・・ブース （１６１・・・スプレー合軸）・・・ス
プレーノズル （１８１−・・粒状物置・・・遮蔽治具 代理人 弁理士 則 近 憲 佑（ばか１名）第 １
図 第 ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）多数の透孔の穿設された曲面状の主面と前記主面の
周縁部に延在するスカート部とからなるＶヤドクマスク
と前記スカート部を支持固定するマスクフレームとから
なるシャドウマスク構体の少なくとも前記曲面状の主面
に粒状物を塗布形成するにあがり、前記スカート部と前
記マスクフレームを固定する前に少なくとも前記スカー
ト部を遮蔽する治具を介して前記粒状物を塗布形成して
後前記スカート部と前記マスクフレームを固定すること
を特徴とするシャドウマスクの製造方法。 ２）前記スカート部から前記主面の周縁部に延在し、且
つ前記主面の周縁部に対応する部分が前記周縁部の曲面
と実質的に同一の曲率な有する治具を介して前記主面に
前記粒状物を塗布形成することを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP863284A JPS60154432A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP863284A JPS60154432A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60154432A true JPS60154432A (ja) | 1985-08-14 |
| JPH0552013B2 JPH0552013B2 (ja) | 1993-08-04 |
Family
ID=11698325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP863284A Granted JPS60154432A (ja) | 1984-01-23 | 1984-01-23 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60154432A (ja) |
-
1984
- 1984-01-23 JP JP863284A patent/JPS60154432A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0552013B2 (ja) | 1993-08-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |