JPS60155185A - 防腐防かび剤 - Google Patents
防腐防かび剤Info
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- JPS60155185A JPS60155185A JP951684A JP951684A JPS60155185A JP S60155185 A JPS60155185 A JP S60155185A JP 951684 A JP951684 A JP 951684A JP 951684 A JP951684 A JP 951684A JP S60155185 A JPS60155185 A JP S60155185A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な化会物としてのテトラアリールどロン
−アンモニウム錯体、並びにこれの防腐防かび剤として
の用途に関する。
−アンモニウム錯体、並びにこれの防腐防かび剤として
の用途に関する。
さらに詳しくは、第1の本発明は一般式+1+(式中、
R1は水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を
示し、R2は)−ロゲン原子、低級アルキル基または低
級アルケニル基葡示し、”3はへテロ環アミンを示す)
で示さnるテトラアリールどロン−アンモニウム錯体を
提供する。
R1は水素原子、ハロゲン原子または低級アルキル基を
示し、R2は)−ロゲン原子、低級アルキル基または低
級アルケニル基葡示し、”3はへテロ環アミンを示す)
で示さnるテトラアリールどロン−アンモニウム錯体を
提供する。
また、第2の本発明は、前記一般式(1)のテトラアリ
−ルミロン−アンモニウム錯体全有効成分とすること孕
特徴とする防腐防かび剤?提供するものである。
−ルミロン−アンモニウム錯体全有効成分とすること孕
特徴とする防腐防かび剤?提供するものである。
従来、アリールゼロ/化合物としては一般式(II)(
式中、Xはカリウム原子、アンモニウム基または四級化
された有機窒素基を表わすが、さらに前記有機窒素基は
窒素原子を含む複素環r形成してもよい)でシわさ扛る
テトランエニルボロン化会物(特公昭!ブーツ3フフ号
公報番照)および、一般式(川) (式中、Yは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキ
ル基?示す)で表わさ扛るトリフェニルボロン化合物(
米国特許第、:/、Z//lt’1号公報参照)が、水
中防汚剤として使用さtLることについて知られている
。しかしながら、こnらが工業用防腐防かび剤として有
効であることは知ら1.ていない。
式中、Xはカリウム原子、アンモニウム基または四級化
された有機窒素基を表わすが、さらに前記有機窒素基は
窒素原子を含む複素環r形成してもよい)でシわさ扛る
テトランエニルボロン化会物(特公昭!ブーツ3フフ号
公報番照)および、一般式(川) (式中、Yは水素原子、ハロゲン原子または低級アルキ
ル基?示す)で表わさ扛るトリフェニルボロン化合物(
米国特許第、:/、Z//lt’1号公報参照)が、水
中防汚剤として使用さtLることについて知られている
。しかしながら、こnらが工業用防腐防かび剤として有
効であることは知ら1.ていない。
本発明者らは、フェニルボロン化合物の防腐防かび剤と
しての用途について鋭意研究した。その結果、前記一般
式(1)で表わさj、る新規なテトラアリールポロン−
アンモニウム鉛r4−が、アスペルギルス、ペニシリウ
ム、リゾープス、フザリウムなどのかび類、ノぐチルス
、シュードモナスなどの細菌類および醇母類に優れた抗
菌性?有すること?見出し、非医療用の殺菌、殺〃・び
剤として、特に工業用の防腐防かび剤として有用である
こと?知見して本発明化合物した。
しての用途について鋭意研究した。その結果、前記一般
式(1)で表わさj、る新規なテトラアリールポロン−
アンモニウム鉛r4−が、アスペルギルス、ペニシリウ
ム、リゾープス、フザリウムなどのかび類、ノぐチルス
、シュードモナスなどの細菌類および醇母類に優れた抗
菌性?有すること?見出し、非医療用の殺菌、殺〃・び
剤として、特に工業用の防腐防かび剤として有用である
こと?知見して本発明化合物した。
本発明のテトラアリールゼロノーアンモニウム錯体は、
〔ヒ学的にも安定で、酸性およびアルカリ領域で十分な
殺菌、防かび効果を発揮し、種々の金属塩が一緒に存在
しても沈澱や着色などを生ずる心配がなく、またプラス
チック類にも配合可能であることなどから、殺菌・消毒
・防腐・防かび剤として実用面で有利である。
〔ヒ学的にも安定で、酸性およびアルカリ領域で十分な
殺菌、防かび効果を発揮し、種々の金属塩が一緒に存在
しても沈澱や着色などを生ずる心配がなく、またプラス
チック類にも配合可能であることなどから、殺菌・消毒
・防腐・防かび剤として実用面で有利である。
一般式fl)の本発明化合物において、几1及び几2カ
し・ロゲ/原子である時には、臭素、塩素又は弗素であ
るのが好ましく、几1及びR2が炭素数/〜tの低級ア
ルキル基である時に線メチル基、エチル基、プロピル基
、インプロピル基、ブチル基、イソジチル基であるのが
好ましく、R2が炭素数−〜乙の低級アルクニル基であ
る時はアリル基又はメチルアリル基であるのが好ましい
。ヘテロ環アミンを示すIt、はSハス(」、を員の含
蟹復素1」dであることができ、ピリジン、イミダゾー
ル、メチルイミダゾールであるのが好ましし)。(几3
・I()は第9級1ヒさノまたアンモニウム基の形であ
シ、 ’vlJえはピリジニウム、イミダゾリウム、メ
チルイミダゾリウム葡形成するのが好ましい。
し・ロゲ/原子である時には、臭素、塩素又は弗素であ
るのが好ましく、几1及びR2が炭素数/〜tの低級ア
ルキル基である時に線メチル基、エチル基、プロピル基
、インプロピル基、ブチル基、イソジチル基であるのが
好ましく、R2が炭素数−〜乙の低級アルクニル基であ
る時はアリル基又はメチルアリル基であるのが好ましい
。ヘテロ環アミンを示すIt、はSハス(」、を員の含
蟹復素1」dであることができ、ピリジン、イミダゾー
ル、メチルイミダゾールであるのが好ましし)。(几3
・I()は第9級1ヒさノまたアンモニウム基の形であ
シ、 ’vlJえはピリジニウム、イミダゾリウム、メ
チルイミダゾリウム葡形成するのが好ましい。
υζに、本発明のテトラフェニルゼロンーアンモニウム
錯体の好ましい例を第1表に示す。i、r 1表に示す
「ヒ合物ifi号は本IJJ細魯中の実施例および試験
例においても参照さ7Lる。
錯体の好ましい例を第1表に示す。i、r 1表に示す
「ヒ合物ifi号は本IJJ細魯中の実施例および試験
例においても参照さ7Lる。
一般式(11)木兄aArFS@−物ハ、一般式(■)
のテトラアリールゾロ/・ナトリウムと一般式(V)の
へテロ環アミンのハロゲン化水素塩と?反応さゼて次の
反応式にノ、5づいて製造できる。
のテトラアリールゾロ/・ナトリウムと一般式(V)の
へテロ環アミンのハロゲン化水素塩と?反応さゼて次の
反応式にノ、5づいて製造できる。
(IV) (V)
(1)
(式中、Xはハロゲン原子〒示し、 R,、R2、几3
はAr1記と同じ意味である) 本発明化合物の製造法を以下に詳しく説明する。
はAr1記と同じ意味である) 本発明化合物の製造法を以下に詳しく説明する。
まず、本発明化合物の製造で原料として用いられる一般
式(R’) のブト2アリールi? o :/aナトリ
ク為の合成は次のように行わ7’Lる。
式(R’) のブト2アリールi? o :/aナトリ
ク為の合成は次のように行わ7’Lる。
まず、一般式(IV)において几!とR,とが同じ基均
(但し几1+Xは前記と同じ意味である)で表わされる
クモル比又はそれよ少過剰量のハロゲン化アリールマグ
ネシウム、あるいは式、(◇−L+’″c艮わ几1 される9モル比又はそれよジ過fII量のアリールリチ
ウムを含むジエチルエーテルまたはテトラヒト07ラン
浴液中に、7モル比の三フッ比ホウ素のジエチルエーテ
ル錯体紮そのままか、あるいはトルエンなどの溶媒で希
釈したill液r攪拌冷却下に滴下した後、還流条件下
で7時間反応させる。次いで反応液を冷却して攪拌しな
がら、ナトリウム源として過剰の食塩、炭62ソーダ、
水酸化ナトリウムなどの水浴液を滴下する。反応終了後
裔こ、上層に分離する有機層を分取し、浴媒葡留去する
と白色結晶が得られ、こ′n、會トルエンなどの非極性
溶媒で洗浄して乾燥すると目的とする一般式(IV)で
表わされるテトラアリール離ロン・ナトリウム類が白色
結晶として得られる。もし精MJ?必髪とするならば、
この白色結晶ケエタノール、イソゾロビルアルコールな
どの低級アルカノール溶媒を用いて再結晶化すればよい
。
クモル比又はそれよ少過剰量のハロゲン化アリールマグ
ネシウム、あるいは式、(◇−L+’″c艮わ几1 される9モル比又はそれよジ過fII量のアリールリチ
ウムを含むジエチルエーテルまたはテトラヒト07ラン
浴液中に、7モル比の三フッ比ホウ素のジエチルエーテ
ル錯体紮そのままか、あるいはトルエンなどの溶媒で希
釈したill液r攪拌冷却下に滴下した後、還流条件下
で7時間反応させる。次いで反応液を冷却して攪拌しな
がら、ナトリウム源として過剰の食塩、炭62ソーダ、
水酸化ナトリウムなどの水浴液を滴下する。反応終了後
裔こ、上層に分離する有機層を分取し、浴媒葡留去する
と白色結晶が得られ、こ′n、會トルエンなどの非極性
溶媒で洗浄して乾燥すると目的とする一般式(IV)で
表わされるテトラアリール離ロン・ナトリウム類が白色
結晶として得られる。もし精MJ?必髪とするならば、
この白色結晶ケエタノール、イソゾロビルアルコールな
どの低級アルカノール溶媒を用いて再結晶化すればよい
。
また一般式(IV)において助と几2とが相異なる基r
示す非対称のテトラアリールポロン化合物に合成するに
は、まず6iJ記と同じ手法でハロゲン化アリールマグ
ネシウム又はアリールリチウム?三7ノ化ポウ素と反応
さぜた休、その反応液からロンケ年1>13する力・、
もしくはハロゲン化アリールマグネシウム又←1、アリ
ールリチウムと三フッ比ホウ素との反応の当初力・ら、
こ11ら反応剤のモル比k E& mに3:/に割りし
て、 トリアリールr3ンロンtO成した後にトリアリ
ールボロンのアリール基上の1−1換基(11,、)と
は14 ;J:つたl:、j %p 基(几2)〒竹す
るアリール基(=(ΣりH,す8人すると、非対称のテ
トラアリールボロンが合成さt]、る。
示す非対称のテトラアリールポロン化合物に合成するに
は、まず6iJ記と同じ手法でハロゲン化アリールマグ
ネシウム又はアリールリチウム?三7ノ化ポウ素と反応
さぜた休、その反応液からロンケ年1>13する力・、
もしくはハロゲン化アリールマグネシウム又←1、アリ
ールリチウムと三フッ比ホウ素との反応の当初力・ら、
こ11ら反応剤のモル比k E& mに3:/に割りし
て、 トリアリールr3ンロンtO成した後にトリアリ
ールボロンのアリール基上の1−1換基(11,、)と
は14 ;J:つたl:、j %p 基(几2)〒竹す
るアリール基(=(ΣりH,す8人すると、非対称のテ
トラアリールボロンが合成さt]、る。
こうして得ら1tた一般式(IV)のテトラアリールボ
ロンのナトリウムと一般式(■のヘテロ環アミン類のハ
ロゲン化水素塩と紫、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコールの如き低級アルカノール、アセトンの
如きケトン類、水などの不活性の極性済媒に溶解して、
/ 0−40 ℃の温度で、?0分〜λ時間混合攪拌す
るだけで反応は終了する。反応溶媒は、前記溶媒?単独
で使用してもよいが混合して使用してもよい。また、反
応生成物かに;i晶として溶媒中に析出した場合にはそ
れを戸別することもできるが、通常は溶媒?留去して濃
縮した後結晶kF別し、水洗して無機塩孕除去し、乾燥
すると高純度の錯体?得る。こうして得られた一般式(
1)のテトラアリール73毎ロン−アンモニウム錯体は
、必要に応じてさらにメタノール、エタノール、クロロ
ホルム、ジメチルホルムアミドなどの醪媒で再結晶化し
て更に精製できる。
ロンのナトリウムと一般式(■のヘテロ環アミン類のハ
ロゲン化水素塩と紫、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコールの如き低級アルカノール、アセトンの
如きケトン類、水などの不活性の極性済媒に溶解して、
/ 0−40 ℃の温度で、?0分〜λ時間混合攪拌す
るだけで反応は終了する。反応溶媒は、前記溶媒?単独
で使用してもよいが混合して使用してもよい。また、反
応生成物かに;i晶として溶媒中に析出した場合にはそ
れを戸別することもできるが、通常は溶媒?留去して濃
縮した後結晶kF別し、水洗して無機塩孕除去し、乾燥
すると高純度の錯体?得る。こうして得られた一般式(
1)のテトラアリール73毎ロン−アンモニウム錯体は
、必要に応じてさらにメタノール、エタノール、クロロ
ホルム、ジメチルホルムアミドなどの醪媒で再結晶化し
て更に精製できる。
次に、本発明化合物の原料であるテトラアリールポロン
・ナトリウムの製造法を、参考例?もって具体的に説明
する。
・ナトリウムの製造法を、参考例?もって具体的に説明
する。
参考例/ アトう(<7−クロロ−フェニル)ボロン・
すトす町シムの合成 ノξラジクロロベンゼンとマグネシウムよフ合成さvた
塩化11クークロロ−フェニルマグネシウム(へコモル
)のテトラヒドロフラン溶液(ざOOme ) ’x、
2j谷ト【のq頚フラスコに入れ、これに三フッ化ホウ
λ;のジエグ・ルエーテル錯(’F 3.3.& f(
0,,2jモル)のトルエン溶液SOゴ紮、系内を水浴
で冷却し4i’=’、 l”i二しながら、10〜.3
0℃で洒下し1こ(!コ、反応混合物を還流条f1で/
貼間7JII熱した。
すトす町シムの合成 ノξラジクロロベンゼンとマグネシウムよフ合成さvた
塩化11クークロロ−フェニルマグネシウム(へコモル
)のテトラヒドロフラン溶液(ざOOme ) ’x、
2j谷ト【のq頚フラスコに入れ、これに三フッ化ホウ
λ;のジエグ・ルエーテル錯(’F 3.3.& f(
0,,2jモル)のトルエン溶液SOゴ紮、系内を水浴
で冷却し4i’=’、 l”i二しながら、10〜.3
0℃で洒下し1こ(!コ、反応混合物を還流条f1で/
貼間7JII熱した。
反応が終了した鏝、反応e孕冷却しこtlに飽和炭酸ソ
ーダ水Kg液、200 m11滴下した。分Pin し
た竹磯層r分散し、Wi媒留去すると白色結晶が侍らf
Lだ。これにトルエフ、300m1’?1加え°C結晶
tはぐしてσゴ別し、さらに700 mlのトルエンで
2回洗って乾燥すると% I;:Q点、710℃の白色
結晶として穴居化合物10t? (収率ざざ%)が得ら
扛た。
ーダ水Kg液、200 m11滴下した。分Pin し
た竹磯層r分散し、Wi媒留去すると白色結晶が侍らf
Lだ。これにトルエフ、300m1’?1加え°C結晶
tはぐしてσゴ別し、さらに700 mlのトルエンで
2回洗って乾燥すると% I;:Q点、710℃の白色
結晶として穴居化合物10t? (収率ざざ%)が得ら
扛た。
次に、本発明化行動の製造法?笑施例忙もって具体的に
説明する。
説明する。
実IM ff’J / アト2(4t−クロロフェニル
)ゼロンービリシニウム錯体(fヒ合物JK;j)の合
成 、!; 00 ml容量のフラスコに、テトラ(q−ク
ロ1−1−フェニル)ホロン命ナト’)’yム;zy、
of(o、o 、5モル)rメタノール、200−に溶
解して加え、と7Lf7C60mlのメタノールに溶解
したピリジン塩酸塩、!;、3 F (0,0、!3−
モル)?攪拌しながら滴下した。流下が終了した鏝、7
時間攪拌を続けて反応、?完結させた。その後、反応液
中の溶媒?留去し、析出した結晶に/ 00 mlの水
’e 7J11えてほぐして結晶kP別した。そして、
この結晶紮さらに水洗して乾燥すると融点が/3゛7〜
/に7℃の白色結晶として表題化付物の/、2a、9?
(収率9ツ65“lh佑た。
)ゼロンービリシニウム錯体(fヒ合物JK;j)の合
成 、!; 00 ml容量のフラスコに、テトラ(q−ク
ロ1−1−フェニル)ホロン命ナト’)’yム;zy、
of(o、o 、5モル)rメタノール、200−に溶
解して加え、と7Lf7C60mlのメタノールに溶解
したピリジン塩酸塩、!;、3 F (0,0、!3−
モル)?攪拌しながら滴下した。流下が終了した鏝、7
時間攪拌を続けて反応、?完結させた。その後、反応液
中の溶媒?留去し、析出した結晶に/ 00 mlの水
’e 7J11えてほぐして結晶kP別した。そして、
この結晶紮さらに水洗して乾燥すると融点が/3゛7〜
/に7℃の白色結晶として表題化付物の/、2a、9?
(収率9ツ65“lh佑た。
元り8分析値は次のとおりである。
測足値 計算1直
Olケ、7% 2ダ、7%
He、/y;y、/qに
実ti:l I;jl 、2 ブト5(Q−クロロフェ
ニル)ボロン−ピリジニウム錯体(化合物IE、!;)
の合成 ピリジン塩酸塩のかわりにピリジン臭酸塩?用い、実細
例/に47(じて反応操作7行い、l’、iH点/j7
〜//、1℃の白色結晶として表題化合物の、2にOV
(収率りに1g%)?得た。
ニル)ボロン−ピリジニウム錯体(化合物IE、!;)
の合成 ピリジン塩酸塩のかわりにピリジン臭酸塩?用い、実細
例/に47(じて反応操作7行い、l’、iH点/j7
〜//、1℃の白色結晶として表題化合物の、2にOV
(収率りに1g%)?得た。
元素分析値はυ(のと二I−;−D ′cある。
i+111定11 削算値
a ttt、t96 4ヶ、り9C
1−(+、、2% q、7%
% IJili 51J 、? ブト7(lI−フルオ
ロフェニル)ボロン−2−メチルイミダゾリウム(1)
体(比@物)j、・g)の合成 10 o rneWNtxのフラスコにテトラ(lI−
フルオロフェニル)セロン争fトIJウム+、/ r
(0,07モル)にエタノールレグ0−に浴)す了して
9口え、こJlにエタノール、2o−&t−1B解した
ノーメチルイミダゾール塩酸塩/、、! f (0,0
1モル)勿攪拌しながら滴下した。滴下が終了した後/
時間攪拌會続けて反応に完結させた。その後反応液中の
溶媒全留去して析出した結晶に、tOmlの水?加えて
ほぐして結晶をP敗した。そしてこの結晶?さらに水洗
7行って乾燥すると融点が、20.S〜、207℃の白
色結晶として表題化合物のり、32(収率′?o1.2
′X)rイ4Iた。
ロフェニル)ボロン−2−メチルイミダゾリウム(1)
体(比@物)j、・g)の合成 10 o rneWNtxのフラスコにテトラ(lI−
フルオロフェニル)セロン争fトIJウム+、/ r
(0,07モル)にエタノールレグ0−に浴)す了して
9口え、こJlにエタノール、2o−&t−1B解した
ノーメチルイミダゾール塩酸塩/、、! f (0,0
1モル)勿攪拌しながら滴下した。滴下が終了した後/
時間攪拌會続けて反応に完結させた。その後反応液中の
溶媒全留去して析出した結晶に、tOmlの水?加えて
ほぐして結晶をP敗した。そしてこの結晶?さらに水洗
7行って乾燥すると融点が、20.S〜、207℃の白
色結晶として表題化合物のり、32(収率′?o1.2
′X)rイ4Iた。
元素分析値は次のとおりである。
61り定値 針子γ値
0 70、!;% 70.9%
11 .5.oXl/、q93
実顯911グデトジ(グーフルオロフェニル)ボロノー
ーーメチルイミダゾリウム錯体(化合物15g)の合成 反応溶媒にインプロピルアルコール’x <t 用L、
実施例、、? fC早じて操作?行い融点が、2 c)
j〜、207℃の白色結晶として安居化合Qyyの4
′Jp(収率りλ−9′/+6)を得た。
ーーメチルイミダゾリウム錯体(化合物15g)の合成 反応溶媒にインプロピルアルコール’x <t 用L、
実施例、、? fC早じて操作?行い融点が、2 c)
j〜、207℃の白色結晶として安居化合Qyyの4
′Jp(収率りλ−9′/+6)を得た。
元素分析1mは次のとおシである。
測足値 肘′JL値
0 7.7.g% タ3.り9σ
Hダ、79C亭、7%
’Ablf5’IJ−!i テト、ニア (弘−メチル
フェニル) yfロン−ピリジニウム錯体(化合物i;
i)の合成 、!; 00 tn1番II;゛のフラスコにテトラ(
グーメチルフェニル)ホロン・ナトリウム/ ’?、Y
r (0,0,3モル)紮テトラヒドロフy 7.2
o 01.、/にrU R’l (/て卯え、これに
ピリジン’I OW (0,0、!;モル)および当モ
/l/ fii:(7) tM b・l水k 7J11
えた水ra W 、S Ome k tj;:拌しなが
ら滴下し1こ。以下笑鮨則/と同様の処理孕して融点が
/ 83〜/J’J−℃の白色に+’j 1ijHとし
て次kn Its Omノ、20.jj’ f (9/
、39に ) k 4り yv。
フェニル) yfロン−ピリジニウム錯体(化合物i;
i)の合成 、!; 00 tn1番II;゛のフラスコにテトラ(
グーメチルフェニル)ホロン・ナトリウム/ ’?、Y
r (0,0,3モル)紮テトラヒドロフy 7.2
o 01.、/にrU R’l (/て卯え、これに
ピリジン’I OW (0,0、!;モル)および当モ
/l/ fii:(7) tM b・l水k 7J11
えた水ra W 、S Ome k tj;:拌しなが
ら滴下し1こ。以下笑鮨則/と同様の処理孕して融点が
/ 83〜/J’J−℃の白色に+’j 1ijHとし
て次kn Its Omノ、20.jj’ f (9/
、39に ) k 4り yv。
元素分析値は次のとおりである。
i11’l 511領 ロ1針値
a it、ざXl?7.0%
H7,り5+6 7..596
実j伺N t ) リ フェニル−(4−アリノリフェ
ニルボロン−λ−メチルイミダゾリウム(1;体(fヒ
合物ap)の合成 反応0媒にア七トンを使用して災す−9IJ 3と回付
ニトリフェニル−(4−アリル)フェニルボロン呻ナト
リウムとノーメチルイミダゾール塩酸塩を反lしさせる
と、融点が、l!3り〜、2.3J℃の白色結晶として
表4、:3(ヒ合物の−2c、o f (収率q、3.
796>?得た。
ニルボロン−λ−メチルイミダゾリウム(1;体(fヒ
合物ap)の合成 反応0媒にア七トンを使用して災す−9IJ 3と回付
ニトリフェニル−(4−アリル)フェニルボロン呻ナト
リウムとノーメチルイミダゾール塩酸塩を反lしさせる
と、融点が、l!3り〜、2.3J℃の白色結晶として
表4、:3(ヒ合物の−2c、o f (収率q、3.
796>?得た。
元素分析値は次のとお9である。
測足旭 計算値
0F夕、’ 9F; g Q、J X
11 t、9% t、g%
このよりな実施例と同様な方法により、第1衣に示さt
’した一般式(1)の木兄qrJのテトラアリールボロ
ン−アンモニウム錯体の別B1」の化合物もシ4迄さノ
1 た。
’した一般式(1)の木兄qrJのテトラアリールボロ
ン−アンモニウム錯体の別B1」の化合物もシ4迄さノ
1 た。
本り6明を実施するに際して、前記したような本発明化
合物の82!れた防腐防かび効朱紮効率工く発現させる
には、本発明のテトラアリールボロン−アンモニウム錯
体?常法にしたがい、乳剤、フロアブル剤(ゾル剤)、
水和剤、液剤などVCHJ剤1ヒして、一般の防腐防か
び剤とF1様に使用すむばよく、特別の使用法に限定さ
れることはない。また、本発明のテトラアリールボロン
−アンモニウム錯体は、防腐防かび対象などによりその
濃度紮適宜遡択して使用することができる。
合物の82!れた防腐防かび効朱紮効率工く発現させる
には、本発明のテトラアリールボロン−アンモニウム錯
体?常法にしたがい、乳剤、フロアブル剤(ゾル剤)、
水和剤、液剤などVCHJ剤1ヒして、一般の防腐防か
び剤とF1様に使用すむばよく、特別の使用法に限定さ
れることはない。また、本発明のテトラアリールボロン
−アンモニウム錯体は、防腐防かび対象などによりその
濃度紮適宜遡択して使用することができる。
寸た本発明の防〃)冒く)iかびt(11は、既知の他
の工桑用防腐防かび剤と混用または共用することができ
る。こ71.ら既知の防厄防かび剤としては、例えば化
学名で、ジンクジエチルチオールカーバメート、テトラ
メチルチウラノ、ダイサルファイド、テトラクロロイン
フタロニトリル1.2−(’%−チアソリル)きンズイ
ミタゾール、メチルペンズイミタゾールカーパメ−1・
、パ″ラクロルフェノール、クーデトラヘキシルフェノ
ール、ノ?ラクロローメクキシ17ノール、ビス(ノー
ピリジルチオ−/−オ片シl?)、/、+−クロルフェ
ニル−3−ヨートフロノξギルポルマールなどが吊りら
れるか、 こノ1らの例示に限定さtすることf:I、
ない。祉た本発明の防腐防かび剤は、殺虫性化合物と混
用−1,たは共用して防腐防かひ殺虫(または防虫)盆
目的として使用することもでひる。
の工桑用防腐防かび剤と混用または共用することができ
る。こ71.ら既知の防厄防かび剤としては、例えば化
学名で、ジンクジエチルチオールカーバメート、テトラ
メチルチウラノ、ダイサルファイド、テトラクロロイン
フタロニトリル1.2−(’%−チアソリル)きンズイ
ミタゾール、メチルペンズイミタゾールカーパメ−1・
、パ″ラクロルフェノール、クーデトラヘキシルフェノ
ール、ノ?ラクロローメクキシ17ノール、ビス(ノー
ピリジルチオ−/−オ片シl?)、/、+−クロルフェ
ニル−3−ヨートフロノξギルポルマールなどが吊りら
れるか、 こノ1らの例示に限定さtすることf:I、
ない。祉た本発明の防腐防かび剤は、殺虫性化合物と混
用−1,たは共用して防腐防かひ殺虫(または防虫)盆
目的として使用することもでひる。
υζに、本発明化合物の工業IH防腐防かびパリの製剤
例r実施例により具体的に例示する。
例r実施例により具体的に例示する。
実&34例7 (水利剤)
1ヒ台物Aδ/の化合物ノOErVs、ラウリルサルフ
ェート761〜およびりl/ −73部?均一に1見台
tJζンして、有効成分?、20%含む水利剤?得る。
ェート761〜およびりl/ −73部?均一に1見台
tJζンして、有効成分?、20%含む水利剤?得る。
実す市1flJざ (70アプル剤)
化合物A、、にの化合物、20部、ラウリルサルフェー
ト、2部、ザンサンガム2部およびヒドロキシグロピル
セルローズ/H1−均一に混合して、有効成分y(,2
o%含むフロアブル剤を得る。
ト、2部、ザンサンガム2部およびヒドロキシグロピル
セルローズ/H1−均一に混合して、有効成分y(,2
o%含むフロアブル剤を得る。
実す山側9 (乳剤)
化合物ん//の化合物/部、ジメチルヌルホキソド77
都、テトラヒドロフラン50部およびノルボールgoo
k(東邦比学工粟株式会社製の乳化剤の商品名)、2部
?均一にrty 第4 して、有効5又分子/%含む乳
剤2得る。
都、テトラヒドロフラン50部およびノルボールgoo
k(東邦比学工粟株式会社製の乳化剤の商品名)、2部
?均一にrty 第4 して、有効5又分子/%含む乳
剤2得る。
次に、本発明のテトラアリールポロン−アンモニウム錯
体の防腐、防かび剤としての有用法(でついて、試験例
?挙げて説明する。
体の防腐、防かび剤としての有用法(でついて、試験例
?挙げて説明する。
試験fll/ 各種の菌類に対する抗菌性試験試験は寒
天権釈塗抹法(画V法)によった。すなわち、工業用材
料の劣化菌として知らt′lる各杜のt’+’jのうち
、糸状菌に対しては馬鈴薯煎汁培J1(1(pHj、ざ
)に、そして&l!l Ci□1に対してはブイヨン仰
天培地(pH7,0)に、あらかじめ試、験竹斜面培地
で培養した各供試菌に滅菌水k 7J11えてイ!1ら
第17cllig子懸濁4ノ忙白金耳で系ハリ會M培地
上に画約した。そしてそtlぞイ1の11’H地ケノざ
±2℃の温度で9部時間培養して、谷1]]の生育のイ
42J!’l k tiL’lべ、ぞ才1.によシr3
jの発育γ見金に阻止するに侵する培地中の最低檗剤g
’! +!4: (最低生育β11止1lW8度1・p
川)ケ求めた。その結果は第、2Rのと」、・υである
。
天権釈塗抹法(画V法)によった。すなわち、工業用材
料の劣化菌として知らt′lる各杜のt’+’jのうち
、糸状菌に対しては馬鈴薯煎汁培J1(1(pHj、ざ
)に、そして&l!l Ci□1に対してはブイヨン仰
天培地(pH7,0)に、あらかじめ試、験竹斜面培地
で培養した各供試菌に滅菌水k 7J11えてイ!1ら
第17cllig子懸濁4ノ忙白金耳で系ハリ會M培地
上に画約した。そしてそtlぞイ1の11’H地ケノざ
±2℃の温度で9部時間培養して、谷1]]の生育のイ
42J!’l k tiL’lべ、ぞ才1.によシr3
jの発育γ見金に阻止するに侵する培地中の最低檗剤g
’! +!4: (最低生育β11止1lW8度1・p
川)ケ求めた。その結果は第、2Rのと」、・υである
。
第 2 表
阻止製度 (ppm)
3名7g9/lノ//
>50 >、5にl >、!;0 >、fO30>30
307、s >、so >so >、so so >
6−0/3!;0 >JO!0 /、5 /、S >J
O/Jj 、SO/、5 .30 30>60 /j/
3 >!;0 /、、S (’−/、、S 30 ”)
、50 >Jo、5 .30 /J /J 、S 30
.50/、3 J 、5 /、! 6 7.5 /j
”J SO/、3 /j’ 7.5 AO/6、S s
o /、s s /s >、so /s/J 、50
/J 、S /J ”:$0 /、!;/、、5 j
J /、j A’ /j jO,、S J /、、S
、5 /、、!; 、5’0 /、、SO,、S−,3
/、J /、J’ j 3’0 /、’メo >、so
、so so >so メO〉500、、S j j
/、、S J”’>30 7.S>、so >so
>、3o >so Σ0 〉、50 >60、S−0>
60 >30 >30 >、50 〉、SO’>、30
0、.3− j /、、S /、、5 j 、!;0
/、J”’;so >so 、<−o i、s Σo
>so >、s。
307、s >、so >so >、so so >
6−0/3!;0 >JO!0 /、5 /、S >J
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、5 >、50 、SO/、5 /、!; ”’)、、
50 /J>、so >、so so so 〉so
’>sO>60/、S >30 7.5 .5 、SO
>JOA−07、A; 、5’ /、夕 /、j 、3
; 、!;OJl:・(験例コ エマルジョン塗料防か
び効果試験実施例7にl・Lじて調製した水利剤を、有
効成分がエマルジョン枦料の所足り、一度となるよう添
加し、木片および01紙に塗布して自然乾燥した。試シ
テ;はJIS Z 、Z’?//−7塗料の試験に従っ
てかび抵抗性試験を実jai シた。木片については、
培養して3目抜、7目抜、/り8後および自然保存(,
27℃、” 第6 +11ij U ) 、?夕月後0
)、’ 7’ El” R1℃ニツイ”C1′:1.、
塗布して3日?・、7日(二および/Q−8後の刀)び
のシロ生程度葡、下記の21′・準によシ調イELrC
6その結((トはESS 3表および第9表のとおりで
ある。
50 /J>、so >、so so so 〉so
’>sO>60/、S >30 7.5 .5 、SO
>JOA−07、A; 、5’ /、夕 /、j 、3
; 、!;OJl:・(験例コ エマルジョン塗料防か
び効果試験実施例7にl・Lじて調製した水利剤を、有
効成分がエマルジョン枦料の所足り、一度となるよう添
加し、木片および01紙に塗布して自然乾燥した。試シ
テ;はJIS Z 、Z’?//−7塗料の試験に従っ
てかび抵抗性試験を実jai シた。木片については、
培養して3目抜、7目抜、/り8後および自然保存(,
27℃、” 第6 +11ij U ) 、?夕月後0
)、’ 7’ El” R1℃ニツイ”C1′:1.、
塗布して3日?・、7日(二および/Q−8後の刀)び
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6その結((トはESS 3表および第9表のとおりで
ある。
刀\ひ発生旧套ん工い
3: 試料i rC+J試し〕片の接種した部分eこr
r4糸の発育が記めら第1ない。
r4糸の発育が記めら第1ない。
、2: 試料または試験片の接種した811分に認めら
才する6゛1糸のシロ育部分の面もtは全面積の8分の
/rこえない。
才する6゛1糸のシロ育部分の面もtは全面積の8分の
/rこえない。
/: 試料捷たは試験片の接種した部分に認められるa
[糸の発育部分の而AJ(は全面Kt1の3分の/盆こ
える。
[糸の発育部分の而AJ(は全面Kt1の3分の/盆こ
える。
なお、第8茨および第を表中の比較薬剤Aは有効成分と
して認、クーチアゾリルペンツイミダゾール2%および
/2.2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンt%全含有
し、比較薬剤Bはビス(トリブチルチン)オキサイド1
0 CX2含■する市販の防かび剤であり、これら比較
薬剤i″j:j:以下例においても参照さ71.る。
して認、クーチアゾリルペンツイミダゾール2%および
/2.2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンt%全含有
し、比較薬剤Bはビス(トリブチルチン)オキサイド1
0 CX2含■する市販の防かび剤であり、これら比較
薬剤i″j:j:以下例においても参照さ71.る。
第3衣(木片&、C交J1−る力・びの発生状況)6J
(験f(1、? ね;Iに対する防腐効果C・(験実施
例gに準じてi’!製したフロアブル剤ヶ、有効成分が
所定の度となるように、カルボキシメチルセルロース(
以下OMOという)2%糊およびへ銘騒δ2粉” 96
aにそれぞれ添加して均一に混合した故、合成4MJ
脂製カップに入才L1 こt1忙アルミボイルでおおっ
て恒温器(、yo℃)に保存した。
(験f(1、? ね;Iに対する防腐効果C・(験実施
例gに準じてi’!製したフロアブル剤ヶ、有効成分が
所定の度となるように、カルボキシメチルセルロース(
以下OMOという)2%糊およびへ銘騒δ2粉” 96
aにそれぞれ添加して均一に混合した故、合成4MJ
脂製カップに入才L1 こt1忙アルミボイルでおおっ
て恒温器(、yo℃)に保存した。
1.4丘は保イr、7日仮および77日後に供試料1〒
ブイヨン寒天培地上に画線jff養(37℃でりざ〜′
間)し、下記の基準によp細−〇発生状況r調3’E
シた。
ブイヨン寒天培地上に画線jff養(37℃でりざ〜′
間)し、下記の基準によp細−〇発生状況r調3’E
シた。
その結果は、glr、 s表および第を表のとおりであ
る。
る。
調査iat艷
+:細rlがる6引三したイトii
−: a’ll+菌が発生しなかった糊なお、比較薬剤
(jtよ、有効成分として)ξジクロロメタキシ1フノ
ール+20′Xおよび2−プロモー2−ニトロプロノぞ
ンー/、3−.)オール、20%葡含有する市販の防た
び剤である。
(jtよ、有効成分として)ξジクロロメタキシ1フノ
ール+20′Xおよび2−プロモー2−ニトロプロノぞ
ンー/、3−.)オール、20%葡含有する市販の防た
び剤である。
Fl; s災 (OMOJilll中の11J菌の発生
状況)試験しllグ 木材の防かび効果試験 試験方法は、日本木材保存協会規格第2号(/979年
版)に記載された木材用防かび剤の効力試験方法に準じ
て行った。すなわち、実施例りに準じて潤製した乳剤に
有効成分が所足湿瓜となるようキジロールで希釈し、そ
の中に木片〔太目さがJ、j cm X 、2.jcm
X O,J cmのk a”e s nげもって、(
!↓鈴薯煎汁(馬鈴薯でんぷん20%およびクルコース
、2%r富む上坂下FD培地という)に3分間浸漬し栄
巷液を吸収させてi、o℃で乾燥したものと、このよう
な−ePD+培地に浸蹟せずに栄養教ケ吸収させないも
のの2種類?使用〕を浸漬して系j’+’l k吸収さ
せる。そしてこの木片r2日間風乾し試験体とした。
状況)試験しllグ 木材の防かび効果試験 試験方法は、日本木材保存協会規格第2号(/979年
版)に記載された木材用防かび剤の効力試験方法に準じ
て行った。すなわち、実施例りに準じて潤製した乳剤に
有効成分が所足湿瓜となるようキジロールで希釈し、そ
の中に木片〔太目さがJ、j cm X 、2.jcm
X O,J cmのk a”e s nげもって、(
!↓鈴薯煎汁(馬鈴薯でんぷん20%およびクルコース
、2%r富む上坂下FD培地という)に3分間浸漬し栄
巷液を吸収させてi、o℃で乾燥したものと、このよう
な−ePD+培地に浸蹟せずに栄養教ケ吸収させないも
のの2種類?使用〕を浸漬して系j’+’l k吸収さ
せる。そしてこの木片r2日間風乾し試験体とした。
この試験体rベトリ皿に入t1.、JIS Z 、2Y
//に規定さj、た馬鈴薯煎汁寒天培地でj′@養した
供餓菌(Asperg目1us niger (アスペ
ルギルス・ニゲル) ATCC9J e、2、Penl
cilllum funiculosum(ペニシリウ
ム昏フニクロスム) hq゛cc qにり61izop
us 5tolonlfcr (リゾ−ジス8スト口ニ
7フー)UFOにG!i ’I 、At+reobas
idium pu目ulana(オーレオパン、ノウム
噌ゾルラン、<)II=’0/; 3!; 3. Gl
iocladium virens (ブリオフ2ジ
ウA ・ヒI/ 7 ス) A’l’CCf l ’l
6 、l (D m 合Her、子液(単一胞子懸濁
液を等i、:つつq種混合したもの)を試験体VC/
mlづつ刷毛ケ用いてぬり付ける。ベトリ抽にふ7jv
して温度認≦士2℃、酸度70〜g。
//に規定さj、た馬鈴薯煎汁寒天培地でj′@養した
供餓菌(Asperg目1us niger (アスペ
ルギルス・ニゲル) ATCC9J e、2、Penl
cilllum funiculosum(ペニシリウ
ム昏フニクロスム) hq゛cc qにり61izop
us 5tolonlfcr (リゾ−ジス8スト口ニ
7フー)UFOにG!i ’I 、At+reobas
idium pu目ulana(オーレオパン、ノウム
噌ゾルラン、<)II=’0/; 3!; 3. Gl
iocladium virens (ブリオフ2ジ
ウA ・ヒI/ 7 ス) A’l’CCf l ’l
6 、l (D m 合Her、子液(単一胞子懸濁
液を等i、:つつq種混合したもの)を試験体VC/
mlづつ刷毛ケ用いてぬり付ける。ベトリ抽にふ7jv
して温度認≦士2℃、酸度70〜g。
%で培蚤する。17″]査は培養30仁、71佼、/g
Li後1.27日後および2g日後に試験(・トの刀・
び発生状況忙下記のめ’j 31’!によリム14介し
た。
Li後1.27日後および2g日後に試験(・トの刀・
び発生状況忙下記のめ’j 31’!によリム14介し
た。
その結果は第7表およびIN g災のとおりである。
調査基準
、3= 試験体に〃為ひの)b生が全く堅められない。
、2: 試験体の側聞のみにかびの発生が認めらtIる
。
。
/: 試験体の上向の面6(の3分の/以下にかびの発
生が認められる。
生が認められる。
0: 試験体の上面の面積の3分の7以上にかびの発生
が誌められる。
が誌められる。
なお、比較薬剤DiJ、、有効成分としてコ、弘−チア
ゾリルベンツイミダゾール、2%、/、2−<ンゾイン
チアゾリ/−3−オンク%およびショートメチル パラ
トリルスルホン/ 96k @ 刊する市販の防かび剤
である。
ゾリルベンツイミダゾール、2%、/、2−<ンゾイン
チアゾリ/−3−オンク%およびショートメチル パラ
トリルスルホン/ 96k @ 刊する市販の防かび剤
である。
第2表(拭験体にFD培地?含反させない揚台のかびの
兆生状況)手続補正書(自発) 昭和60年 4月24日 特許庁長官殿 ]、事件の表示 昭和59年特許願第9516号 2、発明の名称 テトラアリールポロン−アンモニウム錯体3、補正をす
る者 事件との関係 持訂出願人 住 所 東京都中央区日本橋本石町4丁目2番地(66
45) 氏名 八本1) 茂 (、翁)5、補正の対象 明細省の発明の詳細な説明の柿 6袖正の内容 (1) 明細碧第5頁7〜8行の1アリル基又はメチル
アリル基」を削除して1゛ヒニル基」を挿入する。
兆生状況)手続補正書(自発) 昭和60年 4月24日 特許庁長官殿 ]、事件の表示 昭和59年特許願第9516号 2、発明の名称 テトラアリールポロン−アンモニウム錯体3、補正をす
る者 事件との関係 持訂出願人 住 所 東京都中央区日本橋本石町4丁目2番地(66
45) 氏名 八本1) 茂 (、翁)5、補正の対象 明細省の発明の詳細な説明の柿 6袖正の内容 (1) 明細碧第5頁7〜8行の1アリル基又はメチル
アリル基」を削除して1゛ヒニル基」を挿入する。
(2) 同第6負の第1夕中でFから3行の1−195
〜17tjJをl−195〜197」と補正する。
〜17tjJをl−195〜197」と補正する。
(3) 四% 12負14行のr1249y」をMll
除して124.91FJを挿入する。
除して124.91FJを挿入する。
(4) 同第14頁19〜21行の0じ都、を次の通り
補正する。
補正する。
1 側 定 値 計 葬 値
C705% 709%
H5,0チ 4,9% 」
(5) 同第15負マ行の140yJ′i1″14.o
f’Jと補正する。
f’Jと補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 / 一般式 (式中、R1は水素原子、)・ロゲン原子−または低級
アルキルMk示し、”eはノ・ロゲン原子、低級アルキ
ル基または低級アルケニル基r示し、馬はへテロ環アミ
ンを示す)で示さtするテトラアリールl?ロンーアン
モニウム錯体。 ノ 一般式 (式中、R1は水素原子、))ロゲン原子または低級ア
ルギル基を示し、馬はノ・ロゲ/原子、低級アルキル基
または低級アルケニル基に示し、几3はへテロ環アミン
?示す)で示されるテトラアリールヂロンーアンモニウ
ム錯体會有効成分とすることを特徴とする防腐防かび剤
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP951684A JPS60155185A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 防腐防かび剤 |
| EP85400101A EP0153885B1 (en) | 1984-01-24 | 1985-01-23 | Tetraarylboron-ammonium complexes and their uses |
| US06/694,064 US4613373A (en) | 1984-01-24 | 1985-01-23 | Tetraarylboron-ammonium complexes and their uses |
| JP29574586A JPS62201891A (ja) | 1984-01-24 | 1986-12-13 | テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP951684A JPS60155185A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 防腐防かび剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29574586A Division JPS62201891A (ja) | 1984-01-24 | 1986-12-13 | テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60155185A true JPS60155185A (ja) | 1985-08-15 |
| JPS6247841B2 JPS6247841B2 (ja) | 1987-10-09 |
Family
ID=11722418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP951684A Granted JPS60155185A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 防腐防かび剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60155185A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162831A (ja) * | 1974-11-15 | 1976-05-31 | Hokko Chem Ind Co | Suichubootoryo |
| JPS566235A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material |
-
1984
- 1984-01-24 JP JP951684A patent/JPS60155185A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162831A (ja) * | 1974-11-15 | 1976-05-31 | Hokko Chem Ind Co | Suichubootoryo |
| JPS566235A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6247841B2 (ja) | 1987-10-09 |
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