JPS62201891A - テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 - Google Patents
テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体Info
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- JPS62201891A JPS62201891A JP29574586A JP29574586A JPS62201891A JP S62201891 A JPS62201891 A JP S62201891A JP 29574586 A JP29574586 A JP 29574586A JP 29574586 A JP29574586 A JP 29574586A JP S62201891 A JPS62201891 A JP S62201891A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は・新規な化合物としてのテトラアリールメロン
−アンモニウム錯体に関スル。
−アンモニウム錯体に関スル。
さらに詳しくは１本発明は、一般式（１）（式中、Ｒ１
は水素原子、ハｃ１ダン原子または低級アルキル基を示
し、 Ｒ２はハロダン原子、低級アル中ル基または低級
アルケニル基を示し・Ｒ３はへテロ環アミンを示す）で
示されるテトラアリール−ロン−アンそニウム錯体を提
供スる＠従来、アリールゲロン化合物としては一般式０
（式中、Ｘはカリウム原子、アンモニウム基または四級
化された有機窒素基を表わすが、さらに前記有機窒素基
は窒素原子を含む複素環を形成してもよい）で表わされ
るテトラフェニルゲロン化合物（￥１公昭５４−１５７
１号公報参照）および。
は水素原子、ハｃ１ダン原子または低級アルキル基を示
し、 Ｒ２はハロダン原子、低級アル中ル基または低級
アルケニル基を示し・Ｒ３はへテロ環アミンを示す）で
示されるテトラアリール−ロン−アンそニウム錯体を提
供スる＠従来、アリールゲロン化合物としては一般式０
（式中、Ｘはカリウム原子、アンモニウム基または四級
化された有機窒素基を表わすが、さらに前記有機窒素基
は窒素原子を含む複素環を形成してもよい）で表わされ
るテトラフェニルゲロン化合物（￥１公昭５４−１５７
１号公報参照）および。
一般式（１１１）
（式中、Ｙは水素原子、・−ロｒ７原子または低級アル
午ル基を示す）で表わされるトリフェニルゲロン化合物
（米国特許第３２１１６７９号公報参照）が。
午ル基を示す）で表わされるトリフェニルゲロン化合物
（米国特許第３２１１６７９号公報参照）が。
水中防汚剤として使用されることについて知られている
。し〃為しながら、これらが工業用防腐防かび剤として
有効であることは知られていない。
。し〃為しながら、これらが工業用防腐防かび剤として
有効であることは知られていない。
本発明者らは、フェニルゲロン化合物の防腐防かび剤と
しての用途について鋭意研究した。その結果・前記一般
式（１）で表わされる新規なテトラアリールｄｅａンー
アンモニ９ム錯体が、アスペルギルス・ペニシリウム、
リゾ−ゲス、フデリウムなどのかびｆＡ、バチルス、シ
ュードモナスなどの細菌類および酵母類に優れた抗菌性
を有することを見出し、非医療用の殺菌、殺かび剤とし
て、特に工業用の防腐防かび剤として有用であることを
知見して本発明を完成した。
しての用途について鋭意研究した。その結果・前記一般
式（１）で表わされる新規なテトラアリールｄｅａンー
アンモニ９ム錯体が、アスペルギルス・ペニシリウム、
リゾ−ゲス、フデリウムなどのかびｆＡ、バチルス、シ
ュードモナスなどの細菌類および酵母類に優れた抗菌性
を有することを見出し、非医療用の殺菌、殺かび剤とし
て、特に工業用の防腐防かび剤として有用であることを
知見して本発明を完成した。
本発明のテトラアリールメロン−アンモニウム錯体は、
化学的にも安定で、酸性およびアルカリ性領域で十分な
殺菌、防かび効果を発揮し１種々の金属塩が一緒に存在
しても沈澱や着色などを生ずる心配がな（、またプラス
チック類にも配合可能であることなどから２殺菌・消毒
・防腐・助力・び剤として実用面で有利である。
化学的にも安定で、酸性およびアルカリ性領域で十分な
殺菌、防かび効果を発揮し１種々の金属塩が一緒に存在
しても沈澱や着色などを生ずる心配がな（、またプラス
チック類にも配合可能であることなどから２殺菌・消毒
・防腐・助力・び剤として実用面で有利である。
一般式（１）の本発明化合物において、Ｒ１及びＲ２が
一ロｒン原子である時には、臭素、塩素又は弗素である
のが好ましく、Ｒ４及びＲ２が炭素数１〜６の低級アル
キル基である時にはメチル基、エチル基、ｆａビル基、
イソグロビル基、ブチル基。
一ロｒン原子である時には、臭素、塩素又は弗素である
のが好ましく、Ｒ４及びＲ２が炭素数１〜６の低級アル
キル基である時にはメチル基、エチル基、ｆａビル基、
イソグロビル基、ブチル基。
イソブチル基であるのが好ましく、Ｒ２が炭素数２〜６
の低級アルケニル基である時はアリル基又はメチルアリ
ル基であるのが好ましい、ヘテロ環アミンを示すＲ３は
５員又は６員の含窒ａ素環であることができ、ピリジン
、イミダゾール、メチルイミダゾールであるのが好まし
い。（Ｒ３・Ｈ）は第４級化されたアンモニウム基の形
であり１例えばピリジニウム、イミダゾリウム、メチル
イミダゾリウムを形成するのが好ましい・ 次に、本発明のテトラフェニルメロン−アンモニウム錯
体の好ましい例を第１表に示す。１４１表に示す化合物
番号は本明細書中の実施例および試験例においても参照
される。
の低級アルケニル基である時はアリル基又はメチルアリ
ル基であるのが好ましい、ヘテロ環アミンを示すＲ３は
５員又は６員の含窒ａ素環であることができ、ピリジン
、イミダゾール、メチルイミダゾールであるのが好まし
い。（Ｒ３・Ｈ）は第４級化されたアンモニウム基の形
であり１例えばピリジニウム、イミダゾリウム、メチル
イミダゾリウムを形成するのが好ましい・ 次に、本発明のテトラフェニルメロン−アンモニウム錯
体の好ましい例を第１表に示す。１４１表に示す化合物
番号は本明細書中の実施例および試験例においても参照
される。
一般式（１）の本発明化合物は、一般式（ＩＶ）のテト
ラアリールボロン・ナトリウムと一般式（Ｖ）のへテロ
環アミンの−・ロダン化水素塩とを反応させて次の反応
式に基づいて製造できる。
ラアリールボロン・ナトリウムと一般式（Ｖ）のへテロ
環アミンの−・ロダン化水素塩とを反応させて次の反応
式に基づいて製造できる。
（■）（ｖ）
（ｒ）
（式中、Ｘはハロダン原子を示し、Ｒ１＊ Ｒ２＃ Ｒ
５は前記と同じ意味である） 本発明化合物の製造法を以下に詳しく説明する。
５は前記と同じ意味である） 本発明化合物の製造法を以下に詳しく説明する。
まず１本発明化合物のｍ：ｌｋで原料として用いられる
一般式（ＩＶ）のテトラアリールボロン・ナトリウムの
合成は次のように行われる・ まず・一般式（［Ｖ）においてＲ１とＲ２とが同じ基を
示す化合物を合成するには１式 （但しＲ１・Ｘは前記と同じ意味である）で表わされる
４モル比又はそれより過剰量のハロゲン化アリールマグ
ネシウム、あるいは式 で表わされる４モル比又はそｎより過剰量のアリールリ
チウムを含むジエチルエーテルまたはテトラヒドロ７ラ
ンｆａ液中に、１モル比の三フフ化ホウ素のジエチルエ
ーテル錯体をそのままか、あるいはトルエンなどの溶媒
で希釈した溶液を攪拌冷却下Ｋ１１４下した後、還流条
件下で１時間反応させる１次いで反応液を冷却して攪拌
しながら・ナトリウム源として過剰の食塩、炭酸ソーダ
、水酸化ナトリウムなどの水溶液を滴下する。反応終了
後に、上層に分離する有機層を分取し、溶媒を留去する
と白色結晶が得られ、これをトルエンなどの非極性溶媒
で洗浄して乾燥すると目的とする一般式（１■）で表わ
されるテトラアリールメロン・ナトリウム類が白色結晶
として得られる・もし精製を必要とするならば、この白
色結晶をエタノール。
一般式（ＩＶ）のテトラアリールボロン・ナトリウムの
合成は次のように行われる・ まず・一般式（［Ｖ）においてＲ１とＲ２とが同じ基を
示す化合物を合成するには１式 （但しＲ１・Ｘは前記と同じ意味である）で表わされる
４モル比又はそれより過剰量のハロゲン化アリールマグ
ネシウム、あるいは式 で表わされる４モル比又はそｎより過剰量のアリールリ
チウムを含むジエチルエーテルまたはテトラヒドロ７ラ
ンｆａ液中に、１モル比の三フフ化ホウ素のジエチルエ
ーテル錯体をそのままか、あるいはトルエンなどの溶媒
で希釈した溶液を攪拌冷却下Ｋ１１４下した後、還流条
件下で１時間反応させる１次いで反応液を冷却して攪拌
しながら・ナトリウム源として過剰の食塩、炭酸ソーダ
、水酸化ナトリウムなどの水溶液を滴下する。反応終了
後に、上層に分離する有機層を分取し、溶媒を留去する
と白色結晶が得られ、これをトルエンなどの非極性溶媒
で洗浄して乾燥すると目的とする一般式（１■）で表わ
されるテトラアリールメロン・ナトリウム類が白色結晶
として得られる・もし精製を必要とするならば、この白
色結晶をエタノール。
イングロビルアルコールなどの低級アルカノール溶媒を
用いて再結晶化すればよい。
用いて再結晶化すればよい。
また一般式（［Ｖ）においてＲ１とＲ２とが相異なる基
を示す非対称のテトラアリールメロン化合物を合成する
には、まず前記と同じ手法でへ〇ダン化アリールマグネ
シウム又はアリールリチウムを三フフ化ホウ素と反応さ
せた後、その反応液からアリール基上ンを単離するか、
もしくはハｏｆｆン化アリールマグネシウム又はアリー
ルリチウムと三７フ化ホウ素との反応の当初から、これ
ら反応剤のモル比・を厳密に３＝１に制御して、トリア
リールメロンを合成した後にトリアリールメロンのアリ
ール基上の置換基（Ｒ１）とは異なった置換基ると、非
対称のテトラアリールがロンが合成される・ こうして得られた一般式（ＩＶ）のテトラアリールメロ
ン・ナトリウムと一般式（Ｖ）のへテロ環アミン類の−
・ロダン化水素塩とを・ メタノール、エタノール、イ
ソグロビルアルコールの如キ低級アルカノール、アセト
ンの如きケトン類、水などの不活性の極性溶媒に溶解し
て、１０〜６０°Ｃの温度で３０分〜２時間混合攪拌す
るだけで反応は終了する・反応溶媒は、前記溶媒を単独
で使用してもよいが混合して使用してもよい・まだ１反
応生放物が結晶として溶媒中に析出した場合にはそれを
１別することもできるが１通常は溶媒を留去して纜縮し
た後結晶をｒ別し、水洗して無機塩を除去し、乾燥する
と高純度の錯体を得る。こうして得られた一般式０）の
テトラアリールＩロンーアンモニウム錯体は、必要に応
じてさらにメタノール。
を示す非対称のテトラアリールメロン化合物を合成する
には、まず前記と同じ手法でへ〇ダン化アリールマグネ
シウム又はアリールリチウムを三フフ化ホウ素と反応さ
せた後、その反応液からアリール基上ンを単離するか、
もしくはハｏｆｆン化アリールマグネシウム又はアリー
ルリチウムと三７フ化ホウ素との反応の当初から、これ
ら反応剤のモル比・を厳密に３＝１に制御して、トリア
リールメロンを合成した後にトリアリールメロンのアリ
ール基上の置換基（Ｒ１）とは異なった置換基ると、非
対称のテトラアリールがロンが合成される・ こうして得られた一般式（ＩＶ）のテトラアリールメロ
ン・ナトリウムと一般式（Ｖ）のへテロ環アミン類の−
・ロダン化水素塩とを・ メタノール、エタノール、イ
ソグロビルアルコールの如キ低級アルカノール、アセト
ンの如きケトン類、水などの不活性の極性溶媒に溶解し
て、１０〜６０°Ｃの温度で３０分〜２時間混合攪拌す
るだけで反応は終了する・反応溶媒は、前記溶媒を単独
で使用してもよいが混合して使用してもよい・まだ１反
応生放物が結晶として溶媒中に析出した場合にはそれを
１別することもできるが１通常は溶媒を留去して纜縮し
た後結晶をｒ別し、水洗して無機塩を除去し、乾燥する
と高純度の錯体を得る。こうして得られた一般式０）の
テトラアリールＩロンーアンモニウム錯体は、必要に応
じてさらにメタノール。
エタノール、クロロホルム、ジメチルホルムアミドなど
の溶媒で再結晶化して更に精製できる・次に１本発明化
合物の原料であるテトラアリールがロン・ナトリウムの
製造法を、参考例をもって具体的に説明する・ ９考４／ｆ４＋ ＋トラ（４−クロロ−フェニル）
メロン・ナトリウムの合成 ／９ラジクＱＱベンゼンとマグネジ９ムより合成された
塩化°４−クロローフェニルマグネシウム（１，２モル
）のテトラヒドロフラン溶１（８００ｄ）１＆：、２を
容量の４頚フラスコに入れ、これに三フッ化ホＩ７ｔ、
のジエチルエーテル錯体３５．５Ｊ／（０，２５モル）
のトルエン溶液５０ｄｔ、系内金水浴で冷却し攪拌しな
がら２０〜３０℃で滴下した後１反応混合物を還流条件
で１時間加熱した。
の溶媒で再結晶化して更に精製できる・次に１本発明化
合物の原料であるテトラアリールがロン・ナトリウムの
製造法を、参考例をもって具体的に説明する・ ９考４／ｆ４＋ ＋トラ（４−クロロ−フェニル）
メロン・ナトリウムの合成 ／９ラジクＱＱベンゼンとマグネジ９ムより合成された
塩化°４−クロローフェニルマグネシウム（１，２モル
）のテトラヒドロフラン溶１（８００ｄ）１＆：、２を
容量の４頚フラスコに入れ、これに三フッ化ホＩ７ｔ、
のジエチルエーテル錯体３５．５Ｊ／（０，２５モル）
のトルエン溶液５０ｄｔ、系内金水浴で冷却し攪拌しな
がら２０〜３０℃で滴下した後１反応混合物を還流条件
で１時間加熱した。
反応が終了した後１反応液を冷却しこれに飽和炭酸ソー
ダ水溶液２００ｄ１に滴下した自分離した有機層を分取
し、溶媒留去すると白色結晶が得られた＠これにトルエ
ン３００．ｄｔ”加えて結晶をはぐしてｒ別し、さらに
１００−のトルエンで２回洗って乾燥すると、融点３１
Ｑ’Ｃの白色結晶として表題化合物１０６ｇ（収率８
８％）が得られた。
ダ水溶液２００ｄ１に滴下した自分離した有機層を分取
し、溶媒留去すると白色結晶が得られた＠これにトルエ
ン３００．ｄｔ”加えて結晶をはぐしてｒ別し、さらに
１００−のトルエンで２回洗って乾燥すると、融点３１
Ｑ’Ｃの白色結晶として表題化合物１０６ｇ（収率８
８％）が得られた。
次Ｋ、本発明化合物の製造法を実施例をもって具体的に
説明する・ 実施例１ テトラ（４−クロロフェニル）ボロン−ピ
リジニウム錯体（化 合物ム５）の合成 ５００−容量のフラスコに、テトラ（４−クロロフェニ
ル）メロン・ナトリウム２４．０ ｇ（０，０５モル）
をメタノール２００−に溶解して加え、これに５０−の
メタノールに溶解したピリジン塩酸塩５．３９ （０，
０５モル）を攪拌しなからｒ−下した。
説明する・ 実施例１ テトラ（４−クロロフェニル）ボロン−ピ
リジニウム錯体（化 合物ム５）の合成 ５００−容量のフラスコに、テトラ（４−クロロフェニ
ル）メロン・ナトリウム２４．０ ｇ（０，０５モル）
をメタノール２００−に溶解して加え、これに５０−の
メタノールに溶解したピリジン塩酸塩５．３９ （０，
０５モル）を攪拌しなからｒ−下した。
滴下が終了した後、１時間攪拌を続けて反応を完結させ
た。その後１度広液中の溶媒を留去し、析出した結晶［
１００ｒｄの水を加えてほぐして結晶をｔ５別した。そ
して、この結晶をさらに水洗して乾燥すると融点が１５
７〜＋ ６１’Ｃの白色結晶として表題化合物の１２４
．９ ｙ（収率９２．６チ）を得た。
た。その後１度広液中の溶媒を留去し、析出した結晶［
１００ｒｄの水を加えてほぐして結晶をｔ５別した。そ
して、この結晶をさらに水洗して乾燥すると融点が１５
７〜＋ ６１’Ｃの白色結晶として表題化合物の１２４
．９ ｙ（収率９２．６チ）を得た。
元素分析値は次のとおりである。
測定値 計算値
Ｃ６４，７優 ６４．９％
Ｈ４，１慢 ４．１チ
実施例２ テトラ（４−クロロフェニル）メロン−ピ
リジニウム錯体（化 合物Ｉ＆５）の合成 ピリジン塩酸塩のかわ９にぎりジン臭ｍ塩を用い、実施
例１に準じて反応操作を行い、融点１５７〜＋６１’Ｃ
の白色結晶として表題化合物の２６．。
リジニウム錯体（化 合物Ｉ＆５）の合成 ピリジン塩酸塩のかわ９にぎりジン臭ｍ塩を用い、実施
例１に準じて反応操作を行い、融点１５７〜＋６１’Ｃ
の白色結晶として表題化合物の２６．。
ｙ（収率９６．６優）ｆｔ得た・
元素分析値は次のとおりである・
測定値 計算値
Ｃ６４，６％ ６４．９慢
Ｈ４，２％ ４．１慢
５ＡＢＮｍＪ３ ｆ ト：ｌｙ （４−フルオロフ
ェニル）メロン−２−メチルイミダゾリウ ム錯体（化合物ＡＢ’）の合成 ＋００−容−１のフラスコにテトラ（４−フルオロフェ
ニル）コロン・ナトリウム４−１ ｇ（０，０１モル）
をエタノール４０−に溶解して加え、これにエタノール
２０−に溶解した２−メチルイミダゾール塩酸塩！−２
１（ｏ、ｏ １モル）を攪拌しながら滴下した。滴下が
終了した後１時間攪拌を続けて反応を完結させた・その
後反応液中の溶媒を留去して析出した結晶に５０ ｍｌ
の水を加えてはぐして結晶ｔｆ’取した・そしてこの結
晶をさらに水洗を行って乾燥すると融点が２０５〜２０
７°Ｃの白色結晶として表題化合物の４．３ｐ（収率９
０．２囁）を得た・ 元素分析値は次のとおりである。
ェニル）メロン−２−メチルイミダゾリウ ム錯体（化合物ＡＢ’）の合成 ＋００−容−１のフラスコにテトラ（４−フルオロフェ
ニル）コロン・ナトリウム４−１ ｇ（０，０１モル）
をエタノール４０−に溶解して加え、これにエタノール
２０−に溶解した２−メチルイミダゾール塩酸塩！−２
１（ｏ、ｏ １モル）を攪拌しながら滴下した。滴下が
終了した後１時間攪拌を続けて反応を完結させた・その
後反応液中の溶媒を留去して析出した結晶に５０ ｍｌ
の水を加えてはぐして結晶ｔｆ’取した・そしてこの結
晶をさらに水洗を行って乾燥すると融点が２０５〜２０
７°Ｃの白色結晶として表題化合物の４．３ｐ（収率９
０．２囁）を得た・ 元素分析値は次のとおりである。
測定値 計算値
Ｃ７０，５係 ７０．９チ
Ｈ５，Ｑ悌 ４．９僑
’Ａｋ１５１１１４ ｆトラ（４−フルオロフェニ
ル）？ロンー２−メチルイミダゾリウ ム錯体（化合物Ｊ販８）の合成 反応溶媒にイングロビルアルコールを使用シ、実施例３
に準じて操作を行い融点が２０５〜２０７０Ｃの白色結
晶として表題化合物の４．４９Ｃ収率９２．９％）を得
た・ 元素分析値は次のとおゆである。
ル）？ロンー２−メチルイミダゾリウ ム錯体（化合物Ｊ販８）の合成 反応溶媒にイングロビルアルコールを使用シ、実施例３
に準じて操作を行い融点が２０５〜２０７０Ｃの白色結
晶として表題化合物の４．４９Ｃ収率９２．９％）を得
た・ 元素分析値は次のとおゆである。
測定値 計算値
Ｃ７３４悌 ７３．９％
）１ ４．７％ ４．７１
実ａ例５ テトラ（４−メチルフェニル）ボロン−
ピリジニウム錯体（化 合物ム１）の合成 ５００−容量のフラスコにテトラ（４−メチルフェニル
）メロン・ナトリウム１９．９／（ｏ、Ｏｓモル）をテ
トラヒドロ７ラン２００−に溶解して加え、これにピリ
ジン４（１（０，０５モル）および当モル盪の塩酸水を
加えた水溶液５０ｍ１ｔ−攪拌しながら滴下した。以下
実施例１と同様の処Ｎをして融点が１８３〜１８５°Ｃ
の白色結晶として表題化合物の２０．８ｇ（９１，３儂
）ｔ−得た。
ピリジニウム錯体（化 合物ム１）の合成 ５００−容量のフラスコにテトラ（４−メチルフェニル
）メロン・ナトリウム１９．９／（ｏ、Ｏｓモル）をテ
トラヒドロ７ラン２００−に溶解して加え、これにピリ
ジン４（１（０，０５モル）および当モル盪の塩酸水を
加えた水溶液５０ｍ１ｔ−攪拌しながら滴下した。以下
実施例１と同様の処Ｎをして融点が１８３〜１８５°Ｃ
の白色結晶として表題化合物の２０．８ｇ（９１，３儂
）ｔ−得た。
元素分析値は次のとおりである◎
測定値 計算値
Ｃ８６，８幅 ｇ７．０藁
Ｈ７，４儂 ７．５僑
実施例６ トリフェニル−（４−アリル）フェニルｒ
ｆロンー２−メチルイ ミダゾリウム錯体（化合物ム９） の合成 反応溶媒にアセトンを使用して実施例３と同様にトリフ
ェニル−（４−アリル）フェニルＦ）Ｐ Ｏン・ナトリ
ウムと２−メチルイミダゾール塩酸塩全反応させると・
融点が２３４〜２３６°Ｃの白色結晶として表題化合物
の２０．０ｇＣ収率９３．７＝４）を得た◎ 元素分析（ｉ＋７は次のとおりである。
ｆロンー２−メチルイ ミダゾリウム錯体（化合物ム９） の合成 反応溶媒にアセトンを使用して実施例３と同様にトリフ
ェニル−（４−アリル）フェニルＦ）Ｐ Ｏン・ナトリ
ウムと２−メチルイミダゾール塩酸塩全反応させると・
融点が２３４〜２３６°Ｃの白色結晶として表題化合物
の２０．０ｇＣ収率９３．７＝４）を得た◎ 元素分析（ｉ＋７は次のとおりである。
測定値 Ｗ′を算値
Ｃ８４，１悌 ８４．２慢
Ｈ６，９チ ６．８優
この上うな実施例と同様な方法により、第１表に示され
た一般式（Ｉ）の本発明のテトラアリールメロン−アン
モニウム錯体の別例の化合物も製造された・ 本発明のテトラアリールゲロンーアンモニウム錯体を防
腐防ａ−び剤の有効成分として使用する場合には・常法
にしたがい、乳剤、フロアツル剤（ゾル剤）・水和剤、
液剤などに製剤化して、一般の防腐防かび剤と同様に使
用すればよい・次に１本発明化合物を工業用防腐防かび
剤の有効成分として使用する具体例を参考例として例示
する。
た一般式（Ｉ）の本発明のテトラアリールメロン−アン
モニウム錯体の別例の化合物も製造された・ 本発明のテトラアリールゲロンーアンモニウム錯体を防
腐防ａ−び剤の有効成分として使用する場合には・常法
にしたがい、乳剤、フロアツル剤（ゾル剤）・水和剤、
液剤などに製剤化して、一般の防腐防かび剤と同様に使
用すればよい・次に１本発明化合物を工業用防腐防かび
剤の有効成分として使用する具体例を参考例として例示
する。
参考例２ （水和剤）
比合物扁１の化合物２０部、ラウリルサルフェート７！
１１およびクレー７３部を均一に混合粉砕して・有効成
分を２０１含む水和剤を得る・参考例３ （フロアブル
剤） 化合物Ａ６の化合物２０ｓ、ラウリルサルフェート２部
・デンサンｆム２部およびヒドロギシデロビルセルａ−
ズ１部を均一に混合して、有効成分を２０囁含むフロア
ブル剤を得る。
１１およびクレー７３部を均一に混合粉砕して・有効成
分を２０１含む水和剤を得る・参考例３ （フロアブル
剤） 化合物Ａ６の化合物２０ｓ、ラウリルサルフェート２部
・デンサンｆム２部およびヒドロギシデロビルセルａ−
ズ１部を均一に混合して、有効成分を２０囁含むフロア
ブル剤を得る。
参考例４ （乳剤）
化合物ム１１の化合物１部、ジメチルスルホキシＰ４７
部、テトラヒドロフラン５０部およびツルポール８００
Ａ（東邦化学工業株式会社製の乳化剤の商品名）２部を
均一に溶解して、有効成分を＋１含む乳剤を得る・ 次に１本発明のテトラアリールゲロンーアンモニウム錯
体の防腐、防かび剤としての有用性について、試験例を
挙げて説明する・ 試験例１ 各種の菌類に対する抗ｍ性試験試蝕は寒天
稀釈塗抹法（画線法）によった。すなわち、１朶用材料
の劣化菌として知られる各種の菌のうち、糸状菌罠対し
ては馬鈴薯煎汁培地（ｐ！（ｓ、ｓ）に、そして細菌に
対してはブイヨン寒天培地（ｐｆｌ、ｏ）に、あらかじ
め試験管斜面培地で培養した各供試哨に滅−水を加えて
得られた胞子懸濁液を白金耳で薬剤含有培地上に画線し
た。
部、テトラヒドロフラン５０部およびツルポール８００
Ａ（東邦化学工業株式会社製の乳化剤の商品名）２部を
均一に溶解して、有効成分を＋１含む乳剤を得る・ 次に１本発明のテトラアリールゲロンーアンモニウム錯
体の防腐、防かび剤としての有用性について、試験例を
挙げて説明する・ 試験例１ 各種の菌類に対する抗ｍ性試験試蝕は寒天
稀釈塗抹法（画線法）によった。すなわち、１朶用材料
の劣化菌として知られる各種の菌のうち、糸状菌罠対し
ては馬鈴薯煎汁培地（ｐ！（ｓ、ｓ）に、そして細菌に
対してはブイヨン寒天培地（ｐｆｌ、ｏ）に、あらかじ
め試験管斜面培地で培養した各供試哨に滅−水を加えて
得られた胞子懸濁液を白金耳で薬剤含有培地上に画線し
た。
そしてそれぞれの培地’Ｔｈ２ｇ±２°Ｃの温度で９６
時間培養して、６菌の生育の有無を調べ、それにより菌
の発育を完全に阻止するに要する培地中の最低薬剤濃度
（最低生育阻止濃度ｐｐｍ ）を求めた◎その結果は第
２表のとおりである・ 試験例２ エマルジョン塗料防かび効果試験参考例
２に準じて調製した水和剤を、有効成分がエマルジョン
塗料の所定濃度となるよう添加し。
時間培養して、６菌の生育の有無を調べ、それにより菌
の発育を完全に阻止するに要する培地中の最低薬剤濃度
（最低生育阻止濃度ｐｐｍ ）を求めた◎その結果は第
２表のとおりである・ 試験例２ エマルジョン塗料防かび効果試験参考例
２に準じて調製した水和剤を、有効成分がエマルジョン
塗料の所定濃度となるよう添加し。
木片および１紙に塗布して自然乾燥した。試験はＪＩＳ
Ｚ ２９＋１−７ 塗料の試験に従ってかび抵抗性試
験を実施した＠木片については、培養して３日後、７日
後、１４日後および自然保存（２７°Ｃ・９８％湿度）
３ケ月後の、また１紙については。
Ｚ ２９＋１−７ 塗料の試験に従ってかび抵抗性試
験を実施した＠木片については、培養して３日後、７日
後、１４日後および自然保存（２７°Ｃ・９８％湿度）
３ケ月後の、また１紙については。
塗布して３日後・７日後および１４日後のかびの発生程
度を、下記の基準により調査した。
度を、下記の基準により調査した。
その結果は第３表および第４表のとおりである。
かび発生調査基蹟
３： 試料または試ｋｋ片の接種した部分に菌糸の発育
が認められない＠ ２： 試料または試験片の接種した部分に認めちれる菌
糸の発育部分の面積は全面積の３分の１ｆ：こえない。
が認められない＠ ２： 試料または試験片の接種した部分に認めちれる菌
糸の発育部分の面積は全面積の３分の１ｆ：こえない。
１： 試料または試験片の接種した部分に認められる菌
糸の発育部分の面積は全面積の３分の１をこえる６ なお％第３表および第４表中の比較薬剤Ａは有効成分と
して２．４−チアゾリルペンツイミダゾール２優および
１．２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン４惨を含有し
、比較薬剤Ｂはビス（トリブチルチン）オー＃サイド１
０％を含有する市販の防かび剤であり、これら比較薬剤
は以下の試験例においても参照される。
糸の発育部分の面積は全面積の３分の１をこえる６ なお％第３表および第４表中の比較薬剤Ａは有効成分と
して２．４−チアゾリルペンツイミダゾール２優および
１．２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン４惨を含有し
、比較薬剤Ｂはビス（トリブチルチン）オー＃サイド１
０％を含有する市販の防かび剤であり、これら比較薬剤
は以下の試験例においても参照される。
試験例３ ｗｌに対する防腐効果試駆参考例３に準
じてｐＡａＬだフロアブル剤を、有効成分が所定濃度と
なるように、カルゲキシメチルセルロース（以下ＣＭＣ
という）９ｔｓｗｉおよび馬鈴薯澱粉１０係糊にそれぞ
れ添加して均一に混合した後１合成樹脂製カップに入れ
、これをアルミホイルでおおって恒温器（３０’Ｃ）
Ｋ保存した。
じてｐＡａＬだフロアブル剤を、有効成分が所定濃度と
なるように、カルゲキシメチルセルロース（以下ＣＭＣ
という）９ｔｓｗｉおよび馬鈴薯澱粉１０係糊にそれぞ
れ添加して均一に混合した後１合成樹脂製カップに入れ
、これをアルミホイルでおおって恒温器（３０’Ｃ）
Ｋ保存した。
調査は保存７日後および１１日後に供試糊をブイヨン寒
天培地上に画線培ｑＩ（３７°Ｃで４８時間）し・下記
の基準により細菌の発生状況を調査した・その結果は、
第５表およびｍ６表のとおりであるＯ 調査基準 ＋：細菌が発生した糊 ｍ：細菌が発生しなかった糊 なお、比較薬剤Ｃは、有効成分として・９ラクａロメタ
中シレノール２０９６おｊ Ｕ ２− ｆ Ｑ ％ −
２−ニドログｃ１パンー１．３−ジオール２０％を含有
する市販の防かび剤である。
天培地上に画線培ｑＩ（３７°Ｃで４８時間）し・下記
の基準により細菌の発生状況を調査した・その結果は、
第５表およびｍ６表のとおりであるＯ 調査基準 ＋：細菌が発生した糊 ｍ：細菌が発生しなかった糊 なお、比較薬剤Ｃは、有効成分として・９ラクａロメタ
中シレノール２０９６おｊ Ｕ ２− ｆ Ｑ ％ −
２−ニドログｃ１パンー１．３−ジオール２０％を含有
する市販の防かび剤である。
試験例４ 木材の助力為び効果試験
試験方法は、日本木材保存協会規格第２号（１９７９年
版）に記載された木材用防かび剤の効力試験方法に準じ
て行った。すなわち、参考例４に準じてＩＮＡＩｎした
乳剤を有効成分が所定濃度となるようキジロールで希釈
し、その中に木片〔大きさが２，５ ｃｌｎＸ ２．５
ｆｆｉ Ｘ Ｑ、５ ｃＩＲの松材を、前もって馬鈴
薯煎汁（馬鈴薯でんぷん２０％およびグルコース２％を
含む：以下ＰＤ培地という）に３分間浸漬し栄養液を吸
収させて６０°Ｃで乾燥したものと、このようなＰＤ培
地に浸漬せずに栄養液を吸収させないものの２Ｎｉ類を
使用〕を浸漬して薬剤を吸収させる０そしてこの木片を
２日間風乾し試息掬体と１−た・ この試験体をペトリ皿に入れ・ ＪＩＳ Ｚ ２９１１
Ｋ規定された馬鈴薯煎汁寒天培地で培養した供試菌
（Ａａｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｔｇｅｒ （アスペルギ
ルス・ニゲル）ＡＴＣＣＶ６４２、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉ
ｕｍ ｆｕｎｉｃｕｌｏｓｕｍ （ペニシリウム・フニ
クロスム） ＡＴＣＣ９６４４Ｒｉｚｏｐｕｓｓｔｏｌ
ｏｎｉｆｅｒ （リゾ−デス・ストロニファー）ＩＦ
Ｏ６３５４，Ａｕｒｅｏｂａａｉｄｉｕｍ ｐｕｌｌｕ
ｌａｎｓ （オーレオパシジウム・デルランス） ＩＦ
Ｏ６３５３゜Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｖｉｒｅｎｓ
（グリオフラジ＋７Ａ −ヒＩ／ンス）ＡＴＣＣＶ６
４５ ）の混合胞子液（単一胞子懸濁液を等歌づつ４種
混合したもの）を試験体にＩ ｍｔずつ刷毛を用いてぬ
り付ける・ペトリ皿にふたをして温度２６±２’Ｃ，湿
度７０〜８０チで培養する。ｖ！４査は培養３日後、７
日後、１４日後・ ２１日後および２８日後に試ｔｈ体
のかび発生状況を下肥の基準によシ調査した− その結果は第７表および第８表のとおりである。
版）に記載された木材用防かび剤の効力試験方法に準じ
て行った。すなわち、参考例４に準じてＩＮＡＩｎした
乳剤を有効成分が所定濃度となるようキジロールで希釈
し、その中に木片〔大きさが２，５ ｃｌｎＸ ２．５
ｆｆｉ Ｘ Ｑ、５ ｃＩＲの松材を、前もって馬鈴
薯煎汁（馬鈴薯でんぷん２０％およびグルコース２％を
含む：以下ＰＤ培地という）に３分間浸漬し栄養液を吸
収させて６０°Ｃで乾燥したものと、このようなＰＤ培
地に浸漬せずに栄養液を吸収させないものの２Ｎｉ類を
使用〕を浸漬して薬剤を吸収させる０そしてこの木片を
２日間風乾し試息掬体と１−た・ この試験体をペトリ皿に入れ・ ＪＩＳ Ｚ ２９１１
Ｋ規定された馬鈴薯煎汁寒天培地で培養した供試菌
（Ａａｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｔｇｅｒ （アスペルギ
ルス・ニゲル）ＡＴＣＣＶ６４２、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉ
ｕｍ ｆｕｎｉｃｕｌｏｓｕｍ （ペニシリウム・フニ
クロスム） ＡＴＣＣ９６４４Ｒｉｚｏｐｕｓｓｔｏｌ
ｏｎｉｆｅｒ （リゾ−デス・ストロニファー）ＩＦ
Ｏ６３５４，Ａｕｒｅｏｂａａｉｄｉｕｍ ｐｕｌｌｕ
ｌａｎｓ （オーレオパシジウム・デルランス） ＩＦ
Ｏ６３５３゜Ｇｌｉｏｃｌａｄｉｕｍ ｖｉｒｅｎｓ
（グリオフラジ＋７Ａ −ヒＩ／ンス）ＡＴＣＣＶ６
４５ ）の混合胞子液（単一胞子懸濁液を等歌づつ４種
混合したもの）を試験体にＩ ｍｔずつ刷毛を用いてぬ
り付ける・ペトリ皿にふたをして温度２６±２’Ｃ，湿
度７０〜８０チで培養する。ｖ！４査は培養３日後、７
日後、１４日後・ ２１日後および２８日後に試ｔｈ体
のかび発生状況を下肥の基準によシ調査した− その結果は第７表および第８表のとおりである。
１１１４ｆ基準
３： 試験体にかびの発生が全（認められない。
２： 試験体の側面のみにかびの発生が認められる０
１： 試験体の上面の面積の３分のＩ以下にかびの発生
が認められる。
が認められる。
０： 試験体の上面の面積の３分の１以上にかびの発生
が認められる。
が認められる。
なお、比較薬剤りは、有効成分として２．４−チアゾリ
ルペンツイミダゾール２悌、ｌ、２−ベンゾイソチアゾ
リン−３−オン４チおよびショート１４−ｓｔ ノｑ
ラトリルスルホン１−を含有スル市販の防かび剤である
Ｏ 第 ７ 表１
ルペンツイミダゾール２悌、ｌ、２−ベンゾイソチアゾ
リン−３−オン４チおよびショート１４−ｓｔ ノｑ
ラトリルスルホン１−を含有スル市販の防かび剤である
Ｏ 第 ７ 表１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は水素原子、ハロゲン原子または低級ア
ルキル基を示し、Ｒ＿２はハロゲン原子、低級アルキル
基または低級アルケニル基を示し、Ｒ＿３はヘテロ環ア
ミンを示す）で示されるテトラアリールボロン−アンモ
ニウム錯体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29574586A JPS62201891A (ja) | 1984-01-24 | 1986-12-13 | テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP951684A JPS60155185A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 防腐防かび剤 |
| JP29574586A JPS62201891A (ja) | 1984-01-24 | 1986-12-13 | テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP951684A Division JPS60155185A (ja) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | 防腐防かび剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62201891A true JPS62201891A (ja) | 1987-09-05 |
| JPH0465078B2 JPH0465078B2 (ja) | 1992-10-16 |
Family
ID=26344262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29574586A Granted JPS62201891A (ja) | 1984-01-24 | 1986-12-13 | テトラアリ−ルボロン−アンモニウム錯体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62201891A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162831A (ja) * | 1974-11-15 | 1976-05-31 | Hokko Chem Ind Co | Suichubootoryo |
| JPS566235A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material |
-
1986
- 1986-12-13 JP JP29574586A patent/JPS62201891A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162831A (ja) * | 1974-11-15 | 1976-05-31 | Hokko Chem Ind Co | Suichubootoryo |
| JPS566235A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0465078B2 (ja) | 1992-10-16 |
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