JPS60161647A - 半導体装置用リ−ドフレ−ム - Google Patents

半導体装置用リ−ドフレ−ム

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JPS60161647A
JPS60161647A JP59016034A JP1603484A JPS60161647A JP S60161647 A JPS60161647 A JP S60161647A JP 59016034 A JP59016034 A JP 59016034A JP 1603484 A JP1603484 A JP 1603484A JP S60161647 A JPS60161647 A JP S60161647A
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JP
Japan
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lead frame
cut groove
groove
cut
semiconductor device
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Pending
Application number
JP59016034A
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English (en)
Inventor
Takashi Shibata
隆 柴田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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    • H10W70/40Leadframes
    • H10W70/461Leadframes specially adapted for cooling
    • HELECTRICITY
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は半導体装置用リードフレームに関し、特に封
止樹脂とリードフレームとの結合力が高い樹脂封止型半
導体装置を形成するのに好適な、改良されたリードフレ
ームに関するものである。
[発明の技術的背景] 第1図乃至第4図に、この発明に特に関連する異形銅条
の従来のリードフレーム及びその従来のリードフレーム
を用いて構成した樹脂封止型半導体装置の要部構造を示
す。
第1図乃至第3図は、異形銅条リードフレームの板厚の
厚い部分に放熱板部分くと−1−シンク)とチップマウ
ント部とが形成され、板厚の薄い部分にリード部分と搬
送用リール係合部分とが形成されている型式の公知の樹
脂封止型半導体装置の概略構造を示したものである。 
第1図は樹脂封止型半導体装置の製造工程においてトラ
ンスファーモールド工程終了直後の状態を示ず平面図、
第2図は第1図の■−■矢祝前祝断面図3図は封止樹脂
を取除いて示した未完成の半導体装置の平面図である。
第1図乃至第3図において、2はリードフレーム1の放
熱板部分、3はリードフレーム1の搬送用リール係合部
分であり、搬送用リール係合部分3には半導体装置の接
続用リード4が形成されている。 5は放熱板部分2と
一体に形成されたチップマウント部分であり、該チップ
マウント部分5上にはチップ接着用はんだ層6を介して
半導体チップ7が搭載され、該半導体チップ7の上には
該チップマウント部分5の全部と接続用リード4の一部
とを被覆して封止樹脂成形体8が形成されている。 個
々の半導体装置毎に分割する前の時点ではリードフレー
ム1が第1図の矢印f方向に送られ、その際、リードフ
レーム1の搬送用リール係合部分3に設置ノられたリー
ル係合孔3aが搬送用リール(図示せず)の突起に係合
して譲りがかけられる。 第1図のように封止樹脂成形
体8が完成した後はリードフレーム1がその長手方向と
直角方向に切断分割されるとともに搬送用リール係合部
分3が切り落されC個別の半導体装置となる。 第3図
は搬送用リール係合部分3を切除する前の状態の平面図
(封止樹脂成形体を取除いて示したもの)である。
従来の半導体装置ではリードフレーム製造時に放熱板部
分2とチップマウント部分5との境界近傍に第3図及び
第4図に示ずように横断面形状がV形の打刻溝9(刻印
と称している)を形成してc15ぎ、この打刻溝9内に
封止樹脂が入り込むように封止樹脂成形体8を形成して
いた。 この打刻溝9は封止樹脂とリードフレームとの
食いつき(すなわち結合力)をよくして、いわゆる口あ
き(封止樹脂成形体8の表面にまで開口する隙間もしく
は亀裂)が生じないようにJるためのものである。 口
あきのある半導体装置はセラ1〜に組込まれる時にシャ
ーシと該半導体装置どの間にコートするシリコーングリ
ースが侵入したり、或いは使用中に外部から湿気が侵入
したりしてその結果、電気的特性が劣化したり、もしく
は半導体装置自身の電極のアルミニウムが溶解したり、
ボンディングワイヤが剥離短絡する等の種々の事故を起
づので、封止樹脂とリードフレームとの結合力が高いこ
とは樹脂封止型半導体装置にとって極めて重要な条件で
ある。
[背景技術の問題点] 前記のごとき構造の従来のリードフレームを用いて構成
した半導体装置では、封止樹脂成形体く樹脂モールド)
とリードフレームどの結合力が弱く、そのため、口あき
のある半導体装置を皆無にすることは困難であった。 
口あきはリードフレームの搬送用リール係合部分を切落
す時と各半導体装置としてリードフレームを分割切断す
る時、特に板厚の厚い部分を分割する時とに生ずること
が多く、これら分割1の工程ではリードフレームに曲げ
モーメントによる上下方向の引張力等が加わるため、従
来の鉛直方向上向きに開いた打刻溝ては樹脂モールドと
リードフレームとの間に前記の力に十分耐えられる強固
な結合力を形成さけることができなかった。
[発明の目的] この発明の目的は、従来の半導体装置よりも封止樹脂成
形体とリードフレームとの結合力が高く、従って口あき
等の生ずる恐れの少い樹脂封止型半導体装置を形成Jる
ことのできる改良されたリードフレームを提供り−るこ
とである。
[発明の概要] 本発明者は封止樹脂成形体とリードフレームとの結合力
を高めるために種々の試みを行った結果、本発明のごと
き構造のリードフレームによれば、従来の半導体装置よ
りも密封性の高い半導体装置を実現できることがわかっ
た。
本発明のリードフレームにおいては、封止樹脂と密着す
る部分のリードフレームの表面に第一の打刻溝が形成さ
れるとともに該第−の打刻溝よりも所定距離たり離れた
至近位置に該第−の打刻溝に所定の変形を与えるように
第二の打刻溝が形成されていることを特徴とする。 本
発明のリードフレームを用いて形成しtc樹脂刊止型半
導体装置においては、第一の打刻溝の両側面が鉛直線に
関して非対称にかつ一方向に傾いているため、該第−の
打刻114中にJ3いて固化した封止樹脂は鉛直方向の
外力が力1目つっても該第−の4]刻溝の一方の側壁面
によって下向き反ツノを受(プるので該打刻溝から脱出
づることはなく、その結果、リードフレームと封止樹脂
成形体との分離(口あき)が未然に防止される。
[発明の実施例] 第5図及び第6図は本発明によるリードフレームの一実
施例を示す概略図である。 なお、第5図及び第6図に
おいて第3図と同一符号で表示された部分は従来のリー
ドフレームと同一部分を示0 図示実施例のリードフレーム10においては、放熱板部
分2との境界線に沿ったデツプマウント部分5の表面に
はHいに平行な第一の打刻溝9Aと第二の打刻溝9Bと
が形成されている。 第一の打刻溝9Aは第二の打刻溝
9Bよりも先に形成されたものであり、該第−のI刻溝
9△は第二の打刻iM 9 Bの形成時に変形されて第
6図に示すようにその両側壁が放熱板部分2の方へ向っ
て倒れた状態となっている。 本実施例では第一の打刻
溝は放熱板部分とチップマウント部分5とのは8′境界
線近傍(更に詳細には封止樹脂成形体8の側縁よりも0
.4〜0 、6 Ill Illだけチップマウント部
分の側へ寄った位置)に形成され、打刻時の横断面形状
は鉛直面に対称なV形であり、形溝9Aの壁面の打刻時
傾斜角度・(両側壁面間の聞ぎ角度)は60″、深さは
0.2〜0.3mmである。
第二の打刻溝9Bは第一の打刻溝9Aよりも0.3mm
程離れた位置に形成され、その両側壁面間の開き角度は
50°〜70°で深さは0.2〜0.3mmである。
第一の打刻溝9Aと第二の打刻溝9Bとの形成条件及び
相互間距離を前記のような値に選ぶことにより、他の部
分に有害な変形を起すことなく第一の打刻溝9Aのみを
第6図のように変形せしめることができる。 本発明者
の実験によれば、リードフレーム素材が銅又は銅合金か
ら成る異形銅条である場合、前記両打刻溝を形成りるに
際し前記のごとき形成条件で溝形成を行えば極めて好ま
しい結果が得られることがわかった。
前記のごとき二条の打刻溝9A、9Bが設置ノられてい
る本発明のリードフレームを用いて公知の製造方法で゛
樹脂封止型半導体装置を多数製作する一方、従来のリー
ドフレームを用いて同じ形式の樹脂封止型半導体装置を
製作し、両者に対してリードフレームと封止樹脂成形体
との接合面の隙間(口あき)の有無を調べるとともにボ
イリング試験及びプレッシャークツカー試験を実施した
以下にその結果を示す。 但し、本発明のリードフレー
ムを使用して製作された半導体装置をA1従来のリード
フレームを使用して製作された半導体装置をBと表示す
る。
<i) 封止樹脂とリードフレームどの接合面に超プる
隙間(口あき)の有無。
(イ〉倍率10倍の顕微鏡で検査した場合。
置してから解体調査) (ii) ボイリング試験結果(不良品発生率)(ii
i ) プレッシャークツカー試験結果(不良品発生率
)[発明の効果] 以上の実施例によって明らかなように、本発明によれば
、従来の半導体装置よりも極めて密封性及び信頼性の高
い樹脂封止型半導体装置を実現でさるどころの改良され
たリードフレームが提供される。 従って本発明のリー
ドフレームによれば、樹脂]り正型半導体装置の歩留り
を大幅に改善り′ることができるとともにその信頼性を
大幅に高めることができる。
なお、前記実施例では第−及び第二の打刻溝(すなわち
刻印)をリードフレームの長手方向と平行に形成した場
合のみを示したが、これらの打刻溝をどのような方向及
びどのような位置に設けてもよいことは当然である。 
また、打刻溝の数(対の数)、長さなどにも制限はなく
、自由に選定できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は樹脂封止型半導体装置の製造工程にお面図、第
3図は第1図の半導体装置(1個分)の封止樹脂を取除
いて示した平面図、第4図は第3図のIV −IV矢矢
視大人断面図第5図は本発明の一実施例のリードフレー
ムの平面図、第6図は第5図のVl−Vll矢視大人断
面図ある。 1・・・リードフレーム、 2・・・・・・放熱板部分
、3・・・搬送用リール係合部分、 4・・・接続リー
ド、5・・・チップマウント部、 6・・・接続用Eよ
んだ層、7・・・半導体チップ、′ 8・・・封止樹脂
成形体、9・・・打刻溝、 9A・・・第一の打刻溝(
刻印)、9B・・・第二の打刻溝、 10・・・本発明
のリードフレーム。 特許出願人 東京芝浦−電気株式会社 第1図 第2図 8 第5図 現 第6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 樹脂封止型半導体装置に使用されるリードフレーム
    において、封止樹脂と密着するリードフレームの表面に
    第一の打刻溝が形成されるとともに該第−の打刻溝に近
    接して第二の打刻溝が該第−の打刻溝に所要の変形を与
    える”ように形成されていることを特徴とする半導体装
    置用リードフレーム。
JP59016034A 1984-02-02 1984-02-02 半導体装置用リ−ドフレ−ム Pending JPS60161647A (ja)

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JP59016034A JPS60161647A (ja) 1984-02-02 1984-02-02 半導体装置用リ−ドフレ−ム

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JP59016034A JPS60161647A (ja) 1984-02-02 1984-02-02 半導体装置用リ−ドフレ−ム

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JPS60161647A true JPS60161647A (ja) 1985-08-23

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ID=11905289

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JP59016034A Pending JPS60161647A (ja) 1984-02-02 1984-02-02 半導体装置用リ−ドフレ−ム

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0328746U (ja) * 1989-07-28 1991-03-22

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5541022A (en) * 1978-09-15 1980-03-22 Matsushita Electric Works Ltd Photo oscillation circuit

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