JPS6016376A - 半導体製造用作業装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）、産業上の利用分野 この発りＪは作梁菫同全的浄空気雰囲気に保つ半導体製
ヌα用作業装置に関する。

（ロ）、従来技術 半導体製造において大気中の種々雑多な塵埃類は人質な
障害となるので、半導体製造の作業室や作業台上は１１
４＃空気雰囲気に保たれている０例えば第１図で半導体
製造に使用される作業室Ｉｌｌと作業装置（クリーンペ
ンチ等）１２１を説明すると、作業室１１１は天井にエ
アーフィルタＩ’Ｊ）が設置され、外部の’ｉｑ調機１
３】から送られてくる空気はエアーフィルタ１１１　Ｋ
通る間に浄化され、この浄化されたクリーンエアーが天
井から床に向はタクンフローされて作業室ｆｉｌ内が醒
浄空気雰囲気に保たれる。グクンクローされた空気は格
子状等の床を通って空調機（３）へと送シ込まれるか、
又は外部へ放出される。作業装置１２）は作業台＋４１
と作業台＋４１の上方定位置に設置ばされたクリーンエ
アーＩ−１５１で構成され、クリーンユニット］６１は
ボックス＋６１　内にエアーフィルタ＋７１とファン（
８１及びその駆動源（図示せず〕を収納したもので作業
室ｉｌｌ内の空気を吸引して浄化したクリーンエアーを
作業台（４）上にダクンフローして作業台（４）上の作
業空間ｍを作業室］１１内より更に清浄度の筒い（？７
＃空気雰囲気に保つ。

ところで作業室１１」内は広く、且つ人や物の出入りが
あるため、室内の空気ｔｎｎ変度高い１直で安定して雑
作させることか１ｌｌｉｌｋシい。そこで作業、室＋１
１内に設置される作業装置＋２１に自浄機能を持たせて
、作業室１五１内の空気汚染から作業台＋４１上の作業
突ＨｉｌＪ　ｍを守るようしている。また作業台（４１
とクリーンエアー）　＋５１は一定の間隔で対回し、開
も１ＩＩｊ者向の至間はトラグル発生時の処Ｍをｕｆ　
１把ならしめるよう人が入れる程度の大きさに設計され
ている。この両者間の空間は必要な作朶至同ｍよりも＋
Ｌｆｉさで数倍大きく、作業空間ｍ以外の伐り空間は平
常の作業時には不用な空間である。りまり作業台１４＋
とクリーンユニット（５）の間隔は平常の作業時におｈ
ては必要以上に大きくｔそのためクリーンユニット１５
１がらダウン７０−きノするクリーンエアーの流す各が
長くて、このクリーンエアーのダクンフロー中に作業室
ＩＩＪ同の空気が合き込まれて作業空間ｍに入り込み、
作条空間ｍの空気１［４浄度が低下する確率が高かつ比
。またこのような突気清浄度低下を防止する工夫として
、クリーンユニット１５１　かう（１）クリーンエアー
のｆｚｉｌ：　量を多くして外部からの窄気侵入全岨止
することが行ゎｔ”ｔでいるか、これでは作業突Ｉ【Ｊ
ｍでの作りだ中の空気抵抗が増して作業が甑しくなると
共に、エアー７スルタ＋７１０目詰まりが倍増してメン
テナンスを５旺しいものにする問題があった。

（ハ）、発り」の目的 木＠例は上記問題点に鑑み、これを改良・除去した半導
体製造用作業装置ｄを提供することを目的とする〇 に）、発り」の４１ケ成 零宛１月は作業台とこの作業台上にクリーンエアーをダ
ウンフローするクリーンユニットを相対的に上下切回１
ｊヒに対向妃１直することを特徴とする。（！／ｌＩえ
ば作業台をｊｄ疋するとその上方のクリーンユニットを
上下動可能に設置ｆｔし、平常の作業時はクリーンユニ
ット’を作業台との間に必ｊ藤な作業空間が形成される
下１杖位１αまで下降さセ、何かのトラブル発生時にお
いてのみクリーンエアーｌ−’に作業台との１−に人が
入れ、６程度の賜さまで上昇させる。このようにすると
平常の作業１皆に作業空間に外部から空気が侵入する確
率が大幅に低下し、作業空間の空気ぞ肖浄度？高度に安
定させることが容易になる。

６ｊ＝）、つぐ施例 第２図及び第３図の実施例におｈて％　ｕｏｌは作業室
、１１υは作業室１１ｏ）内に設置αされた木発すＪに
よる作業装Ｋｔで、作業室１１０＋の床上に固定された
作業台（則と作業台（１２１上方に上下ｔｉｉｌＩ可能
に設置ばされ／ヒフリーンユニット（１３）とで構成さ
れる。クリーンユニット（１３）はボックス＋１４１内
に例えばエアーフＩルクＵｈ＋とｉｔ　前ファン（１６
）及びその動力源（図示せず〕を収納しｌ辷ものである
。ＩＩ７＋はボックス（１・υの１拍回に形成した至気
威入Ｄ、υ〜はボックス（１４）の俊曲りこ装着した複
数のガストローラ、（Ｉ！υはボックス（１４１の上面
から部用した′ｔば源コード、　ｇｏ）及び＋２１１ｔ
ユボツクス（１−υの上口前端に垂設したシール板及び
フレキシブルｚｒシートで、シートラυはシール板β）
のＩＩＪ　ｕｊｊ　Ｋ沿って上方に延びその先端は作、
１４蔓１１０１１／）天井の批れ猿回にＩ一定される。

＋２３）　Ｈ作業室１１０）の床に妻設された支柱で、
ガストローラｔｌｄ’に介しクリーンユニット霞を上下
動可能に文行する。＋２−υは支柱（２Ｊの上端部に回
転可能に収付けｆｃ　ｒ’Ｆｆ班、い５）はボックスＩ
Ｊ４）の上面彼咽かう上方に延びて滑ＪＪＬ閾上を周回
し下方に歩れ下るローブ、輯（至）はローブ（２０の下
端ｅこ１同定した重りでろる０恵り（槽の重量はクリー
ンユニット０３）の重量と同程度で、クリーンエアーＩ
−（ｌ（至）の上下動操作を容易ならしめる。２力はボ
ックス（１４）の後面ｖｃ一定されて下方に延びるｊイ
板である。

上記支柱ｊ２３）は例えば第り図に示す如く断面Ｃ字状
の中藁レールで、ノ木が平行に配置され、各々にガスト
ローラ（１８１が」ユ下刃回に（阪助ｑ、Ｆ罷にＪ■納
さＩ”Ｌ　６　ｏこの支柱ｔニアＪｌのυ！Ｊ囲に背板
（２乃が支柱ｌ１３）を隠す如く配置される。背板（’
ｌ／］はクリーンユニットｔ１３）と共シて上下動し、
その上１旺位置におけ／：ＩＲ板１句の下端は作業台（
１２Ｉの上面より少し下方に立１ｄシ、これにより背板
シＯはクリーンユニットリ（支）の上下動に伴ってガス
トローラ（１８１と支柱（ハ）との摺蘭により発生する
ｊ盃埃頑が作業台（１２１の方間Ｖこ池数するのを防止
する。また背板石）（はクリーンユニット１１３１から
ダウン７０−さ）Ｌるクリーンエアーの流れを整流Ｔる
作用全兼備する。

上記作業装置（１１）で平常の作４ｊＺを行う場合は第
２図に示すようにクリーンエアーｌ−１３）を下限位ｌ
ｉ−，［４で下ける。この時のクリーンユニットｔ１３
１　ト作業台１１カとのｉ：’ｊ　！ｌ＋□ｉｊＬは両
者１ｒυの菫回が必要な作業至同ｍのみで占められる１
直で、約７０θ〜）θＯｍｍ　程度である。との間隔り
であれば作雇室ｕｏ＋　＋ノｑのを気が作未菫同ｍＶＣ
入６　＋ｉｆ　１七性が薄く、従ってクリーンユニット
ｕ３）のクリーンエアーのダッンフロー量を従来と同じ
にした場合は作氷朶同ｍの螢気的浄度が向上する。また
作業室間ｍの空気１［４浄反を従来と同じにする場合は
クリーンユニット（１３）のダクンフロー砿ヲ少くする
ことかでき、従ってクリーンユニットｊ１３１の目：ｆ
ｉｆｆ　’まり等のトラブルが軽減されメンテナンスが
容易になる。

＋ｒｌＫ作１時に何かのトラブルが発生して処理の必要
性が生した場合は５ｇ３図に示すようにクリーンユニッ
ト１１３１γ作采台ｊ１２１とのｒｘａ　Ｋ人が入れる
仔度の」１限位置まで上昇させる。そしてトラブル処理
が光子するとＩ；＋ひ第２図の状悪に戻し作条をＭｂｉ
ｉ行させる〇 尚、クリーンユニット０３１を下限、上限位置で安定さ
せて一１１改防止を図るための手段として図示しないが
ボックス制と支社”２３１１ｃＪにストッパなどを装置
Ｉ′ｌＩＩきせることか箪筐しい。

また不発１−ｉｌｊは上記失施的に限らず、特にクリー
ンユニットの上下風切板（１゛ｉは各種式史が可能であ
る。゛また場合によってはクリーンユニットｆ、固定し
て作業台を上下動０Ｉｌ’　Ｉ七に設ｍｌしてもよい。

（へ）、発明の詳細 な説明したように、本発す」によれば作業台上での作業
至間の空気清浄度を尚度に且つ安定して維持することが
でさ、従って半導体製造の歩留り向上化が図れ、特に極
１１ｉ！Ｊ　Ｖｃ汚汚染気気嫁うＬＳＩ、超Ｌ８工の製
造において有効である

【図面の簡単な説明】 第ｌ１２．Ｉは従来の半導体製造用年来装置を説りＪす
るための概１：ｉ３側面図、第２図及び第３図は本発明
の一仄施例を示す各状悪での概略側面図、第ダＶＪは第
！ＩＺ１のＡ−Ａ線に沿う拡大部分断面図である。 １ｌｌ）　−−作；＝　’ＡＫ置、１２１　ｍ　ｍ作呆
台、［３１−６クリーンユニツト。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １１）半導体製造用作業台と、当該作業台の上方に配置
   されて作業台上をクリーンエアーのダクンフローでｉｎ
   浄空気雰囲気に保つクリーンユニットとをイ目対的に上
   下動可能に対同配置したことを特徴とする半導体製造用
   作業装置０