JPH0522729Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ この考案は、清浄空間の一部を、その他の部分
からカーテンにより仕切ることにより、その部分
の清浄度を高度に維持したり、あるいは生産機器
の交換や修理あるいはメンテナンスを周囲の生産
ラインを汚染することなく行うことを可能とする
ための仕切装置で、その位置、範囲を簡単に変え
ることができる装置を提供するものである。

＜従来の技術＞ 半導体製品の製造工場では、高度な清浄度を確
保するために天井部に高性能エアフイルタを設け
て空気を濾過してピストンフロー状に清浄空気を
吹き出すダウンフロー方式が採用される。

このようなダウンフロー方式のクリーンルーム
を作る方法として全面天井方式とトンネル方式の
２つの方法がある。

第４図は全面天井方式のクリーンルームの概略
構成を示す。１０１は天井部に設置した高性能フ
イルタで、１０２は床全面に設置した空気吸込用
グレーチングである。また１０３，１０４はクリ
ーンルーム１００内に設置される生産機器類を示
している。全面天井方式のクリーンルームでは、
部屋のいたるところで気流が垂直方向に向つて流
れているので、生産機器設置の自由度は非常に高
い。ただし部屋の中に設置された生産機器を故障
修理する場合、生産を中断したり汚染を許容した
りしなければならなかつた。

第５図はトンネル方式のクリーンルームの概略
構成を示す。天井部に設けたフアンフイルタユニ
ツト１１０で循環濾過された清浄空気は生産機器
１０３，１０４を包み込むように流れており、作
業員１０７が作業のために近づいても清浄空気が
バリヤとなる。このトンネル方式は生産機器のメ
ンテナンスはトンネル方式クリーンルーム間に設
けたメンテ域より行うことができるが、この場合
にも汚染の横方向への拡散が起る。

＜問題点を解決するための手段＞ この考案は、クリーンルームの天井部又は天井
部付近に２本１組の第１のレールを設置し、この
レール上をこのレールと直角方向に移動可能な第
２のカーテンレールを２本設置し、更にこのレー
ルの上に直角方向に移動可能な第３のカーテンレ
ールを２本設置し、これらの第２、第３のカーテ
ンレールに透明樹脂等の材料（非帯電処理を施し
たもの）で作つたカーテンレールを設置し、この
移動可能な４枚のカーテンにより、メンテナンス
や修理の必要の生じた生産機器を囲つて他の生産
ラインを汚染することなく作業ができるようにし
たものである。

＜実施例＞ 以下第５図に示したトンネルタイプクリーンル
ームについて実施した実施例につき、図面によつ
て説明する。第１図は上方よりみた平面図、第２
図は第１図をＲ方向から見た側面図、第３図は第
１図をＤ方向から見た端面図である。本考案の仕
切装置は第２図に示すようにフアンフイルタユニ
ツト６０の清浄空気吹出口直下に取り付けられて
いる。

吹出口の両側に２本のレール１１，１２を生産
機器類が並ぶライン方向に設け、そのレール１
１，１２の間に２本のレール２１，２４を設置す
る。２２，２３は夫々レール１１，１２と係合す
るレール２１の両端の車輪、又２５，２６は夫々
レール１１，１２と係合するレール２４の両端の
車輪である。そのため、レール２１，２４はレー
ル１１，１２に沿つて長手方向に移動しうる。さ
らにレール２１，２４の間に２本のカーテンレー
ル３１，３４をかけ渡す。３２，３３はレール２
１，２４と係合するカーテンレール３１の両端の
車輪、又３５，３６はレール２１，２４と係合す
るカーテンレール３４の両側の車輪である。

レール２１にはカーテン４１、レール２４には
カーテン４２、カーテンレール３１にはカーテン
５１、カーテンレール３４にはカーテン５２が
夫々取り付けられている。これらのカーテン４
１，４２，５１，５２で囲まれた空間では上部か
ら供給される清浄空気は横方向へ拡散することな
くほとんど床面よりクリーンルーム外へ排出（濾
過・循環）されるので、たとえこの空間で多量の
発じんがあつても隣接に汚染粒子が拡散すること
はない。

またカーテンレール３１，３４をレール２１，
２４上で移動することにより空間の大きさを変え
ることができ、更にレール２１，２４をレール１
１，１２に沿つて移動させることにより、空間を
移設することも可能となる。

＜効果＞ この考案の清浄空間仕切装置は、このような構
成であつて、メンテナンスや修理を行う生産機器
の周囲までカーテンレール上を滑らせて移動させ
れば、発塵があつても他の生産プロセスを汚染さ
せることは無くなる。すなわち、生産活動を継続
しながら、生産機器のメンテナンスや修理を行う
ことができる。

また移設が可能なので通常は生産活動の邪魔に
ならない場所に置くことができるし、トンネル型
クリーンルームの他、全面天井方式のクリーンル
ームにも適用可能である。

更に汚染拡散とは逆に、特に周囲よりも清浄な
環境を得たい場合や温湿度条件を厳しく管理する
ために周囲環境から仕切る場合にも利用可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図から第３図は本考案の清浄空間仕切装置
のトンネル方式クリーンルームへの適用実施例
で、第１図は平面図、第２図は第１図をＲ方向か
ら見た側面図、第３図は第１図のＤ方向から見た
端面図であり、第４図、第５図は従来のクリーン
ルームの方式を説明する図であり第４図は全面天
井方式クリーンルーム、第５図はトンネル方式ク
リーンルームの説明図である。 符号の説明、１１，１２……長手方向レール、
２１，２４……カーテンレール、２２，２３，２
５，２６……車輪、３１，３４……カーテンレー
ル、３２，３３，３５，３６……車輪、４１，４
２，５１，５２……カーテン。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. クリーンルームの天井部に１対の第１のレール
   を設け、このレールに直角方向に移動可能な第２
   の２本のカーテンレールを設置し、さらにこの第
   ２の２本のカーテンレールに直角方向でしかも移
   動可能な第３の２本のカーテンレールを設置し、
   第２、第３のカーテンレールにそれぞれカーテン
   を設置したことを特徴とする清浄空間仕切装置。