JPS60177286A - Ｒｉ計測装置 - Google Patents
Ｒｉ計測装置Info
- Publication number
- JPS60177286A JPS60177286A JP3312884A JP3312884A JPS60177286A JP S60177286 A JPS60177286 A JP S60177286A JP 3312884 A JP3312884 A JP 3312884A JP 3312884 A JP3312884 A JP 3312884A JP S60177286 A JPS60177286 A JP S60177286A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- photoelectric peak
- marker
- ray source
- gamma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 16
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 15
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 11
- 239000003550 marker Substances 0.000 abstract description 24
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 18
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 8
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 5
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011440 grout Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/17—Circuit arrangements not adapted to a particular type of detector
- G01T1/178—Circuit arrangements not adapted to a particular type of detector for measuring specific activity in the presence of other radioactive substances, e.g. natural, in the air or in liquids such as rain water
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はラジオアイソトープ（以下ＲＩという）を用い
た計測装置に関し、特にシンチレーションカウンタを用
いて検出効率を高めるととも１こ温度変化等の外乱に対
して安定化を図り、もって法規制をうけない線源を用い
た野外等においても高検出効率ひいては高精度の計測を
なしうるようにした計測装置に関する。
た計測装置に関し、特にシンチレーションカウンタを用
いて検出効率を高めるととも１こ温度変化等の外乱に対
して安定化を図り、もって法規制をうけない線源を用い
た野外等においても高検出効率ひいては高精度の計測を
なしうるようにした計測装置に関する。
シンチレータと光電子倍増管とを用いたシンチレーショ
ンカウンターは、６Ｍ計数管などに比べて検出効率（パ
ルスカウント／入射放射線の数）が１０２程度大きいと
いう利点がある。この利点は弱い線源を使用しなければ
ならないときに特に魅力的である。しかし、シンチレー
ションカウンタは、使用するシンチレータの光電変換効
率【こ温度係数があり、さら）こ同じ種類のシンチレー
タでも個々の特性が相違する。また光電子倍増管の利得
は、印加電圧の変動に伴って大きく変化し、温度係数も
一〇１〜−１．０％／°Ｃ程度と大きい。ＧＭ管と違っ
てシンチレータの出力パルスの波高は単一でなく、かつ
広範囲に分布しているため、七記光電変換効率や利得が
変化すると全計数値が変化することになる。従ってシン
チレーションカウンタの使用に隙して（ｊ１温度コント
ロールが不可欠となり、更１こ測定のたびに較正を行う
必要がある。
ンカウンターは、６Ｍ計数管などに比べて検出効率（パ
ルスカウント／入射放射線の数）が１０２程度大きいと
いう利点がある。この利点は弱い線源を使用しなければ
ならないときに特に魅力的である。しかし、シンチレー
ションカウンタは、使用するシンチレータの光電変換効
率【こ温度係数があり、さら）こ同じ種類のシンチレー
タでも個々の特性が相違する。また光電子倍増管の利得
は、印加電圧の変動に伴って大きく変化し、温度係数も
一〇１〜−１．０％／°Ｃ程度と大きい。ＧＭ管と違っ
てシンチレータの出力パルスの波高は単一でなく、かつ
広範囲に分布しているため、七記光電変換効率や利得が
変化すると全計数値が変化することになる。従ってシン
チレーションカウンタの使用に隙して（ｊ１温度コント
ロールが不可欠となり、更１こ測定のたびに較正を行う
必要がある。
このような事情からシンチレーションカウンタは、野外
や屋外のような温度コントロールを行いえない場所での
測定、長時間連続的Ｅこ測定する必要があり、途中で較
正を行いえないような条件下での測定、四季を通じて安
定した性能が要求される施工現場における測定などの用
途には実用的でない。
や屋外のような温度コントロールを行いえない場所での
測定、長時間連続的Ｅこ測定する必要があり、途中で較
正を行いえないような条件下での測定、四季を通じて安
定した性能が要求される施工現場における測定などの用
途には実用的でない。
この事情は、安定の見地から線源になるべく弱いものを
使用する場合にも同様であって、更にこの場合］こは測
定時間を長くしなければならないこともあって検出器・
にシンチレータを適用することはますます困難となる。
使用する場合にも同様であって、更にこの場合］こは測
定時間を長くしなければならないこともあって検出器・
にシンチレータを適用することはますます困難となる。
かかる難点の解消のため、測定対象である線源の外にマ
ーカとして利用する弱いα源例えばＡｍ−２４１をシン
チレータのなかに埋め込み、このマーカ用線源から放射
されるα線の検出パルスの波高分布のピークの位置が一
定の位置を保つよう）こ光電倍増管又はパルスアンプな
どのパルス信号増幅系の増幅度をフィードバック制御す
る構成とした安定化シンチレーションカウンタが主とし
てスペクトル測定の目的）ご用いられている。
ーカとして利用する弱いα源例えばＡｍ−２４１をシン
チレータのなかに埋め込み、このマーカ用線源から放射
されるα線の検出パルスの波高分布のピークの位置が一
定の位置を保つよう）こ光電倍増管又はパルスアンプな
どのパルス信号増幅系の増幅度をフィードバック制御す
る構成とした安定化シンチレーションカウンタが主とし
てスペクトル測定の目的）ご用いられている。
つぎに従来のマーカ用の線源を用いた安定化シンチレー
ションカウンタの構成とその作用を説明する。
ションカウンタの構成とその作用を説明する。
第１図は従来の安定化シンチレーションカウンタの構成
を示すブロック図で、シンチレータ（１）（ｊ例エバＮ
ａＩ （Ｔ６）が密封されており、容器内會こは極微里
のマーカ用のα線源（Ａｍ−２４１）（１１α）が埋め
込まれている。このマーカ用線源（１１α）から放射さ
れたα線はＮ’ａｌ（Ｔｌ）に蛍光を発生させる。
を示すブロック図で、シンチレータ（１）（ｊ例エバＮ
ａＩ （Ｔ６）が密封されており、容器内會こは極微里
のマーカ用のα線源（Ａｍ−２４１）（１１α）が埋め
込まれている。このマーカ用線源（１１α）から放射さ
れたα線はＮ’ａｌ（Ｔｌ）に蛍光を発生させる。
蛍光は光電子倍増管（２）で電気信号に変換され、増幅
されてパルス信号としてパルスアンプ（５）に入力され
、増幅される。（４）は光電子倍増管を駆動する高圧電
源で、（１） 、 （２）で放射線検出器（３）を構成
する。
されてパルス信号としてパルスアンプ（５）に入力され
、増幅される。（４）は光電子倍増管を駆動する高圧電
源で、（１） 、 （２）で放射線検出器（３）を構成
する。
第２図はパルスアンプ（５）から出力されるパルス信号
の波高分布を示す図で、Ａｍ−２４１はＦＷ［（Ｍ約８
％の光電ピークＰＨを示す。ディスクリミネータ（６）
は弁別値設定回路（７）により設定される弁別値Ｖｄ
より大きいパルス信号を通過させ、計数率計（８）はこ
のパルス数を計数する。一方下側つイントウディスクリ
ミネータ暁は第２図中１こ示す弁別値Ｖｌ−ｖｃの間の
波高値をもつパルス信号のみを通過させ、下側計数率ｉ
（鵠はこの通過してきたパルス数を計数する。上側つ・
イントウディスクリミネータ６３）は、弁別値ＶＣ−Ｖ
ｔｉの間の波高値をもつパルス信号のみを通過させ、上
側計数率計１８３）はこの通過してきたパルス数をｄＩ
数する。これら二つの計数値ＮＬ、Ｎｕはそれぞれ第２
図中ｆこ斜線を施した範囲内の総和となる。計算器（９
）はＮｕ−ＮＬの引算を行い、その値を制御回路ａｎｔ
こ入力する。制御回路ａＣｔは高圧電源（４）を制御し
、Ｎｕ−Ｎｔ、−０どなるように光電子倍増管（２）へ
の印加電圧を調整させる。即ちＮｕ−ＮＬの値は、光電
ピークＰＨの予め定めた基準位置に対する変位を表わし
、制御回路ＯＱは第３図（ａ） ）こ示ずように光電ピ
ークＰＨが左方ｆこ変位したとき（パルス信号の増幅系
の増幅度が減少しだ場合に相当する）は印加電圧を高く
し、同図（ｃ）に示すように右方に変位したときは印加
電圧を低下させる。第４図は引算器の光電ピークＰＨの
変位に伴う引算値の変化特性を示しており、結局、光電
ピークＰＨはＮｕ−ＮＬ＝Ｏとなる位置、即ち第３図（
ｌ〕）に示す基準位置に安定する。このように、このフ
ィードバック制御系は光電ピークＰＨを基準位置に収斂
させる制御系を構成しており、シンチレータ（１）、光
電倍増管（２）、高圧電源（４）、パルスアンプ（５）
などの変動を全て補償することができるのでシンチレー
ションカウンタの安定化が実現できることになる。
の波高分布を示す図で、Ａｍ−２４１はＦＷ［（Ｍ約８
％の光電ピークＰＨを示す。ディスクリミネータ（６）
は弁別値設定回路（７）により設定される弁別値Ｖｄ
より大きいパルス信号を通過させ、計数率計（８）はこ
のパルス数を計数する。一方下側つイントウディスクリ
ミネータ暁は第２図中１こ示す弁別値Ｖｌ−ｖｃの間の
波高値をもつパルス信号のみを通過させ、下側計数率ｉ
（鵠はこの通過してきたパルス数を計数する。上側つ・
イントウディスクリミネータ６３）は、弁別値ＶＣ−Ｖ
ｔｉの間の波高値をもつパルス信号のみを通過させ、上
側計数率計１８３）はこの通過してきたパルス数をｄＩ
数する。これら二つの計数値ＮＬ、Ｎｕはそれぞれ第２
図中ｆこ斜線を施した範囲内の総和となる。計算器（９
）はＮｕ−ＮＬの引算を行い、その値を制御回路ａｎｔ
こ入力する。制御回路ａＣｔは高圧電源（４）を制御し
、Ｎｕ−Ｎｔ、−０どなるように光電子倍増管（２）へ
の印加電圧を調整させる。即ちＮｕ−ＮＬの値は、光電
ピークＰＨの予め定めた基準位置に対する変位を表わし
、制御回路ＯＱは第３図（ａ） ）こ示ずように光電ピ
ークＰＨが左方ｆこ変位したとき（パルス信号の増幅系
の増幅度が減少しだ場合に相当する）は印加電圧を高く
し、同図（ｃ）に示すように右方に変位したときは印加
電圧を低下させる。第４図は引算器の光電ピークＰＨの
変位に伴う引算値の変化特性を示しており、結局、光電
ピークＰＨはＮｕ−ＮＬ＝Ｏとなる位置、即ち第３図（
ｌ〕）に示す基準位置に安定する。このように、このフ
ィードバック制御系は光電ピークＰＨを基準位置に収斂
させる制御系を構成しており、シンチレータ（１）、光
電倍増管（２）、高圧電源（４）、パルスアンプ（５）
などの変動を全て補償することができるのでシンチレー
ションカウンタの安定化が実現できることになる。
なお、拒１図中に波線で示すように、制御回路０（無）
こよりパルスアンプ（５）の増幅度を調節する構成とし
てもよいことはいうまでもない。
こよりパルスアンプ（５）の増幅度を調節する構成とし
てもよいことはいうまでもない。
しかしこの装置は、マーカとして測定対象（γ線）とは
異なるα線源を使用し、シンチレータの性能もα線源の
埋設部付近は他の部分と変えであるためシンチレータの
温度係数がγ線パルスとα線パルスとでそれぞれ若干異
なる１、このためマーカ）こよる補償だけでは誤差要因
を完全にフイードバツりしたとはいえず、その上にα線
源を埋め込んだ特別のシンチレータを必要とするため高
価であｈ１研、充用としては使用し得ても、広〈産業用
として使用する蚤こは不便であり、実用されるに到って
いない。
異なるα線源を使用し、シンチレータの性能もα線源の
埋設部付近は他の部分と変えであるためシンチレータの
温度係数がγ線パルスとα線パルスとでそれぞれ若干異
なる１、このためマーカ）こよる補償だけでは誤差要因
を完全にフイードバツりしたとはいえず、その上にα線
源を埋め込んだ特別のシンチレータを必要とするため高
価であｈ１研、充用としては使用し得ても、広〈産業用
として使用する蚤こは不便であり、実用されるに到って
いない。
ツキ（コマーカ用線源を用いないでシンチレーションカ
ウンタの安定化を図ったものに第１７回５ＩＣＥ学術講
演会（昭和５３年８月２８〜２５日）で発表されたプラ
スチックシンチレータを用いたγ線厚さ計（予稿集Ｐ５
６３〜５６４）がある。第５図はその構成を示すブロッ
ク図、第６図はパルス波高分布を示す図で、シンチレー
タ（１）１こはプラスチックシンチレータを用いて最高
計数率を高くし、安定化のための制御は節６図に示す弁
別値Ｖｄ以七の波高値をもつパルスの計数値Ｎと、第６
図１ζ示すまうｔと、波高分布曲線の上端部の傾斜部に
設定されたＶｕ以上の波高値をもつパルス信号を弁別す
るｔ側ディスクリミネータＩｌｌと、これをとおったパ
ルス数を計数する上側計数率計（８υの計数値Ｎｕ と
の比Ｎｕ／Ｎを算出する割算器（イ）とを有し、この割
算器ｃｉの出力Ｎｕ／Ｎが予め定めた基準値となるよう
に高圧電源（４）の印加電圧を調節する制御回路ＯＧと
を備えたものである。
ウンタの安定化を図ったものに第１７回５ＩＣＥ学術講
演会（昭和５３年８月２８〜２５日）で発表されたプラ
スチックシンチレータを用いたγ線厚さ計（予稿集Ｐ５
６３〜５６４）がある。第５図はその構成を示すブロッ
ク図、第６図はパルス波高分布を示す図で、シンチレー
タ（１）１こはプラスチックシンチレータを用いて最高
計数率を高くし、安定化のための制御は節６図に示す弁
別値Ｖｄ以七の波高値をもつパルスの計数値Ｎと、第６
図１ζ示すまうｔと、波高分布曲線の上端部の傾斜部に
設定されたＶｕ以上の波高値をもつパルス信号を弁別す
るｔ側ディスクリミネータＩｌｌと、これをとおったパ
ルス数を計数する上側計数率計（８υの計数値Ｎｕ と
の比Ｎｕ／Ｎを算出する割算器（イ）とを有し、この割
算器ｃｉの出力Ｎｕ／Ｎが予め定めた基準値となるよう
に高圧電源（４）の印加電圧を調節する制御回路ＯＧと
を備えたものである。
このよう１こすると、第１図に示したようなマーカ用の
線源がなくても一応の安定化が図れるが、温度変化）こ
伴う変動Ｉこ対しては検出感度が不足し十分な補償がで
きないので、放射温度計を検出器（３）の近傍に配設し
、別に温度変化【こ伴う補償回路を設ける必要があり、
構成が複雑となる減点がある。
線源がなくても一応の安定化が図れるが、温度変化）こ
伴う変動Ｉこ対しては検出感度が不足し十分な補償がで
きないので、放射温度計を検出器（３）の近傍に配設し
、別に温度変化【こ伴う補償回路を設ける必要があり、
構成が複雑となる減点がある。
本発明はかかる従来装置の雑煮の解消を目的とし、その
要旨とするところがγ線源から被測定物にγ線を照射し
、その透過γ線または散乱されたγ線をシンチレータで
検出してその強度を測定するように構成されたものＩこ
おいて、上記γ線源から放射されたγ線であってｔ記シ
ンチレータで検出されたパルス信号の光電ピークの基準
位置ｆこ対する変位量を検出する手段と、当該変位量が
常に零となるように上記検出パルスの増幅系の増幅度を
調節する制御手段とを備えた点にあるＲ１計測装置を提
供するものである。
要旨とするところがγ線源から被測定物にγ線を照射し
、その透過γ線または散乱されたγ線をシンチレータで
検出してその強度を測定するように構成されたものＩこ
おいて、上記γ線源から放射されたγ線であってｔ記シ
ンチレータで検出されたパルス信号の光電ピークの基準
位置ｆこ対する変位量を検出する手段と、当該変位量が
常に零となるように上記検出パルスの増幅系の増幅度を
調節する制御手段とを備えた点にあるＲ１計測装置を提
供するものである。
上記構成要素中、光電ピークの変位検出手段は、光電ピ
ークの変位を計数率の変化としてとり出す全ての手段が
含まれる。またパルス信号増幅系の増幅度の調節手段は
、公知の技術手段が全て含まれる。
ークの変位を計数率の変化としてとり出す全ての手段が
含まれる。またパルス信号増幅系の増幅度の調節手段は
、公知の技術手段が全て含まれる。
また測定用の線源にはＣｓ −１８７、Ｃｏ−６０など
のγ線源が適用できる。またＲ１計測装置昏こはγ線密
度計、およびこれと原理を同じくする各種のＲＩ計測装
置全てが含まれる。
のγ線源が適用できる。またＲ１計測装置昏こはγ線密
度計、およびこれと原理を同じくする各種のＲＩ計測装
置全てが含まれる。
以下本発明を具体化した実施例を説明する。
第７図は透過型γ線密度計に適用した実施例の要部の構
成を示す断面図で、□□□は例えばグラウトなどの被測
定流体（１３が流される鋼管、（１４γ）は測定用のγ
線源で放射線検出器（３）は鋼管α４を挾んでγ線源（
１４γ）とシンチレータ（１ンが対向する位置）こ配設
される。なお、シンチレーションカウンタは図示は省略
しているが第１図１こ示したものと同様ｆこ構成されて
いる。第８図は線源（１４γ）であるＣｓ −１３７か
ら放射されるγ線を直接２°βのＮａＩＣＴ（１） の
シンチレータ（１）で検出した場合のパルスアンプ（５
）から出力されるパルス信号の波高分布を示す図で、波
高値を横軸に、計数率を縦軸にとったもので光電ピーク
Ｐ）ｌのＦ Ｗ ＨＭは約８％となる。
成を示す断面図で、□□□は例えばグラウトなどの被測
定流体（１３が流される鋼管、（１４γ）は測定用のγ
線源で放射線検出器（３）は鋼管α４を挾んでγ線源（
１４γ）とシンチレータ（１ンが対向する位置）こ配設
される。なお、シンチレーションカウンタは図示は省略
しているが第１図１こ示したものと同様ｆこ構成されて
いる。第８図は線源（１４γ）であるＣｓ −１３７か
ら放射されるγ線を直接２°βのＮａＩＣＴ（１） の
シンチレータ（１）で検出した場合のパルスアンプ（５
）から出力されるパルス信号の波高分布を示す図で、波
高値を横軸に、計数率を縦軸にとったもので光電ピーク
Ｐ）ｌのＦ Ｗ ＨＭは約８％となる。
第９図はγ線源に１００μＣｉのＣｓ −１３７を適用
し、径１〜２インチの鋼管Ｑ４内１こ流体（１３を流し
ているときの透過γ線を２インチダのＮａ１（Ｔ６）シ
ンチレータで検出した場合のパルス信号の波高分布を示
し、コンプトン効果ｆこよる部分はなだらかな傾斜とな
るが、光電ピークＰＨは、Ｆ Ｗ ＨＭが約１０〜１５
％程度に拡がるものの、十分マーカーとして使用できる
ものが存在する。本実施例はこの透過γ線１こ存在する
光電ピークＰＨをマーカとして使用することによりマー
カ埋込型のシンチレータを用いることなくシンチレーシ
ョンカウンタの安定化を図ったものである。即ち、第９
図に示すように安定状態における充電ピークＰ Ｒの位
置を基準位置とし、その中心値を境界値ＶＣとしてＬ下
向じ幅の弁別電圧ＶｕとＶｌとを設定し、Ｖｌ〜Ｖｃと
Ｖｃ＝Ｖｕのウィンドウをもつディスクリミネーター、
＆ｌＩを設け、各別に通過パルス数を計数する構成とし
たものである。この構成において、被測定流体ａ３の密
度が変化すると、当然に光電ピークの計数率も変化する
が、光電ピークＰ、の位置は変らないのでＬ記制御は正
しく行なわれる。
し、径１〜２インチの鋼管Ｑ４内１こ流体（１３を流し
ているときの透過γ線を２インチダのＮａ１（Ｔ６）シ
ンチレータで検出した場合のパルス信号の波高分布を示
し、コンプトン効果ｆこよる部分はなだらかな傾斜とな
るが、光電ピークＰＨは、Ｆ Ｗ ＨＭが約１０〜１５
％程度に拡がるものの、十分マーカーとして使用できる
ものが存在する。本実施例はこの透過γ線１こ存在する
光電ピークＰＨをマーカとして使用することによりマー
カ埋込型のシンチレータを用いることなくシンチレーシ
ョンカウンタの安定化を図ったものである。即ち、第９
図に示すように安定状態における充電ピークＰ Ｒの位
置を基準位置とし、その中心値を境界値ＶＣとしてＬ下
向じ幅の弁別電圧ＶｕとＶｌとを設定し、Ｖｌ〜Ｖｃと
Ｖｃ＝Ｖｕのウィンドウをもつディスクリミネーター、
＆ｌＩを設け、各別に通過パルス数を計数する構成とし
たものである。この構成において、被測定流体ａ３の密
度が変化すると、当然に光電ピークの計数率も変化する
が、光電ピークＰ、の位置は変らないのでＬ記制御は正
しく行なわれる。
第１０図（ａ）はＬ記実施例ｆζおいて光電ピークＰＨ
の変位によｈ Ｎｕ−ＮＬの値の変化の態様を示す特性
図で、図中のイないしへはそれぞれ同図（ｂ）の０ない
しＯの光電ピークＰＨの変位位置ｆこ対応している。第
１０図（ａ）の特性曲線のイないしホは第４図の特性曲
線に類似しており、基準位置であるハの位置即ち同図（
ｂ）のＯの位置に光電ピークＰＨが収斂するよう■こ作
動し、ＲＩ計測装置の安定化が達成される。
の変位によｈ Ｎｕ−ＮＬの値の変化の態様を示す特性
図で、図中のイないしへはそれぞれ同図（ｂ）の０ない
しＯの光電ピークＰＨの変位位置ｆこ対応している。第
１０図（ａ）の特性曲線のイないしホは第４図の特性曲
線に類似しており、基準位置であるハの位置即ち同図（
ｂ）のＯの位置に光電ピークＰＨが収斂するよう■こ作
動し、ＲＩ計測装置の安定化が達成される。
第１１図は他のフィードバック制御系の例を示すブロッ
ク図で、この例は第１２図に示すように、定常状態にお
ける光電ピークＰＨの半値幅１こ対応する波高値を下側
弁別値Ｖｌとする下側ゲートディスクリミネータ−とＬ
側弁側鎖Ｖｕとする上側ディスクリミネータ−と、下側
計数率計の４）の計数値Ｎｔと１側計数率計−の計数値
Ｎｕとの割算Ｎｕ ／ ＮＬを行う割算器ａ５と、光電
ピークＰＨが基準−位置蚤こあるときの割算値を基準値
としてＮｕ／ＮＬが基準値となるように高圧電源（４）
又はパルスアンプ（５）などのパルス信号増幅系の増幅
度が常に一定ｔコなるように制御する制御回路αＧとで
フィードバック制御系を構成する。第１３図は光電ピー
クＰＨの変位と割算値との関係を示す特性図で、図中の
イないしへは、それぞれ第８図（ｂ）の０ないし０の変
位に対応する。この実施例においても第７図に示した実
施例と同様の効果が得られることは明らかである。
ク図で、この例は第１２図に示すように、定常状態にお
ける光電ピークＰＨの半値幅１こ対応する波高値を下側
弁別値Ｖｌとする下側ゲートディスクリミネータ−とＬ
側弁側鎖Ｖｕとする上側ディスクリミネータ−と、下側
計数率計の４）の計数値Ｎｔと１側計数率計−の計数値
Ｎｕとの割算Ｎｕ ／ ＮＬを行う割算器ａ５と、光電
ピークＰＨが基準−位置蚤こあるときの割算値を基準値
としてＮｕ／ＮＬが基準値となるように高圧電源（４）
又はパルスアンプ（５）などのパルス信号増幅系の増幅
度が常に一定ｔコなるように制御する制御回路αＧとで
フィードバック制御系を構成する。第１３図は光電ピー
クＰＨの変位と割算値との関係を示す特性図で、図中の
イないしへは、それぞれ第８図（ｂ）の０ないし０の変
位に対応する。この実施例においても第７図に示した実
施例と同様の効果が得られることは明らかである。
第１４図はγ線反射型密度計に適用した実施例の要部の
断面図で、γ線源（１４γ）を検出器（３）と同じ側に
配設し、シンチレータ（１）との間にシールド（１１９
を配設するとともｆこ、シールド（７）に透孔０呻を形
成し、マーカ用のγ線を直接シンチレータ（１）に入射
させて反射γ線とともにシンチレータ（１）で検出し、
第１６図に破線で示した直接入射γ線による光電ピーク
Ｍ−ＰＨを用いて安定化を図る構成としだものである。
断面図で、γ線源（１４γ）を検出器（３）と同じ側に
配設し、シンチレータ（１）との間にシールド（１１９
を配設するとともｆこ、シールド（７）に透孔０呻を形
成し、マーカ用のγ線を直接シンチレータ（１）に入射
させて反射γ線とともにシンチレータ（１）で検出し、
第１６図に破線で示した直接入射γ線による光電ピーク
Ｍ−ＰＨを用いて安定化を図る構成としだものである。
この実施例ではマーカ用のγ線源を別に設けることなく
シャープな光電ピークＭ−ＰＨが得られルノテマーカ用
α線源（１１α）をシンチレータ（１） ｌζ埋設した
ものと同様の安定化を図ることができる。
シャープな光電ピークＭ−ＰＨが得られルノテマーカ用
α線源（１１α）をシンチレータ（１） ｌζ埋設した
ものと同様の安定化を図ることができる。
第１５図はγ線反射型密度計に適用した他の実施例の要
部の断面図で、マーカ用γ線源（２０γ）をシンチレー
タ（１）の近傍に配設せる構成としたもので、マーカ用
γ線源（２０γ）からシンチレータ（１）に入射するγ
線の光電ピークＭ−１）Ｈ（第１６図ｔこ示す）を用い
る第１図に示した従来装置と同様１こ安定化がし４れ１
．シンチレータの取扱いも埋込型のような取扱いしの困
難性が解消される効果がある。
部の断面図で、マーカ用γ線源（２０γ）をシンチレー
タ（１）の近傍に配設せる構成としたもので、マーカ用
γ線源（２０γ）からシンチレータ（１）に入射するγ
線の光電ピークＭ−１）Ｈ（第１６図ｔこ示す）を用い
る第１図に示した従来装置と同様１こ安定化がし４れ１
．シンチレータの取扱いも埋込型のような取扱いしの困
難性が解消される効果がある。
本発明は以上説明したよう）こ、γ線源から被測定物に
γ線を照射し、その透過γ線または散乱されたγ線をシ
ンチレータで検出してその強度を測定するように構成さ
れたものにおいて、上記γ線源から放射されたγ線であ
って上記シンチレータで検出されたパルス信号の光電ピ
ークの基準位置に対する変位量を検出する手段と、当該
変位量が常に零となるように上記検出パルスの増幅系の
増幅度を調節する制御手段とを備えたことを特徴とする
ＲＩ計測装置であるから、マーカ用のα線源を埋込んだ
シンチレータを用いることなく汎用性のある普通のシン
チレータを用いて原理的）こも誤差要因が完全に補償さ
れた安定性のあるＲＩ計測装置を構ルーすることかでき
る。
γ線を照射し、その透過γ線または散乱されたγ線をシ
ンチレータで検出してその強度を測定するように構成さ
れたものにおいて、上記γ線源から放射されたγ線であ
って上記シンチレータで検出されたパルス信号の光電ピ
ークの基準位置に対する変位量を検出する手段と、当該
変位量が常に零となるように上記検出パルスの増幅系の
増幅度を調節する制御手段とを備えたことを特徴とする
ＲＩ計測装置であるから、マーカ用のα線源を埋込んだ
シンチレータを用いることなく汎用性のある普通のシン
チレータを用いて原理的）こも誤差要因が完全に補償さ
れた安定性のあるＲＩ計測装置を構ルーすることかでき
る。
第１図は従来のマーカ用線源を用いた安定化シンチレー
ションカウンタの構成を示すブロック図、第２図はマー
カ用γ線源（Ａｍ−２４１）の光電ピークとと、下ウイ
ンドウディスクリミオータの弁別値の関係を示す図、第
３図（ａ） 、 （＋）） 、（ｃ）は光電ピークの変
位と計数値の変化関係を示す図、第４図は光電ピークの
変位と引算器の出力値の関係を示す特性図、第５図はマ
ーカ用の線源を用いないで安定化を図った従来例の構成
を示すブロック図、第６図はそのパルス波高分布と、デ
ィスクリミネータの弁別電圧との関係を示す図、第７図
は本発明の一実施例であるγ線透過型密度計の要部の構
成を示す断面図、第８図はＣｓ −１８７から放射され
たγ線をＮａＩ（Ｔｌ）シンチレータで直接検出したと
きのパルス波高の分布特性を示す図、第９図は同じく透
過γ線のパルス波高の分布特性を示す図、第１０図（ａ
）は透過γ線検出パルスの光電ピークの変位と引算器の
出力値との関係を示す特性図、第１０図（ｂ）は第１０
図（ａ）中のイないしへの値に対応する光電ピークの変
位位置を示す図、第１１図は安定化シンチレータの他の
構成例を示すブロック図、第１２図は第１１図の構成例
における透過γ線の検出パルス波高の分布と、上、下側
ディスクリミネータの弁別値との関係を示す図、第１８
図は第１１図の構成例における光電ピークの変化と割算
器の出力値との関係を示す図、第１４図及び第１５図は
それぞれγ線反射型密度計に適用した実施例の要部の構
成を示す４１面図、第１６図はそのシンチレータの検出
パルス信号の波高分布を示す図である。 符号の説明 （１ン、←→〒←→・・・シンチレータ、（２）・・・
光電子倍増・・・引算器、（１０，αＱ・・・制御回路
、（１１α）・・・マーカ用α線源、（２）・・・鋼管
、α罎・・・被測定流体、（１４γ）、 （１４ｎ）・
・・測定用線源、ｒｍ・・・割算器、（至）・・・シー
ルド、θト・・透孔、（２０γ）・・・マーカ用γ線源
。 特許出願人 アースニクス株式会社 第１図 第２図 第４図 第３図 （ｏｌ ｉｂｌ ｆＣ１ 第５図 第６図 ｖａ Ｖυ ハ０ル石反尚 第７図 第８図 第１１図 第１２図 第１３図
ションカウンタの構成を示すブロック図、第２図はマー
カ用γ線源（Ａｍ−２４１）の光電ピークとと、下ウイ
ンドウディスクリミオータの弁別値の関係を示す図、第
３図（ａ） 、 （＋）） 、（ｃ）は光電ピークの変
位と計数値の変化関係を示す図、第４図は光電ピークの
変位と引算器の出力値の関係を示す特性図、第５図はマ
ーカ用の線源を用いないで安定化を図った従来例の構成
を示すブロック図、第６図はそのパルス波高分布と、デ
ィスクリミネータの弁別電圧との関係を示す図、第７図
は本発明の一実施例であるγ線透過型密度計の要部の構
成を示す断面図、第８図はＣｓ −１８７から放射され
たγ線をＮａＩ（Ｔｌ）シンチレータで直接検出したと
きのパルス波高の分布特性を示す図、第９図は同じく透
過γ線のパルス波高の分布特性を示す図、第１０図（ａ
）は透過γ線検出パルスの光電ピークの変位と引算器の
出力値との関係を示す特性図、第１０図（ｂ）は第１０
図（ａ）中のイないしへの値に対応する光電ピークの変
位位置を示す図、第１１図は安定化シンチレータの他の
構成例を示すブロック図、第１２図は第１１図の構成例
における透過γ線の検出パルス波高の分布と、上、下側
ディスクリミネータの弁別値との関係を示す図、第１８
図は第１１図の構成例における光電ピークの変化と割算
器の出力値との関係を示す図、第１４図及び第１５図は
それぞれγ線反射型密度計に適用した実施例の要部の構
成を示す４１面図、第１６図はそのシンチレータの検出
パルス信号の波高分布を示す図である。 符号の説明 （１ン、←→〒←→・・・シンチレータ、（２）・・・
光電子倍増・・・引算器、（１０，αＱ・・・制御回路
、（１１α）・・・マーカ用α線源、（２）・・・鋼管
、α罎・・・被測定流体、（１４γ）、 （１４ｎ）・
・・測定用線源、ｒｍ・・・割算器、（至）・・・シー
ルド、θト・・透孔、（２０γ）・・・マーカ用γ線源
。 特許出願人 アースニクス株式会社 第１図 第２図 第４図 第３図 （ｏｌ ｉｂｌ ｆＣ１ 第５図 第６図 ｖａ Ｖυ ハ０ル石反尚 第７図 第８図 第１１図 第１２図 第１３図
Claims (1)
- （１）γ線源から被測定物１こγ線を照射し、その透過
γ線才たは散乱されたγ線をシンチレータで検出してそ
の強度を測定するように構成されたもの］こおいて、Ｊ
１記γ線源から放射されたγ線であってと記シンチレー
タで検出されたパルス信号の光電ピークの基準位置に対
する変位量を検出する手段と、当該変位皐が常に零とな
るよう１こ上記検出パルスの増幅系の増幅度を調節する
制御手段とを備えたことを特へとするＲＩ計測装置１（
２）反射型γ線密度計］こおいて、γ線源とシンチレー
タとの間をしやへいするシールドにコリメータ用の透孔
を設け、該コリメータをとおして直接入射するγ線によ
る光電ピークを用いて制御する構成としたことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のＲ１計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312884A JPS60177286A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | Ｒｉ計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312884A JPS60177286A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | Ｒｉ計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177286A true JPS60177286A (ja) | 1985-09-11 |
Family
ID=12377970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3312884A Pending JPS60177286A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | Ｒｉ計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60177286A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023057871A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | キヤノン株式会社 | 医用画像処理装置、医用画像処理方法およびプログラム |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4518235Y1 (ja) * | 1967-07-27 | 1970-07-24 | ||
| JPS545484A (en) * | 1977-06-14 | 1979-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | Checking device of radiation monitor |
| JPS5727416A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-13 | Tohoku Metal Ind Ltd | Magnetic head and its production |
| JPS5821149A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-07 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Ｘ線分析装置用波高値安定化回路 |
-
1984
- 1984-02-22 JP JP3312884A patent/JPS60177286A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4518235Y1 (ja) * | 1967-07-27 | 1970-07-24 | ||
| JPS545484A (en) * | 1977-06-14 | 1979-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | Checking device of radiation monitor |
| JPS5727416A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-13 | Tohoku Metal Ind Ltd | Magnetic head and its production |
| JPS5821149A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-07 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Ｘ線分析装置用波高値安定化回路 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023057871A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | キヤノン株式会社 | 医用画像処理装置、医用画像処理方法およびプログラム |
| JP2024097880A (ja) * | 2021-10-12 | 2024-07-19 | キヤノン株式会社 | 医用画像処理装置、医用画像処理方法およびプログラム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6122266B2 (ja) | ||
| EP3637147A1 (en) | Gain correction apparatus and method for scintillation detector | |
| US4899054A (en) | Gamma camera with image uniformity by energy correction offsets | |
| GB1145713A (en) | Method and apparatus for counting standardization in scintillation spectrometry | |
| JPH0274890A (ja) | 結合型シンチレータ | |
| US4415237A (en) | Radiation dosimeter | |
| JPS585387A (ja) | シンチレ−タ−物質 | |
| JPH03123881A (ja) | γ線核種分析方法及び装置 | |
| US4295045A (en) | Background compensation type plutonium air monitor | |
| Spejewski | Beta-spectrum shape measurements with a 4π semiconductor spectrometer | |
| US3008045A (en) | Neutron detection | |
| JP2002006055A (ja) | 放射線測定方法および装置 | |
| JPH0672075U (ja) | Ｒｉ計測装置 | |
| JPH0377473B2 (ja) | ||
| Fitzgerald et al. | Liquid-scintillation-based anticoincidence counting of Co-60 and Pb-210 | |
| Hendel et al. | Collimated ZnS (Ag)‐detector array for Tokamak Fusion Test Reactor neutron source strength radial profile measurements | |
| Horn et al. | Suppression of background radiation in BGO and NaI detectors used in nuclear reaction analysis | |
| JPH033198B2 (ja) | ||
| KR101192175B1 (ko) | 감마선 섬광 계수기의 에너지 교정 방법 | |
| Chastel et al. | A convenient calibration technique for neutron detectors | |
| Govil et al. | Half-life of the first excited state of I129 | |
| Maddox et al. | A one-dimensionally position-sensitive scintillation detector | |
| JPH058795B2 (ja) | ||
| JP3063488B2 (ja) | γ線レベル計 | |
| JPH06103348B2 (ja) | 地表での地叢亀裂位置の携帯用測定装置 |