JPS60177666A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS60177666A JPS60177666A JP59032433A JP3243384A JPS60177666A JP S60177666 A JPS60177666 A JP S60177666A JP 59032433 A JP59032433 A JP 59032433A JP 3243384 A JP3243384 A JP 3243384A JP S60177666 A JPS60177666 A JP S60177666A
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- JP
- Japan
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- wire
- weight
- aluminum
- ball
- bonding
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/551—Materials of bond wires
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- H10W72/5524—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising aluminium [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は半導体装置、特に、アルミニウム(A1)また
はアルミニウム合金のワイヤを用いてなる半導体装置に
適用して効果のある技術に関するものである。
はアルミニウム合金のワイヤを用いてなる半導体装置に
適用して効果のある技術に関するものである。
半導体装置用のボンディングワイヤとしては金(Au
)またはアルミニウム(lt)を用いることが考えられ
る。
)またはアルミニウム(lt)を用いることが考えられ
る。
そのうち、金ワイヤは耐食性が良好である等の利点を有
するが、コストが非常に高くつくという問題がある。
するが、コストが非常に高くつくという問題がある。
一方、アルミニウムワイヤはコストは安い反面、耐食性
が悪く、特に、いわゆるレジンモールド型パッケージに
適用した場合、ワイヤの腐食を起こし、信頼性が低下し
てしまうという問題がある。
が悪く、特に、いわゆるレジンモールド型パッケージに
適用した場合、ワイヤの腐食を起こし、信頼性が低下し
てしまうという問題がある。
ところで、アルミニウムワイヤのボンディングを行う場
合、アルミニウムワイヤの先端に電気トーチ等でボール
を形成してボールポンディングすることが知られている
(特開1@51−140567号公報)、。
合、アルミニウムワイヤの先端に電気トーチ等でボール
を形成してボールポンディングすることが知られている
(特開1@51−140567号公報)、。
しかしながら、このようなアルミニウムワイヤのボール
ボンディングを行うにあたっては1%にペレットのポン
ディングパッド側においてボンディングワイヤの剥がれ
が発生し、ボンディング性能が低)するという問題があ
ることが本発明者によって見い出された。
ボンディングを行うにあたっては1%にペレットのポン
ディングパッド側においてボンディングワイヤの剥がれ
が発生し、ボンディング性能が低)するという問題があ
ることが本発明者によって見い出された。
そこで、本発明者が鋭意研究したところ、アルミニウム
ワイヤにボール部を形成する際のボールの硬さがボンデ
ィング性に大きな影響を及ぼすことが解明されたうすな
わち、アルミニウムボールの形成時に、形成されたボー
ルがアニールによって軟らか(なり過ぎると、ポンディ
ングパッドのアルミニウム膜とアルミニウムワイヤのボ
ール部とをたとえば超音波ボンディングする際に超音波
エネルギーがボンディング部に十分に作用せず、アルミ
ニウムの表面エネルギー状態の活性な面が出ないためボ
ンディングワイヤの剥がれが発生することが本発明者に
より明らかとされた。
ワイヤにボール部を形成する際のボールの硬さがボンデ
ィング性に大きな影響を及ぼすことが解明されたうすな
わち、アルミニウムボールの形成時に、形成されたボー
ルがアニールによって軟らか(なり過ぎると、ポンディ
ングパッドのアルミニウム膜とアルミニウムワイヤのボ
ール部とをたとえば超音波ボンディングする際に超音波
エネルギーがボンディング部に十分に作用せず、アルミ
ニウムの表面エネルギー状態の活性な面が出ないためボ
ンディングワイヤの剥がれが発生することが本発明者に
より明らかとされた。
一方、アルミニウムボールの硬度が大き過ぎると、ボン
ディング時の力によってアルミニウムパッドの下層のシ
リコン層あるいは二酸化シリコン層等に大きな応力が発
生し、これらの層にクラック等のボンディングダメージ
を生じる等の問題が起こることを本発明者は見い出した
。
ディング時の力によってアルミニウムパッドの下層のシ
リコン層あるいは二酸化シリコン層等に大きな応力が発
生し、これらの層にクラック等のボンディングダメージ
を生じる等の問題が起こることを本発明者は見い出した
。
さらに、前述の知見に基づいて検討を重ねた結果1本発
明者はアルミニウムワイヤの腐食を有効に防止しつつ、
ボールポンディングを好適に行い得るアルミニウムワイ
ヤの組成を発見した。
明者はアルミニウムワイヤの腐食を有効に防止しつつ、
ボールポンディングを好適に行い得るアルミニウムワイ
ヤの組成を発見した。
本発明の目的は、腐食を防止したアルミニウム合金を用
いたワイヤでボールポンディングする際にボール部の硬
さを最適範囲とし、良好なボンディング性能を得ること
のできる技術を提供することにある。
いたワイヤでボールポンディングする際にボール部の硬
さを最適範囲とし、良好なボンディング性能を得ること
のできる技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、腐食を防止しかつボールボンディ
ングを最適に行うことのできる組成よりなるアルミニウ
ムワイヤを用いる技術を提供することにある。
ングを最適に行うことのできる組成よりなるアルミニウ
ムワイヤを用いる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は1本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、アルミニウム系ワイヤがニッケルを含有しか
つボール部のビッカース強度が35〜45であることに
より、前記目的を達成することができるものである。
つボール部のビッカース強度が35〜45であることに
より、前記目的を達成することができるものである。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の断面図で
ある。
ある。
本実施例の半導体装置は、たとえば4270イまだ社鋼
合金等よりなるタブ1上に、シリコン(Si)等のベレ
ット2を金−シリコン共晶等で取り付ケ、そのベレット
2のポンディングパッド(電極)とリードのインナーリ
ード部3(外部導電部)とをワイヤ4で電気的に接続し
、−リードフレームのアウターリード部5を除いて樹脂
6で封止したデュアルインライン型の樹脂封止パッケー
ジ構造よりなる。
合金等よりなるタブ1上に、シリコン(Si)等のベレ
ット2を金−シリコン共晶等で取り付ケ、そのベレット
2のポンディングパッド(電極)とリードのインナーリ
ード部3(外部導電部)とをワイヤ4で電気的に接続し
、−リードフレームのアウターリード部5を除いて樹脂
6で封止したデュアルインライン型の樹脂封止パッケー
ジ構造よりなる。
ワイヤ4はペレット2のポンディングパッド(電極)等
にボンディングする際に接合強度を十分大きくシ、かつ
ボンディングダメージを起こすことを防止するために最
適な材料組成およびビッカース硬度を有するように構成
されている口すなわち1本実施例のワイヤ4は第2図に
示すように、ボールボンディング時のボールのビッカー
ス硬度(HV)が35〜45の範囲内となるように選ば
れている。
にボンディングする際に接合強度を十分大きくシ、かつ
ボンディングダメージを起こすことを防止するために最
適な材料組成およびビッカース硬度を有するように構成
されている口すなわち1本実施例のワイヤ4は第2図に
示すように、ボールボンディング時のボールのビッカー
ス硬度(HV)が35〜45の範囲内となるように選ば
れている。
本発明者がアルミニウムボール部6aの硬度と。
ボンディングワイヤ6とアルミニウムパッド5との間の
剥がれ発生率(X )およびアルミニウムパッド5下の
二酸化シリコン層12にクラックの発生するボンディン
グダメージ発生率(%)との関係について実験を重ねた
ところ、第3図に示すような結果が得られた。
剥がれ発生率(X )およびアルミニウムパッド5下の
二酸化シリコン層12にクラックの発生するボンディン
グダメージ発生率(%)との関係について実験を重ねた
ところ、第3図に示すような結果が得られた。
第3図から明らかなように、ボンディング不良の発生率
として許容できる値が約10%であることを考えると、
ビッカース硬度が約30以下では剥がれ発生率(×印で
示す)が高く、またボンディングダメージの発生率(○
印で示す)はビッカース硬度が約50以上は高い。特に
、最適範囲としてはビッカース硬度が約50以上は高い
。特に。
として許容できる値が約10%であることを考えると、
ビッカース硬度が約30以下では剥がれ発生率(×印で
示す)が高く、またボンディングダメージの発生率(○
印で示す)はビッカース硬度が約50以上は高い。特に
、最適範囲としてはビッカース硬度が約50以上は高い
。特に。
最適範囲としてはビッカース硬度35〜45の範囲が選
定される。
定される。
また1本発明者がこのような最適範囲のビッカース硬度
を得ることのできるワイヤの材料の組成を得るために同
一条件で多(の実験を行ったところ第2図のような結果
が得られた。
を得ることのできるワイヤの材料の組成を得るために同
一条件で多(の実験を行ったところ第2図のような結果
が得られた。
第2図において、縦軸にはビッカース硬度を。
横軸には各材料の組成を示している。各材料のビッカー
ス硬度は、たとえばA!は28というように示されてい
る。また、「0.5%N1−AIJは0.5重量%のN
iを含むA1からなるワイヤを示す。
ス硬度は、たとえばA!は28というように示されてい
る。また、「0.5%N1−AIJは0.5重量%のN
iを含むA1からなるワイヤを示す。
このような最適硬度範囲内に入るワイヤ4の材料組成と
しては様々なものがあるが、最も良好なポールホンディ
ングが可能なアルミニウム合金ワイヤの組成例としては
、1.0重量%のニッケルと0.5重量%のマンガン(
M n )とを含有するもの。
しては様々なものがあるが、最も良好なポールホンディ
ングが可能なアルミニウム合金ワイヤの組成例としては
、1.0重量%のニッケルと0.5重量%のマンガン(
M n )とを含有するもの。
1.0重量%のニッケルと1.0重量%のマンガンとを
含有するもの、0.5重量%のニッケルと1.031i
量%のマンガンとを含有するもの、l、7重量%のマグ
ネシウム(MJ+)と0.3〜0.Si量%ノニッケル
と0.3%の鉄とを含有するもの、2重量%のニッケル
と1.0〜2.0重量%のシリコン(Si)とを含有す
るもの1等が示される。
含有するもの、0.5重量%のニッケルと1.031i
量%のマンガンとを含有するもの、l、7重量%のマグ
ネシウム(MJ+)と0.3〜0.Si量%ノニッケル
と0.3%の鉄とを含有するもの、2重量%のニッケル
と1.0〜2.0重量%のシリコン(Si)とを含有す
るもの1等が示される。
本実施例のワイヤ4はニッケルを含有することが1つの
特徴であり、ニッケルをワイヤ中に含有させたことによ
りアルミニウムを主成分とするワイヤ4の耐食性を著し
く向上させることができる。
特徴であり、ニッケルをワイヤ中に含有させたことによ
りアルミニウムを主成分とするワイヤ4の耐食性を著し
く向上させることができる。
ワイヤ4はアルミニウムを主成分とし、その中忙0.0
3重量%以上、より好ましくは0.075ii%以上の
ニッケルを含有させたものが用いられる。
3重量%以上、より好ましくは0.075ii%以上の
ニッケルを含有させたものが用いられる。
したがって、アルミニウムを主成分とするワイヤ中にニ
ッケルを適当量含有させることにより。
ッケルを適当量含有させることにより。
耐食性が良好でボンディングにも好都合なワイヤを得る
ことができるものである。
ことができるものである。
アルミニウムワイヤ中にニッケルを含有させることによ
り耐食性を向上させることができる理由は次のとおりで
ある。代表的な耐食性の試験方法であるM I L 8
83 B等の高温高湿試験において。
り耐食性を向上させることができる理由は次のとおりで
ある。代表的な耐食性の試験方法であるM I L 8
83 B等の高温高湿試験において。
水分I(!0の水素(は原子状水素Hとなる。原子状水
1Hけ小さいため、アルミニウムの結晶粒界に容易に浸
入する。原子状水素Hが反応し合いガス状水素H,と1
ぶると体積が膨張し結晶粒界を押し拡げる。この押し拡
げられた結晶粒界から腐食が進行する。一方、ニッケル
を含むアルミニウムワイヤにおいては、アルミニウムの
結晶粒内に含まれるニッケルの紗媒作用によって、原子
状水素Hの結合反応が促進される。この結果、原子状水
単Hはアルミニウムの結晶粒界に浸入することなく。
1Hけ小さいため、アルミニウムの結晶粒界に容易に浸
入する。原子状水素Hが反応し合いガス状水素H,と1
ぶると体積が膨張し結晶粒界を押し拡げる。この押し拡
げられた結晶粒界から腐食が進行する。一方、ニッケル
を含むアルミニウムワイヤにおいては、アルミニウムの
結晶粒内に含まれるニッケルの紗媒作用によって、原子
状水素Hの結合反応が促進される。この結果、原子状水
単Hはアルミニウムの結晶粒界に浸入することなく。
アルきニウムの表面でガス状水素H1となる。
本発明者がこれらの実験結果を検討し1こ結果2耐食性
の改善には主としてNiが寄与し、硬度の調整には主と
してMl 、Mn + S iがを与していることがわ
かった。また、N轟はPJIg等による硬度調整の効果
を損うことはなく、逆にMl等がNiによる耐食性の向
上を妨げることもないことがわかった。また、NiとM
P、MINと81はA!の中で同時に安定して存在し、
ワイヤの機械的、′rli、気的特性を損うことはない
ことがわかった。
の改善には主としてNiが寄与し、硬度の調整には主と
してMl 、Mn + S iがを与していることがわ
かった。また、N轟はPJIg等による硬度調整の効果
を損うことはなく、逆にMl等がNiによる耐食性の向
上を妨げることもないことがわかった。また、NiとM
P、MINと81はA!の中で同時に安定して存在し、
ワイヤの機械的、′rli、気的特性を損うことはない
ことがわかった。
+ l) アルミニウムワイヤがニッケルを含有しかつ
そのボール部のビッカース硬度が35〜45であること
により、ワイヤの耐食性を向上させることができる上に
、ワイヤの接合強度を十分に確保しかつりぶれ淑ぎやポ
ンディングパッドに対するダメージを防止することがで
き、信頼性が向上する。
そのボール部のビッカース硬度が35〜45であること
により、ワイヤの耐食性を向上させることができる上に
、ワイヤの接合強度を十分に確保しかつりぶれ淑ぎやポ
ンディングパッドに対するダメージを防止することがで
き、信頼性が向上する。
(2) ワイヤがアルミニウムを主成分とすることによ
り金ワイヤに比べてコストを大巾に低減できる。
り金ワイヤに比べてコストを大巾に低減できる。
(31アルミニウムを主成分とするワイヤのボールポン
ディングを安定して容易に行うことができ。
ディングを安定して容易に行うことができ。
アルミニウム系ワイヤの利点の1つである低コスト性を
活かすことが可能となる。
活かすことが可能となる。
(4) 前記(1)のボール硬度によりアルミニウムを
主成分とするワイヤの加工を容易にすることができる。
主成分とするワイヤの加工を容易にすることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、ワイヤの材料組成は前記したものに限定され
るものではな(、他の様々な組成のものを用いることが
できる。
るものではな(、他の様々な組成のものを用いることが
できる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である樹脂封止型半導体装
置に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、たとえば。
をその背景となった利用分野である樹脂封止型半導体装
置に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、たとえば。
サーディツプ型、積層セラミック型、セラミックチップ
キャリアを等、アルミニウムを主成分とするワイヤを用
いるものであれは、各種パッケージよりなる半導体装置
に広く適用できる。
キャリアを等、アルミニウムを主成分とするワイヤを用
いるものであれは、各種パッケージよりなる半導体装置
に広く適用できる。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の断面図。
第2図は本発明におけるワイヤのボール部のビッカース
硬度を示す図。 第3図はビッカース硬度とボンディング不良の関係を示
す図である。 l・・・タブ、2・・・ペレット、3・・・インナーリ
ード部(外部導電部)、4・・・ワイヤ、5・・・アウ
ターリード部、6・・・樹脂。 第 1 1i’21 第 3 図 〔゛・・/η−)碑ご(H1〕
硬度を示す図。 第3図はビッカース硬度とボンディング不良の関係を示
す図である。 l・・・タブ、2・・・ペレット、3・・・インナーリ
ード部(外部導電部)、4・・・ワイヤ、5・・・アウ
ターリード部、6・・・樹脂。 第 1 1i’21 第 3 図 〔゛・・/η−)碑ご(H1〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、アルミニウム系のワイヤを用いてベレットと外部導
電部とを接続してなる半導体装置において、ワイヤか一
ニッケルを含有しかつボール部のビッカース硬度が35
〜45であることを特徴とする半導体装置。 2 ワイヤが1.0重量%のニッケルと、0.5ff量
%のマンガンとを含有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体装置。 3、ワイヤが1.0重量%のニッケルと、1.0重量2
のマンガンとを含有することを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体装置。 4、 ワイヤが0.5重量%のニッケルと、1.0重量
%のマンガンとを含有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体装置。 5、 ワイヤが1.7重量%のマグネシウムと、0.5
重量%のニッケルと、0.5重量%の鉄とを含有するこ
とを特徴とする特許請求の範曲第1項記載の半導体装置
。 6、ワイヤが2重量%のニッケルと、2重量%のシリコ
ンとを含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体装置。 7、 ワイヤが2重量%のニッケルと、1重量%のシリ
コンとを含有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の半導体装置。
Priority Applications (18)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59032433A JPS60177666A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 半導体装置 |
| FR848419868A FR2566182B1 (fr) | 1984-02-24 | 1984-12-27 | Dispositif a semiconducteurs |
| KR1019850000972A KR850006648A (ko) | 1984-02-24 | 1985-02-16 | 반도체장치 |
| IT19571/85A IT1183375B (it) | 1984-02-24 | 1985-02-20 | Dispositivo a semiconduttori comprendente una pallina, fili conduttori e porzioni conduttrici esterneche sono collegate alla pallina mediante tali fili conduttori |
| GB08803056A GB2199846B (en) | 1984-02-24 | 1985-02-22 | Semiconductor device |
| GB08803057A GB2200135B (en) | 1984-02-24 | 1985-02-22 | Semiconductor device |
| DE19853506264 DE3506264A1 (de) | 1984-02-24 | 1985-02-22 | Halbleitervorrichtung |
| GB08504656A GB2155036B (en) | 1984-02-24 | 1985-02-22 | Semiconductor device |
| FR8506995A FR2561446B1 (fr) | 1984-02-24 | 1985-05-09 | Fils de connexion d'une pastille semiconductrice,notamment encapsulee sous resine |
| FR858506994A FR2561445B1 (fr) | 1984-02-24 | 1985-05-09 | Fils de connexion d'une pastille semi-conductrice, notamment encapsulee sous resine |
| US07/067,969 US4845543A (en) | 1983-09-28 | 1987-06-29 | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| MYPI87001951A MY101028A (en) | 1984-02-24 | 1987-09-25 | Semiconductor device |
| SG82890A SG82890G (en) | 1984-02-24 | 1990-10-11 | Semiconductor device |
| SG827/90A SG82790G (en) | 1984-02-24 | 1990-10-11 | Semiconductor device |
| SG82290A SG82290G (en) | 1984-02-24 | 1990-10-11 | Semiconductor device |
| HK951/90A HK95190A (en) | 1984-02-24 | 1990-11-15 | Semiconductor device |
| HK949/90A HK94990A (en) | 1984-02-24 | 1990-11-15 | Semiconductor device |
| HK950/90A HK95090A (en) | 1984-02-24 | 1990-11-15 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59032433A JPS60177666A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177666A true JPS60177666A (ja) | 1985-09-11 |
Family
ID=12358814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59032433A Pending JPS60177666A (ja) | 1983-09-28 | 1984-02-24 | 半導体装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60177666A (ja) |
| KR (1) | KR850006648A (ja) |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP59032433A patent/JPS60177666A/ja active Pending
-
1985
- 1985-02-16 KR KR1019850000972A patent/KR850006648A/ko not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR850006648A (ko) | 1985-10-14 |
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