JPS60181496A - シ−ルドトンネル工法及び該工法を実施するための装置 - Google Patents

シ−ルドトンネル工法及び該工法を実施するための装置

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JPS60181496A
JPS60181496A JP59021935A JP2193584A JPS60181496A JP S60181496 A JPS60181496 A JP S60181496A JP 59021935 A JP59021935 A JP 59021935A JP 2193584 A JP2193584 A JP 2193584A JP S60181496 A JPS60181496 A JP S60181496A
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JP
Japan
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shield
segment
segments
tunnel
membrane
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JP59021935A
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伸吉 大岡
栄 佐野
恒 喜多島
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Toa Grout Kogyo Co Ltd
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Toa Grout Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシールドトンネル工法によりトンネルを掘削す
るに際し、シールドセグメントの外周を連続して不透水
膜で被覆する工法及び該工法を実施するための装置に関
する。
シールドトンネル工法とは崩壊性の高い土質においてト
ンネル掘削を行うに当って、トンネルタト形よりわずか
に大きい断面を有する「シールド掘進機」と称する強固
な鋼製の殻を地中に掘進させて、その内部で土砂の崩壊
を防ぎなめ;ら安全に掘削伶業やセグメントの組立作朶
を行ってトンネルを築造する工法である。
上記工法を実施するには対象とする土質の種類に対応し
て解、紋型シールド、密閉型シールド塞型シールド等の
機種が存在するが,これらはいずれも111[i進装置
の形式に関するもので,シールドで掘進した後,掘進機
の後方部で,セグメント組立(これはセグメントとして
予め製作されている)を組立て建設するトンネル構造体
を取着く地山を支持するセグメント組立の工事について
は.いずれの工法の場合も共通した方法が採用さ1tて
いる。
このセグメント組立はシールドが掘進する11J.に。
その後方部で既設のセグメントに随時結合されてシール
ドトンネルを形成する工事であるt;、セク゛メントの
組立ては狭いシールド構内で行がわれるため真゛円に組
立てることが困難で、又重力や地圧のためJlil L
潰された状態になり易く、このためセグメントとセグメ
ントのジヨイント部に種々のシール材を使用して組立て
接合しても隙間ができたり、セグメントのズレ、ジヨイ
ント面の凸凹のため、又セグメント運搬時や1組立時の
若干の損傷のため等の各種の条件により隙間の発生する
ことが極めて多い。シールド工法は地下水位下に実施さ
れる場合が多いので、上記の原因からトンネル内に漏水
が発生する。したがって当然の′ことであルカ、この漏
水防止のためセグメントとセグメントとの間の継目をシ
ール材、コーキング材等でシールする方法が採用されて
いるが完全なものではなく、充分注意して施工しても、
施工後漏水が発生するのが実情である。
一方シールド工法においては、シールド掘進機のなかで
セグメントを組立てるためセグメント外征よりもその外
径が若干大きめの掘進機を使用しなければならず、その
ためセグメント外周部に余この空隙は掘進と並行して継
続的に充填材を使用して充填される。この充填材は余纒
り空隙を充填して、掘削部上方の地盤の崩壊や沈下を防
止すると共に地下水がトンネル内へ浸入するのを防止す
るものである。この充填材に至っても時間の経過と共に
固結した充填剤に亀裂が生じたり、充填材が充填時に地
下水等により希釈を受けたりすることにより空隙を完全
に充填するには至らず、或いは充填時に充填材が他に漏
洩して周辺地下水の環境を損う恐れもある。又充填材の
注入量は、地盤の柔軟部に集中したり、希釈されたり或
いは流亡したりするため空隙を充填するのに必袂な量を
注入すれば良いというものではなく、空隙容積の180
%〜400%という莫大な量を使用しなければならない
のが現状である。
以上のようにシールド工法によりトンネルを築造した場
合上記のように大きな問題点がある。
本発明者等はトンネル内外への漏水防止の完全化及び充
填材使用量の適正化を目的として鋭意検討の結果1本発
明に到達したものであって1本発明の要旨とするところ
はシールドトンネル工法のトンネル築造において、シー
ルド掘進機械の後方部でセグメントを組立て、既に組立
てられたセグメントに新設セグメントを連続して結合す
るに際構築するセグメント外周に不透水膜を連続的に被
コすることを特徴とするシールドトンネル工法。
並びにシールド掘進機のスキンプレート内周面に不透水
膜を圧縮して格納する格納装置を設置した。
シールドトンネル工法を実施するための装置に存する。
以下本発明蜘よる工法並びに装置を添附の図面に基いて
説明する。
第1図は本発明工法の1例を説明するための本発明に係
るシールドにょる掘進方向の断面要部図である。
第1図においてシールドの掘進機部lは矢印方向へ掘進
されるが、掘進機部1の後方部のスキンプレー・ト2の
内周に不透水膜5を引出し延伸可能な状態で圧縮し格納
するための膜格納装置哀かリング状に設けられ、該装置
に不透水膜5(この不透性膜の材質は柔軟性、展性、延
性の点から合成樹脂が良く、経済性の点から塩ビが好−
1: L < 、かつ膜はトンネル内に地下水等の侵入
を防止するため円形に設けられたセグメント外周を被覆
するものであるから円筒状に成形又は加工したものであ
ることが好ましく、又その厚みは各種条件によって適宜
決定される)が圧縮して保管されている。
なお、−膜の圧縮保管の形態は蛇腹状、ロール状。
折りたたみ状など、いずれにしても圧縮した状態であれ
ばよい。 □ 又膜イ6納装置4の内側には複数個の推進ジヤツキ3が
リング状に附設されているが(2個のみIA示)、これ
ら推進ジヤツキ3の軸はシールドの長手方向軸線と平行
に設けられ、セグメント6カll+11立てられ真円状
となったセグメント部を既設のセグメント7に押圧する
作用及びセグメントを押圧する反力により掘進機部1を
前進させる作用をする。このジヤツキの作動はシールド
内に設置された液圧ポンプ等により駆動される。
図の状態はジヤツキ3が新しく組立てられた真円状のラ
イニング部を押圧する状態を示すものであるが、ジャツ
ギロッド3′がライニング部を抑圧するに従いその反力
で掘進機部1は前進し、それと共に膜格納装置4も前進
するので膜5は引き出されて延伸され、スキン、乙レー
ト2の内周に敷設される。第21メ1は推進ジャツギ3
0ロンド3′紗:う、イニングをJIIIIi、してシ
ールド全体妙; +′JU進し、膜格納装置4より膜5
が引出されてスキンプレート2の内周に敷設された状態
を示°す。1模5が敷設されると新しいセグメントb;
、膜の内側内面に真円状に組立てられ1次いで推進ジヤ
ツキ3により、既・設のセグメント部に押圧結合されて
、膜で被覆した状態の新しいセグメント部tI描成され
る。したがってこの作業を繰返すことにより、セグメン
ト部の外周は連続して不透水膜で被覆された状態でも′
4成されることになる。新しψ膜の補充の際には1漠を
連続させるため、新しい膜は使用中の膜の端部に熱によ
る溶着か、接着剤により接着されるか。
単に端部をオーバラップさせるようにしても良い。
新しいセグメント部)!l’ 411成されるとセグメ
ントに設けられた充填孔8を介してポンプ等により充填
で充分で、従来に比しその量が大幅に低下する。
かつ地下水の侵入による充填拐の流出又は希釈がないの
で充分に充填拐としての機能を果すことができる。
第3図は本発明による工法を実施するための不透水膜を
セグメント管路壁体に被覆する主要部を示す部分縦断面
図であり、4は掘進機(図示せず)後端部に位置するジ
ヤツキの外方でありかつスキンプレート2の内周面にそ
って設けられた不透水膜5を格納する格納装置であり1
例えば図示の如く圧縮された不透水膜5は同格納装置4
に設けられたノズル孔9からセグメント7よりなる管路
壁体を被覆するように引き出される。不透水ハタ5をセ
グメント7よりなる管路壁体に被覆する要領−は第1及
び2図にもとづき詳述した工法によるものであり、第3
図はセグメント7(ジヤツキロード3′が当接)よりな
る管路壁体が新しく設けられた状態を示すものである。
第3図において、スキンプレート2の端部には肉厚のゾ
ールスキンプレート10カ設けられ、テールスキンプレ
ート10と管路壁体との間隙を不透水11Q 5 fj
’ ;m過し、テールスキンプレー)10のさらに端部
にはテールシール11が図示の如くに設けられ。
展延した不透水膜5カ昌4・路114体に保持され、こ
れにより次段すなわちジヤツキロード3′妙r ’rj
&築済盾・路壁体の末端部を押して掘進機を前進させ、
それにともなって格納装置4より不透水膜5の引き出し
を容易になしている。
第4図は本発明による工法を実施するための不透水膜を
セグメント管路壁体に被覆する主要部の他の実施態様を
示す部分縦断面図であり9本態様においてはテールスキ
ンプレート10が前実施態様と異なり、テールスキンプ
レート10が長手方向に2分割され、それにより作られ
た間隙間を不透水膜5が展延し、テールスキンプレート
10の後端に設けられたテールシール11の底部側を不
透水膜5が4ひかれる。
第5図は本発明による工法を実施するための不透水膜を
セグメンl□ QB’路壁体に被覆する主要部のさらに
他の実施態様を示す部分縦断u:jj図であり。
本態様においてはイ6納装置4がテールスキンプレート
部〔第4図〕に組み込まれている。したがって不透水膜
5はテールシール11の底部側に導ひかれる。
第4図及び第5図に示す47゛q造の掘進機におけるな
お、格納装置i2は着脱可能とすることもでき。
不透水膜を円筒状とせず、タンザク授にて複数の格納装
置に装入し、タンザク型のフィルムを取り出した後接合
して筒状となすことも可能である。
以上の次第で本発明工法によるときは、工法自体の合理
的運営は勿論、不透水膜により地下水等のトンネル内へ
の浸入、或いはトンネル外へのθ;t、体の漏出を完全
に防止できるので、トンネルの使用目的での合理的管理
に大きな貢献が期待されると共に、既に上述の如く公害
防止対憤に大きく寄与するものである。又、結果として
地盤沈下による公的損害の防止、又トンネルが下水道で
あった場合、地下水の浸入が防止されるので処理汚水量
の減少により汚水処理の効率的運営等その効果ははかり
知れないものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本願に係るシールドによる掘進方向の11ji
 C=j要部図、第2図はジヤツキにより掘進機が前進
した状態を示す部分図、第3図は本発明による工法を実
施するための不透水膜をセグメント管路壁体に被覆する
ための主要部を示す部分縦断面図。 ′第4図は第3図に示す主要部の他の実施態様を示す部
分縦断面図、第5灰は第3図に示す主要部のさらに他の
実施態様を示す部分縦断面図である。 1・・・・・・掘進機、2・・・・・・スキンプレート
、3・°・・・・推進ジヤツキ、3′・・・・・・ジャ
′ツキロッド、4・・・用膜格納装置、5・・・・・・
不透水膜、6・・・・・・セグメント。 7・・・・・・既設のセグメント、8・・・・・・充填
孔、9・・・・・・ノズル、10・・・・・テールスキ
ンプレート、11・・・・・テールシール 出願人 人 岡 伸 吉 同 佐 野 栄

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シールドトンネル工法のトンネル築造において、
    シールド掘進様械の後方部でセグメントを組立て、既に
    組立てられたセグメントに新設セグメントを連続して結
    合するに際し、セグメント外周ト外周に不透水膜を連続
    的に被覆することを特徴とするシールド掘進機・ルエ法
    。 −)シールド掘進機のスキンプレート内周面に不透水膜
    を圧縮して格納する格納装置を設置した。 シールドトンネル工法を実施するための装置。
JP59021935A 1984-02-10 1984-02-10 シ−ルドトンネル工法及び該工法を実施するための装置 Granted JPS60181496A (ja)

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JPH0423080B2 JPH0423080B2 (ja) 1992-04-21

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6212697U (ja) * 1985-07-02 1987-01-26

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501306A (ja) * 1973-04-11 1975-01-08
JPS57155498A (en) * 1981-03-23 1982-09-25 Kajima Corp Method of protecting tail seal in method of construction of shielding excavation

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