JPS60182507A

JPS60182507A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS60182507A
Application number: JP3774284A
Authority: JP
Inventors: Heikichi Sato; 平吉佐藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1984-02-29
Filing date: 1984-02-29
Publication date: 1985-09-18
Also published as: JPH0546011B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は磁気ヘッドに関し、特に強磁性酸化物材料と強
（１１性金属材料との複合磁性材料からなる磁気ヘッド
に関する。

背景技南とその問題点例えは′Ｖ’「Ｒ（ビデオテーフ；レコーダ）用の磁気
記録媒体で、ｂる磁気テープにωヶ気記録される信υ−
が１）ＪＪＩｈ度化されてくるに従い、磁気テープとし
て篩い残留磁束密度Ｂｒを有するメタルテープ等が使用
されてきている。このメタルテープ等の乱い抗磁力Ｈｃ
を持つ磁気テープに用いられる磁気ヘッドは磁気ギャッ
プより発生する磁界の強度を篩くする必要がある。また
、記録される信号の重密度化に伴ない、磁気ヘッドのト
ラック幅を狭くする必要がある。そこで、このような磁
気ヘッドとしては、従来より種々のものが提案されてお
り、この狭１−ランク化の磁気ヘッドとしては、第１図
に示すヘッドが知られている。この第１図の磁気ヘッド
は１ｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物よりなるコア
半休（１ａ）、（１ｂ）の磁気ギャップ形成面側にスパ
ッタリング等の真空ＷＶＩ漠形底形成技術いてセンジス
ト等の強磁性金属薄膜（２ａ）、（２ｂ）を形成し、こ
の一対のコア半休（１ａ）、（１ｂ）をガラス（３）で
融着接合している。このような複合磁１１Ｉ材料からな
る磁気ヘッドは磁気抵抗を小さくできる反面、金属薄１
１灸（２ａ）、（２ｂ）が磁路と直交する方向であるた
め渦電流損が発生し、再生出力の低寸を招きやすくまた
積層される金属８股（２ａ）、（２ｂ）の股間に疑似ギ
ヤツブが形成され充分に信頼性が得られないという問題
がある。

そこで、この複合磁性材料からなる磁気ギャップ形成面
と強磁性金属′ａ膜形成面とを傾斜させた磁気ヘッドが
知られている。第２図はこのような磁気ヘッドの磁気テ
ープ対接面の平面図である。

この第２図の磁気ヘッドはコア半休（６ａ）、（６ｂ）
が強磁性酸化物のＭｎ　−Ｚｎフェライト等よりなり、
磁気ギヤツブｇの形成面側に突き出たフェライトの突起
部（６ａ’）、（６ｂ’）の両側面にはこの突起部（６
ａ’）、（６ｂ’）をまたぐようにセンダスト　−等の
強磁性金属薄Ｂ！（７ａ）、（７ｂ）が被着形成されて
いる。また、補強用のガラス（８）が充填されている。

この磁気ヘッドは突起部（６ａ’）、（６ｂ’）の先端
近傍に被着した強磁性金属薄膜（７ａ）、（７ｂ）を利
用して磁気ギャップｇを形成している。

このように強磁性金属薄膜（７ａ）、（７ｂ）を利用し
て磁気ギャップを形成した複合磁性材料からなる磁気ヘ
ットはコア半休（６ａ）、（６ｂ）を形成するフェライ
トがテープ対接面に露出しているためギャップ形成面の
研磨工程において、＠磨しすぎると強磁性金属薄膜（７
ａ）、（７ｂ）が摩滅されてフェライトの突起部（６ａ
’）、（６ｂ’）がギャップ形成面に露出し、ギャップ
ｇの一部分がフェライトにより形成されることになり、
このフェライトの部分だけ高保持力テープの記録が充分
にできなかったり、また、ギャップ形成面が研磨不足で
あると、トランク幅が目標より狭くなったりする。

そのことから加、工寸法は十数μ以下に制御する必要が
あり製造において加工寸法精度に難点があった。

また、ＶＴＲ用磁気ヘッドにおいてはテープとの相対速
度が大きいためテープ対接面に露出するフェライ１−は
単結晶が必要で材料価格が高くなりコスト高になる欠点
もある。

発明の目的、本発明は斯る点に龜みギャップ形成面の研磨工程にお
いて加工寸法公差を広範囲にとってもトラック幅精度を
充分確保でき、量産性に優れ信頼性が高くまた、出力も
高く高性能で耐摩耗性が良好で且つ安価な複合磁性材料
からなる磁気ヘッドを１是イ共することを目的とする。

発明の概要本発明は上記の目的を達成するために、強磁性酸化物よ
りなる磁気コア半休対の接合面に真空薄膜形成技術によ
り強磁性金属薄膜を形成し、この磁気コア半体対を突き
合わせて磁気ギャップを形成し°ζなる磁気ヘッドにお
いて、磁気ギャップ形成面と強磁性金属薄膜形成面とが
所要角度で傾斜し−ζおり且つテープ対接面上には強磁
性金属薄膜及び耐摩耗性非磁性材が配されていることを
特徴とする。

実施例以下、本発明の実施例を第３図以降を参照して説明する
。

先ず、第３図及び第４図は本発明による一例の磁気ヘッ
ド０ωを示すものである。この複合磁性材料からなる磁
気ヘッドは、例えば一対の磁気コア半休（ｌｌａ）、（
ｌｌｂ　）がＭｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物に
より形成され、この両磁気コア半体（ｌｌａ）、（ｌｌ
ｂ）の前面側のテープ対接面（１０ａ）は例えばチタン
酸カルシュウム（Ｔｉ　Ｃａ系セラミック）、酸化物ガ
ラス、チタニア（Ｔｉ（ｈ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ２）
等の高耐摩耗性非磁性材料（１２ａ）、（１２ｂ）より
形成されており、磁気ギャップｇの近傍部には、高透磁
率合金のセンダスト等からなる強磁性金属Ｓ股（１３ａ
）、（１３ｂ）がスパッタリング、蒸着等の真空薄膜形
成技術を用いて絶縁膜を介して積層形成されている。ま
たガラス等の非磁性材（１４）が磁気ギャップｇの形成
面近傍に溶融充填されている。なお図中（１５）は巻線
孔である。

ところで強磁性金属薄膜（１３ａ）、（１３ｂ）の形成
面（１２ａ’　）、（１２ｂ’）と磁気ギャップｇの形
成面ｇ′とは磁気ヘッドの磁気テープの対接面の平面図
を第４図に示すように所要角度θで傾斜している。この
実施例の場合顛斜角度θはほぼ４５゜となっており記録
昇化時の磁気テープに与える強磁性金属薄膜（１３ａ）
、（１３ｂ）の積ｊＭ間の絶縁層と磁気ギャップｇとの
相互作用が最っとも少ない領斜角度となっている。

また、強磁性金１７ｉ薄股（１３ａ　）、（１３ｂ）は
磁気ギャップｇの近傍のみに形成されているため強磁性
金属薄膜（１３ａ　）、（１３ｂ）の形成面積が少なく
て済み、例えばスパッタリング装置で一１ｈ処理可能な
個数を大幅に増すことができて量産性の向」二を図るこ
とができる。

また積層形成される強磁性金７７１薄股（１３ａ）、（
１３ｂ）の膜厚りは、ｔ＝Ｔｗｓｉｎ　θ でよいことからトランク幅に相当する膜厚を積層形成す
る必要がなくヘッド作成に要する時間を短縮することが
できる。ここでＴｗはトラック幅でありθは強磁性金属
ＢＩＩＱ形成面とギヤツブ形成面とのなす角度である。

そしてテープ対接面は西耐摩耗性非磁性材料（１２ａ）
、（１２ｂ）で形成されているので、テープ対接面には
フェライト等の磁性材料が露出せずギャップ形成面ｇ′
の研磨工程においてその研磨量に拘らず強磁性金属薄膜
のｊＶさが一定でトラック幅精度は確保しゃすく加工寸
法を十数μ以上の精度で行っても即ち加工寸法公差は大
きくてもトラック幅精度を充分確保できる。

またビデオヘッドにおいてはテープとの相対速度が大き
いためテープ対接面に突出するフェライトは単結晶が必
要で材料価格は高くなるが、本発明ではパックギャップ
側のフェライトはテープとの接触に対する偏摩耗の心配
がないためｌ１ｉ−μ多結晶部ぢ焼結タイプの多結晶ツ
ーライトを使用することができるため低価格となる。

以上説明したように本例の磁気ヘッドは、磁気ギャップ
から発生ずる磁界の強度が高いごとや再生出力が高くと
れること、またテープ対接面は耐摩耗性非磁性材料によ
り形成されていることによりギャップ形成面のｇＦ磨時
の終ｒ位置に拘らず１−ランク幅は磁性金属薄膜の斜１
ｊｆｔ面寸法のみで定まり加工寸法公差が広範囲で行う
ことができ歩留りがよく安価でメタルテープ等の高い抗
磁力Ｉｌｃを有する磁気テープに高密度記録するのに適
したヘッドが得られる。

ところで磁性金属薄ＤＡ　（１３ａ　）、（１３ｂ）の
形成面（１２ａ’）、（１２ｂ’　）　と磁気ギャップ
の形成面のなす角度０は」二連の４５°に限らす２０°
〜８０°程度の範囲としてもよい。ここで２０°以下の
角度であると隣接トラックからのクロスト−りが大きく
なり、望ましくは３０°以上の角度をもたせるのがよい
。また、頭重角度を９０°にした場合は耐摩耗性が劣る
ことから８０°程度以下とするのがよい。

また頭重角度を９０°にすると磁気ギャップの近傍に形
成される強磁性金ｂＪｓ　ｒＡ膜（１３ａ）、（１３ｂ
）の映１！Ｓ：をｌ−ランク’ｌｖｄに等しく形成する
必要があり真空薄膜形成技術を用い゛ζ薄１１Ｑを形成
するに当っ゛（多（の時間を要し°ζしまうことや、膜
構造が不均一化し”（しまう点で好ましくない。

次に上述の第３図及び第４図に示す磁気ヘッドの時造工
１゛−を第５し１〜第１Ｏ図に基づいて説明する。

先ず、第５図にボずように例えばＭｎ−Ｚｎフェライト
等の強磁性酸化物ブ１コック（２１）の一端面に例えば
チタン酸カルシュウム（Ｔｉ−Ｃａ系セラミック）、酸
化物ガラス、チタニア（ＴｉＯ２）、アルミナ（Ａ１２
０３　）等の商耐摩耗性非磁性材（２２）を数十μの溶
融ガラス板を挾んで熱圧着し複合ブロック（２０）を形
成する。そして、耐摩耗性非磁性材（２２）の−稜部か
ら磁性材ブロック（２１）にかけて磁性材ブロック（２
Ｉ）の上部扉ぢ耐摩耗性非磁性材（２２）の前面と垂直
になるように切り溝（２２’）を回転砥石または電解エ
ツチング等により所要間隔で複数形成する。即ち複合ブ
ロック（２ｏ）の上面（２０’）は複合ブロック（２ｏ
）の磁気ギャップ形成位置近傍に相当する部分に形成さ
れる。

次に、第７図に丞ずように複合ブロック（２ｏ）の前面
と垂直な切り溝＜２２’）の側面にセンダスト等の金属
磁性材料をスパッタ等の薄膜形成技術を用いて磁性金属
薄１１Ｑ　（２３）を形成する。この際、切り溝（２２
’）の側面上に効率よく金属磁性材料が被着するように
複合ブロック（２ｏ）を１す１斜させスパッタリング装
置内に配置するようにする。

次に磁性金Ｊｆｓ薄股（２３）が被着された切り溝（２
２’）にガラス（２４）を溶融充填した後、複合ブロッ
ク（２０）の前面と上面を研磨するごとにより第８図に
ボずコア半休ブロック（２ＯＡ）、（２０Ｂ）を得る。

そして、一方のコア半休ブロック（２〇八）には第９図
に示すごとく巻線溝（２５）の溝加工を行う。次に、こ
の溝加工を施した一方のコア半休ブロック　（２０Ａ　
）と溝のない他方のコア半休ブロック（２０Ｂ）とをそ
の上面部（２０’）において突き合わせて第１０図に示
すようにギャップ融着を行う。

この合体ブロック（２６）を第１０図に示すａ−ａ線、
ｄ′−ａ′線の９位置でスライシング加工することで複
数個のヘッドチップを得ることができる。ここでギャッ
プ融着を行うギャップスペーサとし°ζはＳ　ｉｏ２、
ＺｒＯ２、！３．Ｊ２０５、Ｃｒ等を用いるごとができ
る。次に、このようにしζ得られたヘッドチップの磁気
テープ対接面を円筒研磨することで第３図にボず磁気ヘ
ッドとなる。

この第３しｌの磁気ヘッド００）において磁気コア半休
（ｌｌａ）は−に記の一方のコア半休ブロック（２０Ａ
）の磁性ブロック　（２１Ａ）を母材とし、磁気コア半
休（ｌｌｂ　）は」１記他方のコア半休ブロック（２０
Ｂ　）の磁性ブロック（２０１）を母材としており、ま
たテープ対接面（ｌｌａ）の耐摩耗性非磁性材（１２ａ
）（１２ｂ　”）は上記非磁性材（２２Ａ　）（２２Ｂ
　）と対応している。また、この磁気ヘッドの強磁性金
属薄Ｍ　（１３ａ　）、（１３ｂ）は」二記金属薄股（
２３＾）、（２３Ｂ　＞に夫々対応（４でおり更に巻線
孔（１５）は、上記一方のコア半休ブロック（２ＯＡ　
）に形成された巻線＃（２５）に対応している。

即ちフロントギャップｇ近傍のみに金属磁性材料より成
る金属薄１１’Ａ　（２３）を配し且つテープ対接面（
１０ａ　）に露出する磁性金属薄１漠（２３）以外の部
分が耐摩耗性非磁性材（２２）からなる磁気ヘッドが得
られる。

以上説明したように本発明による磁気ヘッドは予め、耐
摩耗性非磁性材（２２）を貼り付けた磁性ブロック（２
１）にその磁気ギャップ形成面となる平面に対し２０°
〜８０°の角度をなず平面を後工程で砥石加工等により
形成し、ギャップ面とは斜めの位置関係にあるこの平面
上に強磁性金属薄膜（２３）を真空薄膜形成技術で形成
し、そして少なくとも磁気ギャンブ近傍においては斜め
の平面上に成長している金属薄膜のみが残るようにギャ
ップ面研磨加工を行っζいることから金属８膜（２３Ａ
）、（２３Ｂ）は各部において均一な膜厚構造となりヘ
ッド出力の高安定化が可能となっている。また上記磁気
ヘッドはテープ対接面が耐摩耗性非磁性材により形成さ
れていることか−ちギャップ面研磨工程において加工寸
法公差を大きくしても１〜ランク幅精度を充分確保でき
、またヘッドの後部側の接合面即ちバックギャップ側に
おいては、強磁性醇化物どうしが直接ガラス融着されて
いることからヘッドチップの耐破壊強度が大きく製造し
やずいヘッドとなっ“ζおり、歩留りの向上を図ること
ができると共にこのバックギャップ側の強磁性醇化物は
テープとの接触に対する偏摩耗の心配がないため旧−μ
多結晶、即ち焼結タイプの多結晶フエライ１−を使用す
ることができて低価格となる。

次に、第１１図〜第１７図に基づき他の装造工程により
作られる磁気ヘッドの例を説明する。

先ず、第１１図にネオように例えばＭｎ　−Ｚｎフェラ
イト等の強磁性酸化物ブロック（３１）の」二面にチタ
ン酸カルシュウム（Ｔｉ−Ｃａ系セラミック）、酸化物
ガラス、チタニア（Ｔｉ０２）、アルミナ（Ａ１２０３
　）等の高耐摩耗性磁性材（３２）をガラス融着等によ
り貼り付は非磁性複合ブロック（３０）を形成する。

この複合ブロック（３０）の磁気テープ対接面に対応す
る」二面（３０’）即ぢ耐摩耗性非磁性材（３２）の上
面に、第１２図に示すようにこの上面を斜めに横切るよ
うな断面コ字状の溝（３２’）を磁性ブロック（３１）
の上面にかけて所要間隔で複数形成する。

ここでこの溝（３２’）の深さはヘッドの巻線孔に到達
する程度の深さである。

次に、第１３図に示すように上記複合ブロック（３０）
の′ａ（３２’）近傍にスパッタリング等の真空薄膜形
成技術を用いてｉＪｊ透磁率合金例えばセンダスト絶縁
膜を介して被着積層し強磁性金属薄膜（３３）を形成す
る。ごの際、溝（３２’）の−側面（３２”）上に効率
よく被着されるように複合ブロック（３０）を傾斜させ
スパッタリング装置内に配置するようにする。

続いて溝（３２’）にガラス（３４）の溶融充填を行っ
た後、複合ブロック（３０）の上面（３０’）と前面（
３０”）とを平面研磨し鏡面仕上げを行いコア半休ブロ
ック（３０Ａ　’）　（３０Ｂ　）を得る。この際、上
記金１７６薄欣の一部が上記溝（３２）の内側面（３２
’）に残り、この内側面（３２’）に強磁性金属薄膜（
３３）が被着した状態となる。

次に、一方のコア半休ブロック（３０＾）に巻線溝（３
５）を形成する溝加工を行い、第１５図に不ずように一
方のコア半休ブロックを得る。この溝加工を施した一方
のコア半休ブロック（３０＾）と溝のない他方のコア半
休ブロック（３０Ｂ）とを夫々の磁気ギヤ・ノブ形成面
となる前面（３０″）を映付けしたギャップスペーサを
介し°ζ第１６図に示すように突き合わせガラス融着す
る。

この後、この合体されたブロック（３６）をｂ−ｂ線り
’　−ｂ’　線の位置でスライシング加工することで複
数個のヘンドチソプを得ることができる。

次に、上記ヘンドチソプの磁気テープ対接面即ち耐摩耗
性非磁性材上面を円筒ａ磨するごとにより第１７図にネ
オ磁気ヘッド（４０）となる。この第１７図の磁気ヘッ
ド（４０）において、磁気コア半休（４１ａ）は上記一
方のコア半体ブロック（３０Δ）を母材とし、磁気コア
半休（４１ｂ）は上記他方のコア半休ブロック（３０Ｂ
）を母材としており、また、テープ対接面（４０ａ　）
の耐摩耗性非磁性材（４２ａ　）　（４２ｂ　）は上記
非磁性材（３２Ａ　）　（３２Ｂ　）と対応している。

そして、この磁気ヘッドに形成されている強磁性金属薄
膜（４３ａ　）、（４３ｂ）は上記溝（３２Ａ’　）、
（３２Ｂ’　）の内側面に被着した上記金属薄膜（３３
Ａ）、（３３Ｂ）に対応している。

また、磁気ギヤツブｇの形成面近傍に溶融充填される非
磁性材（４４ａ　）　（４４ｂ　）はガラス材（３４八
）（３４Ｂ）に対応し、巻線孔（４５）は上記巻線溝（
３５）に対応している。

以上説明した工程により得られる第１７図に不ず磁気ヘ
ッドは磁気ギャップどの形成面と強磁性金属薄膜（４３
ａ　）　（４３ｂ　）の形成面とが所要角度で傾斜して
おり、この強磁性金属薄膜（４３ａ　）　（４３ｂ　）
がフロントギャップｇの近傍のみに配され且つテープ対
接面に突出する磁性金属薄膜以外の部分が高耐摩耗性非
磁性材（４２ａ　）　（４２ｂ　）から形成されている
ことで上述した第１３図の磁気ヘッドと同様に良好な効
果を得ることができる。

また、上記金属薄１１Ｑ　（４３ａ　）、（４３ｂ）の
みにより磁気ギャップｇを形成しζいることでヘッドの
出力が商くメタルテープに対応したヘッドとなっている
。

また、上記金属ＭＩＸ’　（４３ａ　）、（４３ｂ）は
コア半休（４１ａ）、（４１ｂ）の傾斜面と非磁性材（
４２ａ）、（４２ｂ）上とを連ねた連続平面上に形成さ
れていることから各部において膜厚構造が均一となり磁
路に沿った方向で高透磁率を示すため上記磁気ヘッドの
記録再生出力が商められている。

ところで第１Ｏ図及び第１６図の合体したブロック（２
６）及び（３６）をスライシングするａ−ａ。

ａ′−ａ′線及びｂ−ｂ、ｂ’−ｂ’線ばコア半体フ′
ロック（２〇八）、（２０Ｂ）及び（３〇八）、（３０
Ｂ）の突き合わせ而に垂直となっているがこの突き合わ
せ向に対してスライシング方向を傾斜させてアジマス記
録用の磁気ヘッドを作成することもできる。　′ 次に、磁気ギャップ近傍部のみに強磁性金属薄膜を形成
するのではなく磁気ヘッドの前面部即ちフロントギャッ
プ形成面より後部側部ぢバックギャップ形成面まで連続
して強磁性金属薄膜を形成した本発明の他の実施例とな
る第１８図に承ず磁気ヘッドについて説ＥＪＩ　ｔ　６
゜この磁気ヘッド（５０）は磁気コア半休（５１ａ）、（
５１ｂ　）が強磁性酸化物である例えばＭｎ−Ｚｎフェ
ライトで形成され、そのテープ対接面（５０ａ）を例え
ばチタン酸カルシュウム（Ｔｉ　Ｃａ系セラミック）、
酸化物ガラス、チタニア（ＴｆＯ２）　、アルミナ（Ａ
１２０３　）等の高耐摩耗性非磁性材（５２ａ）（５２
ｂ）により形成し、コア半休（５１ａ）、（５１ｂ＞の
突き合わせ面である磁気ギャップｇの形成面とコア半休
（５１ａ　）、（！５１ｂ　）の接合面近傍に被着され
た例えばセンダス日灸である強磁性金属薄膜（５３ａ　
）　（５３ｂ　）の形成面（５２ａ’　）　（５２ｂ’
　）とは例えば４５°の角度で傾斜している。またこの
金属薄ＩＩＱ　（５３ａ　）　（５３ｂ　）は耐摩耗性
非磁性材（５２ａ）（５２ｂ　）により形成されるフロ
ンＩ・ギャップ形成面ｇ′より強磁性酸化物により形成
されるバックギャップ形成面ｇ“に至るまで連続して形
成されこの金属薄１２　（５３ａ　）　（５３ｂ　）の
みにより磁気ギャップｇが形成されている。

また補強材となる非磁性材（５４）は上記接合面と金属
薄膜（５３ａ　）　（５３ｂ　＞　との間に充填されて
おりトランク幅Ｔ−を規制する役１」も果しζいる。

またフロントギャップ形成面ｇ′の後方には巻線孔（５
５）が形成されζいる。

とごろで上記金属薄Ｍ　（５３ａ　）　（５３ｂ　）は
コア。

半休（５１ａ　）、（５１ｂ）の一方の傾斜面（５２ａ
’　）、（５２ｂ’）である一平面上に形成されている
ことからこの金属Ｘ５映（５３ａ　）　（５３ｂ　）は
各部において膜厚構造が均一となっており磁気ヘッドの
磁路方向に沿ってこの金属薄膜の全体が高い透磁率を示
し磁気ヘットの記録再生出力は高められている。

また、ヘッドの磁気テープ対接面（５０ａ）はその一部
分の平面を第１９図に示すように磁性金属薄ＩＡ　（５
３ａ　）　（５３ｂ　）はＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ、Δ１２
０３　、ＺｒＯ２、Ｓ　ｉｓＮ等の高耐摩耗性絶縁膜を
介し°ζ積層形成されることで構成されている。なお、
磁性金属ＷｉｌＧｔ’（５３ａ　）　＜５３ｂ　）の積
層数はその膜厚により任意に設定できる。

次にこのような磁気ヘッドの製造工程を第２０図〜第２
５図に基づき説明する。

先ず第２０図に示すようにＨｎ　−Ｚｎフェライト等の
強磁性酸化物ブロック（６１）の前面に例えばチタン酸
カルシュウム（Ｔｉ−Ｃａ系セラミック）、酸化物ガラ
ス、チタニア（ＴｉＯ２）　、アルミナ（八１２０３　
）等の高耐摩耗性非磁性材（６２）をガラス融着等の手
段で貼り付けて複合ブロック（６０）を得る。この複合
ブロック（６０）の上面部に第２１図に示すように回転
砥石等を用いて上面部を横切るような断面Ｖ字状の溝（
６２’）を所要間隔で複数形成する。

この溝（６２’）の内壁面の傾斜角度は上面に対して例
えば４５°となっている。

次に第２２図に示すように複合ブロック（６０）の上面
部にセンダスト等をスパッタリング、イオンブレーティ
ング、蒸着等の真空薄膜形成技術を用いて前記１口１耐
摩耗性絶経欣を介して積層し、前記溝部（６２’）に強
磁性金属薄＋＋＊　（６３）を形成する。

そして、第２３図に示すように複合材ブロック（６０）
の土面部及び前面部を平向研磨加工を行いコア半休ブロ
ック（６〇八）、（６０Ｂ　）を形成する。また、巻線
溝側のコア半休を形成するために一方のコア半休ブロッ
ク　（６０Ａ　）に巻線溝（６５）及びガラス充填溝（
６５’）を形成する溝加工を行い、第２４図に示す一方
のコア半休ブロック（６０／ｌ）を得る。次いで第２５
図に不ずようにこの溝加工を施した一方のコア半休ブロ
ック（６０Ａ　）と溝のない他方のコア半体ブｌコック
（６０Ｂ）とをその上面部をギャップスペーサを介して
突き合わせ巻線溝（６５）及びガラス充填溝（６５’）
に低融点ガラス棒を挿入して融着接合するごとによって
合体ブロック（６６）を形成する。この際両コア半休ブ
ロック（６０＾）、（６０Ｂ）の上記金属薄膜（６３八
）（６３Ｂ）の表面側溝部には低融点ガラス（６４）が
充填された状態となる。

この合体ブロック（６６）を第２５図にボずガラス充填
溝（６５’）を切除すると共にｃ−ｃ線、Ｃ′−Ｃ′線
の位置でスライシング加工することで複数のへッドチソ
プを得ることができる。

その娩、ヘンドチソプの磁気テープ対接面、即し耐摩耗
性非磁性材（６２ａ　）　（６２ｂ　）により形成され
るテープ対接面を円筒研磨することで第１８図に示した
磁気ヘッドとなる。ここでこの磁気ヘッド（５０）のコ
ア半休（５１ａ　）は一方のコア半休ブロック（６０Ａ
）の磁性ブロック　（６１Ａ　＞を母材とし、コア半休
（５１ｂ）は他方のコア半休ブロック（６０１１）の磁
性ブロック（６１Ｂ　）を母材としており、また、耐摩
耗性非磁性材（５２ａ　）　（５２ｂ　）は上記非磁性
材（６２Ａ　）（６２Ｂ　）と対応し、強磁性金属薄Ｉ
Ｑ　（５３ａ　）　（５３ｂ　）は上記金属ｉ’、］Ｉ
央（６３八）（６３Ｂ　）に対応し、非磁性材（５４）
は上記高融点ガラス（６４）に対応し°ζテープ対接面
（５０ａ）は耐摩耗性非磁性材（５２ａ　）　（５２ｂ
　）と強磁性金属薄１５４　（５３ａ　）　（５３ｂ　
）及び非磁性材（５４）から構成されている。また巻線
孔（５５）は上記巻線溝（６５）に対応している。

上述したように第３図、第１７図及び第１８図に示す本
発明の各実施例の磁気ヘッドは作製に当り予め強磁性酸
化物ブロックに耐摩耗性非磁性材を貼り付けこの耐摩耗
性非磁性材を研磨し゛ζテープ対接面を形成するためギ
ャップ面を含むテープ対接面には強磁性酸化物材は露出
することのないヘットとなっている。従って、金属薄膜
形成後のギヤツブ面（ｄＨｍ時の終点位置に拘らずトラ
ック幅ば金属薄１模の領ｑ旧Ｕｒ面寸法のめで決まるた
めブロックの加」二においても寸法公差が広範囲で行う
ことができ歩留りもよく安価なヘッドが得られる。

発明の効果以」二のように本発明によれば（σ玄気ヘッドは磁気コ
ア半休対を強磁性酸化物と耐摩耗性非磁性材の複合材に
より形成し、コア半休対の突き合わせ面の磁気ギヤツブ
形成面は所要角度でイリ１斜するように形成して強磁性
金属薄膜を真空薄膜形成技術によりコア半休接合面近傍
に被着形成しているのでテープ対接面は耐１９耗性非磁
性材により形成され、ギャップ面研磨工程においてその
研磨量に拘らず基材となる強磁性酸化物が露出すること
なく強磁性金属薄膜の厚さは一定でトランク幅第１１度
は確保しやすく寸法公差が広範囲で行うことができ歩留
りもよく、しかもバックギャップ側の強磁性酸化物はテ
ープとの接触に対する偏摩耗の心配がないため焼結タイ
プの多結晶フェライトを使用することができて安価な磁
気ヘッドを得られる。

また、強磁性金属薄膜は一平面上に形成されるためこの
薄膜は各部において、膜厚構造が均一となりヘッドの磁
路に沿った方向で薄膜全体がｉ■透磁率を示すようにな
り記録再生出力の高い高ず３頼性の磁気ヘッドとなって
いる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の一例の磁気ヘッドの斜視図、第２図は従
来の他例の磁気ヘッドのテープ対接面を拡大して示す平
面図、第３図は本発明の一例の磁気ヘッドの斜視図、第
４図は同、磁気ヘッドのテープ対接面の拡大平面図、第
５図〜第１０図は第３図の磁気ヘッドを作製する工程を
順に示す斜視図、第１２ホ１〜第１６図は本発明の他例
の磁気へ・ノドを作製する工程を順に示す斜視図、第１
７図は第１２図〜第１６図に４くず工程により作製され
る磁気へ・ノドの斜視図、第１８図は本発明の更に他例
の磁気へ・ノドの斜視図、第１９図は同、磁気へ・ノド
のテープ文・１接而の拡大平面図、第２０図〜第２５図
は第１８図に示す磁気ヘッドを作製する工程を順に示す
斜視図である。図中（１０ａ　）　（４０ａ　）、（５０ａ　）はテー
プ対接面、（ｌｌａ　）　（ｌｌｂ　）、（４１ａ　）
　（４１ｂ　）、（５１ａ　）（５１ｂ　’）は磁気コ
ア半体、（１２ａ　）　（１２ｂ　）、（４２ａ　）　
＜４２ｂ　）、（５２ａ　）　（５２ｂ　）は耐摩耗性
非磁性材、（１３ａ　）　（１３ｂ　）、（４３ａ　）
　（４３ｂ　）、（５３ａ　）　（５３ｂ　）は強磁性
金属シ’：Ｖ　ＩＩＱ、ｇは磁気ギャップである。ヨ二１Ｐ第５図第８図第９図第１０図りｆ −〇へ第１１図第１２図第１３図第１４図第’ｉｂ図第１Ｂ図第１７図２；’′、Ｊ１８　ｔ”１第１９図多、じ２０ｒ４第２１図に２′ ？１τ２２１：丸に１

Claims

【特許請求の範囲】

強磁性酸化物よりなる磁気コア半休対の接合面に具空薄
股形成技術により強磁性金属薄膜を形成し、この磁気コ
ア半休対を突き合わせ゛Ｃ磁気ギャップを形成してなる
磁気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップ形成面と上記強
磁性金属薄膜形成面とが所要角度で（すＩ斜しており、
且つテープ対接面上には」二記強磁性金属薄股及び耐摩
耗性非磁ｆＪＬ材が配されていることを特徴とする磁気
ヘッド。