JPS601828A - 荷電ビ−ム描画装置 - Google Patents
荷電ビ−ム描画装置Info
- Publication number
- JPS601828A JPS601828A JP58109197A JP10919783A JPS601828A JP S601828 A JPS601828 A JP S601828A JP 58109197 A JP58109197 A JP 58109197A JP 10919783 A JP10919783 A JP 10919783A JP S601828 A JPS601828 A JP S601828A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- circuit
- strain
- time
- subfield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の属する技術分野］
この発明は、電子ビーム露光装置等の荷電ビーム描画装
置に関する。
置に関する。
［従来技術とその問題点］
第１図に荷電ビーム描画装置の一つである電子ビーム描
画装置の構成の一例を示す。通常偏向電極は座標のＸ方
向及びＹ方向の少くとも一対の電極より構成される。ｌ
はＥＯ８電源、２は防振架台、３はオートフィーダ、４
はテーブル、５は電子銃、６は電磁レンズ、７はブラン
キング電極、８は偏向電極、９はレーザ干渉計、１０は
モータ、ｌ】は制御インタフェース、１２は操作パネル
、１３はディスプレイ、１４はＣＲＴ、１５は磁気テー
プ装置、１６は磁気ディスク装置、１７は計算機である
。
画装置の構成の一例を示す。通常偏向電極は座標のＸ方
向及びＹ方向の少くとも一対の電極より構成される。ｌ
はＥＯ８電源、２は防振架台、３はオートフィーダ、４
はテーブル、５は電子銃、６は電磁レンズ、７はブラン
キング電極、８は偏向電極、９はレーザ干渉計、１０は
モータ、ｌ】は制御インタフェース、１２は操作パネル
、１３はディスプレイ、１４はＣＲＴ、１５は磁気テー
プ装置、１６は磁気ディスク装置、１７は計算機である
。
半導体技術の進展に伴い、かかる装置に対する要求は高
精度、高速度という面で著るしいものがある。前者につ
いては機械的に試料を静止させ、電子照射系は極力歪の
少い従って小偏向走査が適しているが、後者からは試料
の高速移動或いは大偏向走査が要求される。かくして、
これらのトレードオフによシ、最適点をめる試みが続け
られている。
精度、高速度という面で著るしいものがある。前者につ
いては機械的に試料を静止させ、電子照射系は極力歪の
少い従って小偏向走査が適しているが、後者からは試料
の高速移動或いは大偏向走査が要求される。かくして、
これらのトレードオフによシ、最適点をめる試みが続け
られている。
電子照射系における大偏向走査は、高速偏向が困難であ
ること、成る程度大きな歪はさけられないことから、第
２図に示すように、描画領域を適当な大きさをもつフィ
ールドに分割し、このフィ−ルドへのアクセスは機械的
に行い、各フィールドをさらにサブフィールドに分割し
、各フィールド内でのサブフィールドへのアクセスには
、やや低速の大偏向器によって行い、サブフィールド内
を高速の小偏向器によシ、偏向走査して描画を行うこと
が行われている。
ること、成る程度大きな歪はさけられないことから、第
２図に示すように、描画領域を適当な大きさをもつフィ
ールドに分割し、このフィ−ルドへのアクセスは機械的
に行い、各フィールドをさらにサブフィールドに分割し
、各フィールド内でのサブフィールドへのアクセスには
、やや低速の大偏向器によって行い、サブフィールド内
を高速の小偏向器によシ、偏向走査して描画を行うこと
が行われている。
第２図で、人はフィールドの一つを、ａ、ｂ、ｃ。
ｄ・・・ハ夫々サブフィールドの一つ一つを示している
。サブフィールドにアクセスする一対の大偏向器を第２
図の座標に合わせてＸ偏向器、Ｘ偏向器、サブフィール
ド内を走査する一対の偏向器をＸ偏向器、Ｘ偏向器とす
ると、夫々の偏向信号として従来は第３図のように与え
られていた。尚、この図は原理図を示すため、理想化し
て示しである。
。サブフィールドにアクセスする一対の大偏向器を第２
図の座標に合わせてＸ偏向器、Ｘ偏向器、サブフィール
ド内を走査する一対の偏向器をＸ偏向器、Ｘ偏向器とす
ると、夫々の偏向信号として従来は第３図のように与え
られていた。尚、この図は原理図を示すため、理想化し
て示しである。
この方式によれば、サブフィールド単位でＸ、Ｘ偏向器
をステップするため、ステップ時に回路にセトリングタ
イムのため描画速度を太きぐすることができなかった。
をステップするため、ステップ時に回路にセトリングタ
イムのため描画速度を太きぐすることができなかった。
［発明の目的］
この発明の目的は、従来の方式のこのような欠点を改良
するものであって、大偏向を階段状に行うことなく、連
続的に行わせることによシ、セトリング時間による描画
時間の低下を防ぎ、さらにサブフィールド内においても
歪の補正を可能とし描画精度を向上させることを目的と
する。
するものであって、大偏向を階段状に行うことなく、連
続的に行わせることによシ、セトリング時間による描画
時間の低下を防ぎ、さらにサブフィールド内においても
歪の補正を可能とし描画精度を向上させることを目的と
する。
［発明の概要］
第４図に、本発明による偏向信号の一例を示す。
これらの信号を発生する回路例を第７図に示す。
第４図のＸ、Ｘ偏向の信号は制御回路１１より、波形の
傾斜を与え、それをＤＡ変換器（ＤＡＣ）２０゜２１に
てアナログ量に変え、積分回路にて積分する。
傾斜を与え、それをＤＡ変換器（ＤＡＣ）２０゜２１に
てアナログ量に変え、積分回路にて積分する。
一定時間経過すると、制御信号によりスイッチ２２を閉
じ積分回路囚のコンデンサ別に充電された電荷を放電す
る。尚、局は演算増幅器である。これをくシかえして図
のような波形を得る。Ｘ偏向の場合には上記の値にさら
にＸ偏向量相当分の減算とＹ偏向切換時毎に制御回路１
１よシオフセット値の減算を加算回路ｎにて行うと共に
偏向歪の補正も行うことになる。またＸ偏向は、Ｘ偏向
と同様に動作する（周期は異る）が、Ｘ偏向の歪を補正
するために、オフセット値の加減算を加算回路にて行う
（第７図（ｂ））。尚、Ｉは他の積分回路又はＤＡＣよ
りの信号である。かくして従来の如きステップ時のセト
リング時間に影響されず、描画速度を早めることが出来
る。
じ積分回路囚のコンデンサ別に充電された電荷を放電す
る。尚、局は演算増幅器である。これをくシかえして図
のような波形を得る。Ｘ偏向の場合には上記の値にさら
にＸ偏向量相当分の減算とＹ偏向切換時毎に制御回路１
１よシオフセット値の減算を加算回路ｎにて行うと共に
偏向歪の補正も行うことになる。またＸ偏向は、Ｘ偏向
と同様に動作する（周期は異る）が、Ｘ偏向の歪を補正
するために、オフセット値の加減算を加算回路にて行う
（第７図（ｂ））。尚、Ｉは他の積分回路又はＤＡＣよ
りの信号である。かくして従来の如きステップ時のセト
リング時間に影響されず、描画速度を早めることが出来
る。
［発明の効果］
従来の方式では、大偏向をサブフィールド毎にステップ
状に変化させるため、第８図に示す如く切換えてからビ
ーム位置が安定する迄に要する時間のロスを生じる（各
走査毎にもＸ偏向に同様のことが生じるが、これはＸ偏
向のフライバック時間に吸収され無視出来る）。尚、第
８図（ａ） 、 （ｂ）は各々制御信号、偏向増幅回路
出力を示している。
状に変化させるため、第８図に示す如く切換えてからビ
ーム位置が安定する迄に要する時間のロスを生じる（各
走査毎にもＸ偏向に同様のことが生じるが、これはＸ偏
向のフライバック時間に吸収され無視出来る）。尚、第
８図（ａ） 、 （ｂ）は各々制御信号、偏向増幅回路
出力を示している。
またサブフィールド間のつなぎにおいて、Ｙ偏向用ＤＡ
Ｃの精度が重要となるため、多少の速度の犠性は覚悟し
なければならない。等の欠点があったが、これを連続的
に行わせることによって高速化つなぎ精度向上が実現す
る。
Ｃの精度が重要となるため、多少の速度の犠性は覚悟し
なければならない。等の欠点があったが、これを連続的
に行わせることによって高速化つなぎ精度向上が実現す
る。
［発明の実施例］
第４図、第５図及び第６図に本発明の実施例３つの波形
を示す。第５図の例でＸ偏向及びＸ偏向は第４図と同じ
で、第６図の例でＸ偏向及びＸ偏向は第４図と同じであ
る。これらの波形を生成する回路を第７図に示す。図に
は明示していないが第７図（ｂ）の回路を用いて第４図
〜第６図のＸ偏向、Ｘ偏向に、それぞれＸ偏向、Ｘ偏向
の歪補正を行うオフセットの導入が可能なことは容易に
理解できよう。即ち、第４図、第５図ではサブフィール
ドａａｂ＋ＣＡ＊ｅｅＥｇ ・” 、Ｏ，ｐノ順描画を
行う。
を示す。第５図の例でＸ偏向及びＸ偏向は第４図と同じ
で、第６図の例でＸ偏向及びＸ偏向は第４図と同じであ
る。これらの波形を生成する回路を第７図に示す。図に
は明示していないが第７図（ｂ）の回路を用いて第４図
〜第６図のＸ偏向、Ｘ偏向に、それぞれＸ偏向、Ｘ偏向
の歪補正を行うオフセットの導入が可能なことは容易に
理解できよう。即ち、第４図、第５図ではサブフィール
ドａａｂ＋ＣＡ＊ｅｅＥｇ ・” 、Ｏ，ｐノ順描画を
行う。
第６図ではサブフィールドａ＊ ｂ ＃ Ｃ１ｄ ＋
ｈ Ｈｇ ＊ ｆ ＋ ｅ＊ｉ、ｊ、に、ｌ、ｐ、ｏ、
ｎ、ｍの順に描画する。第５図は切換の少い方向（ここ
ではＸ偏向）についてはステップ状に切換えている。第
６図はＸ偏向を往復共利用したもつである。ｙ補正に負
担をかければＸ偏向は正弦波でも可能であることを示唆
している０
ｈ Ｈｇ ＊ ｆ ＋ ｅ＊ｉ、ｊ、に、ｌ、ｐ、ｏ、
ｎ、ｍの順に描画する。第５図は切換の少い方向（ここ
ではＸ偏向）についてはステップ状に切換えている。第
６図はＸ偏向を往復共利用したもつである。ｙ補正に負
担をかければＸ偏向は正弦波でも可能であることを示唆
している０
第１図は電子ビーム描画装置の一例を示す構成図、第２
図はフィールドとサブフィール（゛の関係及び描画座標
軸を示す説明図、第３図は従来の技術による大偏向及び
小偏向の信号波形図、第４図第５図及び第６図は本発明
の技術による大偏向及び小偏向の信号波形図、第７図は
偏向信号作成回路の構成図、第８図はセトリング時間の
説明図である。 加、２１・・・ＤＡＣ，２３・・・積分回路。 ２７・・・加算回路、謔・・・増幅回路。 第４図 第６図 ｙｍｍ、心Ｍ−−−幽♂”分−−−ヘｌ 訃μ竹帛第７
図 ７ 〃 第８図 １ Ｔｓ−一
図はフィールドとサブフィール（゛の関係及び描画座標
軸を示す説明図、第３図は従来の技術による大偏向及び
小偏向の信号波形図、第４図第５図及び第６図は本発明
の技術による大偏向及び小偏向の信号波形図、第７図は
偏向信号作成回路の構成図、第８図はセトリング時間の
説明図である。 加、２１・・・ＤＡＣ，２３・・・積分回路。 ２７・・・加算回路、謔・・・増幅回路。 第４図 第６図 ｙｍｍ、心Ｍ−−−幽♂”分−−−ヘｌ 訃μ竹帛第７
図 ７ 〃 第８図 １ Ｔｓ−一
Claims (1)
- 被描画試料を試料台に載置し、該試料台を間けつ的に移
動させて、該試料台静止時に順次描画を行う装置に於い
て、静止時に描画する範囲としてのフィールドをさらに
より小さい区画としてのサブフィールドに分割し、フィ
ールド全域を偏向走査する１対の大偏向器と、サブフィ
ールド内を偏向走査する１対の小偏向器を有し順次サブ
フィールド毎に描画していくと共に、少くとも一方の前
記大偏向器を連続的に偏向走査させることを特徴とする
荷電ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58109197A JPS601828A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 荷電ビ−ム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58109197A JPS601828A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 荷電ビ−ム描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601828A true JPS601828A (ja) | 1985-01-08 |
Family
ID=14504074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58109197A Pending JPS601828A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 荷電ビ−ム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601828A (ja) |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP58109197A patent/JPS601828A/ja active Pending
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