JPS60183788A - 印刷回路板の現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、印刷回路板上に形成されたフォトレジストを
現像する装置に係り、特に現像中の高密度の印刷回路板
に対して超音波が適用されるような現像装置に関する。

〔発明の背景〕

印刷回路板上に形成されたフォトレジストの従来の現像
装置の例について、以下第１図を用いて説明する。第１
図において、スプレー現像槽１は水平搬送コンベア５に
よって搬送される印刷回路板に対してスプレーノズル６
から有機溶剤ヲ配線パターンにスプレーして現作する現
像槽である。スプレーリンス槽６は、有機溶剤をスプレ
ーするスプレーノズル６を備え、印刷回路板上のフォト
レジストを含んだ有機溶剤を新しい有機溶剤によって洗
い流すための洗浄槽である。また水洗スプレー槽４は、
水をスプレーするスプレーノズル６を備え、印刷回路板
上の有機溶剤を除去する洗浄槽である。

このような従来の現像装置ηにおいては、配線パターン
が高密度化し、配線パターン間隔が小さくなると、次の
ような問題が生じる。すなわち、配線パターン間隔が小
さい部分では、現像カ進ムにつれて、スプレーされた有
機溶剤が配線パターンの間に溜りやすく、新しい有１幾
溶剤が供給されにくくなる。一方、パターン間隔が比較
的大きい部分では、液が流れやすいため、スプレーされ
た有機溶剤が溜ることはなく、新しい有機溶剤が充分供
給される。この有機溶剤の供給量の差がフォトレジスト
の現像速度の差ζどなり、配線パターン間隔の小さい部
分は現像速度が遅くなって、配線パターン間隔が比較的
大きい部分は現像速度が早くなる。従って、印刷回路板
の同一面内に配線パターン間隔が異なるところがあれば
、現像速度の差によって現像後のフォトレジストパター
ンの寸法が異なってしまうため、従来方法は高精度を要
求される印刷回路板には適用できない。

また、水平搬送のスプレー処理では、印刷回路板の上面
と下面でスプレーされた有機溶剤の流れ方が異なるため
、これによってもフォトレジストの現像速度が異なると
いう結果になる。さらに、印刷回路板の上面のみについ
ても中央部ではスプレーされた有機溶剤が滞留しやすく
、端部では有機溶剤が落下しやすいため、これによって
も現像速度が異なり、現像後のフォトレジストのパター
ン寸法が異なってくる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記問題に対処するものであり、均一
な配線パターン寸法を得る印刷回路板の現像装置を提供
することにある。

〔発明の概要〕

フォトレジストの現像は、未露光フォトレジストを有機
溶剤で溶解除去することであり、パターン間隔に関係な
く広い部分と狭い部分の溶解速度を同じにするには、溶
解除去すべき部分への有機溶剤の供給が同じであれば良
い。新しい有機溶剤の供給およびフォトレジストを溶解
した有機溶剤の排除を均一にできるのは、浸漬するのが
良く、それに超音波を加えることにより現像速度を早く
することができる。

すなわち、本発明は現像すべき印刷回路板が現像液（有
機溶剤）によって浸漬される現像槽中に該印刷回路板の
配線パターン面に向けて超音波を発する超音波振動子を
設けた現像装置を特徴とする。

さらに以下超音波振動子の配置方法の一例として、複数
の超音波振動子を印刷回路板が現像槽中に搬送されるル
ートに沿って設け、配線パターン面に対して間欠的に超
音波が照射される例が開示される。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第２図により説明する。この
現像装置は、浸漬現像槽７、スプレ＋３ンス槽６、水洗
スプレー槽４、水平搬送コンベア５および超音波振動子
１０を有する。浸漬現像Ｍｌ　７には、貯槽１１から循
環ポンプ１２により有機溶剤が供給され、オーバーフロ
ーした有機溶剤が貯槽１１に戻る循環系路が設けてあり
、浸漬現像槽７の液面高さを一定に保っている。また浸
漬現像槽７には、水平搬送コンベア５の上側および下（
Ｉｌｌ　Ｊこ超音波振動子１０がそれぞれ２個ずつ計４
個配置しである。浸漬現像槽７の液面高さは、これらの
超音波撮動子１０が有機溶剤中に浸される高さに設定し
である。印刷回路板は、図示されていない駆動用モータ
ーで駆動される水平搬送コンベア５により、まず浸漬現
像槽７へ搬送される。浸漬現像槽７へ入ると同時に有機
溶剤に浸漬され、未露光フォトレジストの溶解が始まる
。印刷回路板は、水平に搬送されながら、未露光フォト
レジストの溶解が除々に行なわれ、超音波振動子１０の
近くを通過するとき、印刷回路板に超音波振動が加えら
れ、未露光フォトレジストの溶解が促進される。特に印
刷回路板上の配線パターン間隔の小さい部分は、浸漬だ
けでは有機溶剤の拡散が十分性なわれないため現像速度
が遅くなるが、このようにして超音波振動を加えること
により、有機溶剤の拡散が行なわれ、”現像速度を早く
することができる。

しかし、超音波振動を長い時間加えると、有機溶剤の拡
散が十分性なわれ、未露光フォトレジストの溶解が促進
され過ぎるため、配線パターン間隔の差による現像速度
の差が大きくなる幣害が出てくる。そこで本実施例のよ
うに、超音波振動子１０を適当な間隔で設けることによ
り、印刷回路板に間欠的に超音波振動を加えると、現像
速度の差が大きくなる常客を解決できる。

このようにして、印刷回路板に対して有機溶剤に浸漬す
るだけの状態と、超音波を照射する状態を交互に繰り返
しながら、印刷回路板は搬送され、現像される。有′機
溶剤に浸漬することによって現像を行なうため、従来の
スプレーによる現像で問題のあった配線パターン間隔の
差による現像速度の差がなくなる。また印刷回路板の上
面と下面の現像速度の差は、超音波振動子１０を水平搬
送コンベア５の上側と下側に設け、超音波振動の強さ、
つまりキャビテーションの強さが水平搬送コンベア５上
の印刷回路板上で一定になるよう、超音波振動子１０と
印刷回路板との距離を設定すれば良い。

浸漬現像槽７から出てきた印刷回路板は、スプレーリン
ス槽５に入り、印刷回路板上に付着しているフォトレジ
ストを含んだ有機溶剤は新しい有機溶剤で洗い流される
。印刷回路板上の未露光フォトレジストの溶解は、浸漬
現像槽７においてほぼ完了しているため、スプレーリン
ス槽３での未露光フォトレジストの溶解は少なく、その
ためスプレーによる常客は無視できる。

本実施例によれば、印刷回路板の配線パターン間隔の差
によらず、均一なフォトレジストパターン寸法を得るよ
うに現像ができる。以下具体的に本発明の効果例を図に
より説明する。第３図は、従来のスプレー処理を行なっ
たときのマスクパターン幅とマスクパターン幅からのフ
ォトレジストパターン幅の変化量を示す。図で横軸はマ
スクパターン幅であり、縦軸はフォトレジストパターン
幅の変化量である。第４図は本発明による浸漬しながら
超音波を照射して現像を行なったときに、第５図と同様
の相関を示す図である。従来のスプレー処理では、マス
クパターン幅が７０μｍから３００μｍまで変化したと
き、現像後のフォトレジストパターン幅の変化量は＋６
．２μ絹）ら−１，８μｍまでバラつき、変化量の差は
５．０μｍとなる。一方、浸漬しながら超音波を照射す
る本発明の装置では、＋２．４μｍから＋０．４μｍで
あり、変化量の差は２．０μｍである。

従って、本発明における変化量の差は、スプレー処理の
場合のそれの４０チであり、フォトレジストパターン寸
法の均一性を大幅に改善する効果がある。

なお印刷回路板の片面にのみ配線パターンがあるときは
、超音波振動子１０を上側または下側にのみ設ければよ
い。

〔発明の効果〕

本発明によれば、均一な配線パターン寸法を得る印刷回
路板の現像装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の現像装置の構成を示す側面図、第２図は
本発明の一実施例である現像装置の構成を示す側面図、
第５図は従来の現像装置で現像した時のマスクパターン
幅とマスクパターン幅からのフォトレジストパターン幅
の変化量との相関例を示す図、第４図は本発明による現
像装置で現像した時の第３図と同様の相関例を示す図で
ある。 １・・・スプレー現像槽、 ３・・・スプレーリンス槽、 ４・・・水洗スプレー槽、 ５・・・水平搬送コンベア、 ６・・・スプレーノズル、 ７・・・浸漬現像槽、 １０・・・超音波振動子。 代理人弁理士　高　橋　明　夫 ％ｉ　／　図 第　２　固 第　３　図 第　４　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　印刷回路板上に形成されたフォトレジストを現像
   する現像装置において、現像すべき前記印刷回路板が現
   像液によって浸漬される現像槽中に前記印刷回路板の配
   線パターン面に向けて超音波を発する超音波振動子を設
   けたことを特徴とする現像装置。 ２、　前記印刷回路板が前記現像槽中に搬送されるルー
   トに沿って複数の前記超音波振動子を設け、前記配線パ
   ターン面に対して間けつ的に超音波を照射することを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の現像装置。