JPS60184036A - クレゾ−ルの製造方法 - Google Patents
クレゾ−ルの製造方法Info
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- JPS60184036A JPS60184036A JP3868884A JP3868884A JPS60184036A JP S60184036 A JPS60184036 A JP S60184036A JP 3868884 A JP3868884 A JP 3868884A JP 3868884 A JP3868884 A JP 3868884A JP S60184036 A JPS60184036 A JP S60184036A
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- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 11
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 abstract description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- HUBNCSYZTBUZHU-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C.[N].[N] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C.[N].[N] HUBNCSYZTBUZHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006701 autoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000003642 reactive oxygen metabolite Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はトルエンの直接酸化によるクレゾールの製造方
法に関する。
法に関する。
従来クレゾールはトルエンのアルキレーションによって
得られるシメンの自動酸化の生成物であるシメンヒドロ
ペルオキシドを含む酸化反応生成物を酸性触媒の存在下
に酸分解してクレゾールとアセトンを得るプロセスで製
造されている。この方法はクメン法フェノールのＨ進法
とならんでクレゾールを工業的に製造する方法としてよ
（知られているが工程が多（操作が複雑で、多くの副産
物が生成する欠点があった。
得られるシメンの自動酸化の生成物であるシメンヒドロ
ペルオキシドを含む酸化反応生成物を酸性触媒の存在下
に酸分解してクレゾールとアセトンを得るプロセスで製
造されている。この方法はクメン法フェノールのＨ進法
とならんでクレゾールを工業的に製造する方法としてよ
（知られているが工程が多（操作が複雑で、多くの副産
物が生成する欠点があった。
本発明者は酸化触媒の存在下、反応性の高い活性酸素種
である酸素アニオンラジカルを発生させる酸化剤で、ト
ルエンの直接酸化を行うと一段でクレゾールが製造でき
ることを仰り本発明にいたった。
である酸素アニオンラジカルを発生させる酸化剤で、ト
ルエンの直接酸化を行うと一段でクレゾールが製造でき
ることを仰り本発明にいたった。
すなわち、本発明はトルエンをタングステン酸化物な担
体に担持した酸化触媒の存在下、高温気相で酸素アニオ
ンラジカル（０−ラジカル）を容易に発生させる酸化剤
で酸化せしめることを特徴とするクレゾールの製造法を
提供するものである。
体に担持した酸化触媒の存在下、高温気相で酸素アニオ
ンラジカル（０−ラジカル）を容易に発生させる酸化剤
で酸化せしめることを特徴とするクレゾールの製造法を
提供するものである。
本発明に用いる酸化触媒はタングステンの酸化物を担体
に担持したものを用いる。担体に担持したタングステン
の酸化物触媒はタングステンの酸化物、塩などを触媒調
製の出発原料として使用し、従来公知の酸化触媒の調製
法、例えば蒸発乾固法、含浸法、平衡吸着法、共沈法な
どによって容易に調製することができる。担体としては
従来酸化触媒の担体として公知のものがいずれも使用で
きる。例えばシリカ、α−アルミナ、ｒ−アルミナ、シ
リカ−アルミナ、チタニア、マグネシア、けいそう±な
どを挙げることができる。これらの中ではｒ−アルミナ
、シリカを用いると特にクレゾールの選択率を向−ヒさ
せることができる。またタングステン酸化物の担体に対
する割合は酸化物として１〜４０重量％が好ましく、特
に５〜３０重量−が好ましい。
に担持したものを用いる。担体に担持したタングステン
の酸化物触媒はタングステンの酸化物、塩などを触媒調
製の出発原料として使用し、従来公知の酸化触媒の調製
法、例えば蒸発乾固法、含浸法、平衡吸着法、共沈法な
どによって容易に調製することができる。担体としては
従来酸化触媒の担体として公知のものがいずれも使用で
きる。例えばシリカ、α−アルミナ、ｒ−アルミナ、シ
リカ−アルミナ、チタニア、マグネシア、けいそう±な
どを挙げることができる。これらの中ではｒ−アルミナ
、シリカを用いると特にクレゾールの選択率を向−ヒさ
せることができる。またタングステン酸化物の担体に対
する割合は酸化物として１〜４０重量％が好ましく、特
に５〜３０重量−が好ましい。
本発明の接触反応に使用する酸化剤は酸素アニオンラジ
カルを発生する酸化剤ならどのようなものを用いても良
いが、タングステン酸化物触媒上で容易に酸素アニオン
ラジカルを与えるものとしては一酸化二窒素、−酸化窒
素等が挙げられる。特に−酸化二窒素を還元状態の触媒
上に導入して酸素アニオンラジカルを生成させる方法、
が好ましい。
カルを発生する酸化剤ならどのようなものを用いても良
いが、タングステン酸化物触媒上で容易に酸素アニオン
ラジカルを与えるものとしては一酸化二窒素、−酸化窒
素等が挙げられる。特に−酸化二窒素を還元状態の触媒
上に導入して酸素アニオンラジカルを生成させる方法、
が好ましい。
酸化剤の使用量はトルエン１モルに対してα０５〜１０
モル、好ましくは１１．５〜５モルが適当である。また
本発明ｋＣ？いてクレゾールを高選択率で得るには反応
系に水蒸気を存在させるのが好ましい。この水蒸気の使
用量はトルエン１モルに対してα０５〜２０モル、好マ
しくは１〜１５モルが適当である。
モル、好ましくは１１．５〜５モルが適当である。また
本発明ｋＣ？いてクレゾールを高選択率で得るには反応
系に水蒸気を存在させるのが好ましい。この水蒸気の使
用量はトルエン１モルに対してα０５〜２０モル、好マ
しくは１〜１５モルが適当である。
本発明を実施するに当りトルエン、−酸化二窒素、水蒸
気とともに接触反応に対して不活性なガスを希釈ガスと
して使用することができる。
気とともに接触反応に対して不活性なガスを希釈ガスと
して使用することができる。
不活性なガスとしては窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴ
ンガス、炭酸ガス等を挙げることができる。
ンガス、炭酸ガス等を挙げることができる。
本発明を実施するに当り、反応温度は３５０〜６００°
Ｃが好ましく、特に４００〜５００°Ｃが好ましい。反
応圧力は常圧でも加圧でも行うことができる。接触時間
はα１〜２０秒、特忙［ｌＬ５〜１０秒が好ましい。
Ｃが好ましく、特に４００〜５００°Ｃが好ましい。反
応圧力は常圧でも加圧でも行うことができる。接触時間
はα１〜２０秒、特忙［ｌＬ５〜１０秒が好ましい。
本発明は固定床、流動床いずれでも実施することができ
、トルエンからクレゾールを一段で製造することができ
、従来プロセスＫｊｏｉける複雑なプロセス及−びそれ
に供う副産物の生成が回避できる。
、トルエンからクレゾールを一段で製造することができ
、従来プロセスＫｊｏｉける複雑なプロセス及−びそれ
に供う副産物の生成が回避できる。
以下本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は
それらに限定され−るものではない〇実施例１ 粒状の市販ｒ−アルミナ（２０〜５０メツシユ）にパラ
タングステン酸アンモニウムヲ常法で含浸させ乾燥、焼
成を′行いｗｏ、（３ｏ重量％）／ｒ−ムム０．触媒を
得た。この触媒３ｔを内径１５■φの反応管に充填し、
反応管にトルエンニー酸化二窒素：水蒸気：ヘリウムの
モル比が１：１：６：７の混合ガスを５０ ｍｌ１分の
流量で流し、常圧下、反応温度を４００°Ｃ５接触時間
を、６秒で接触反応を行い、反応物をガスクロマトグラ
フィーにより分析を行った。その結果トルエンの反応率
は２．３％、クレゾールの選択率は４ ａ３％であった
（反応率、選択率はモルチ以下同じ）。
それらに限定され−るものではない〇実施例１ 粒状の市販ｒ−アルミナ（２０〜５０メツシユ）にパラ
タングステン酸アンモニウムヲ常法で含浸させ乾燥、焼
成を′行いｗｏ、（３ｏ重量％）／ｒ−ムム０．触媒を
得た。この触媒３ｔを内径１５■φの反応管に充填し、
反応管にトルエンニー酸化二窒素：水蒸気：ヘリウムの
モル比が１：１：６：７の混合ガスを５０ ｍｌ１分の
流量で流し、常圧下、反応温度を４００°Ｃ５接触時間
を、６秒で接触反応を行い、反応物をガスクロマトグラ
フィーにより分析を行った。その結果トルエンの反応率
は２．３％、クレゾールの選択率は４ ａ３％であった
（反応率、選択率はモルチ以下同じ）。
実施例２〜１０、比較例１〜２
Ｎｏ、／ ｒ−ＡＺ、 Ｏ，触媒のＷＯ，ノ担持量、混
合ガスのトルエンに対する一酸化窒素と水蒸気のモル比
及び反応温度を変化させる以外は実施例１と同様にトル
エンの接触反応を行った。その結果を表に示す。また比
較のため、ｒ−アルミナに担持しないＷＯ，の結果を併
記した。
合ガスのトルエンに対する一酸化窒素と水蒸気のモル比
及び反応温度を変化させる以外は実施例１と同様にトル
エンの接触反応を行った。その結果を表に示す。また比
較のため、ｒ−アルミナに担持しないＷＯ，の結果を併
記した。
Claims (1)
- トルエンをタングステンの酸化物な担体に担持した酸化
触媒の存在下、高温気相で酸素アニオンラジカルを容易
に発生させる酸化剤で酸化せしめることを特徴とするク
レゾールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3868884A JPS60184036A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | クレゾ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3868884A JPS60184036A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | クレゾ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184036A true JPS60184036A (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=12532231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3868884A Pending JPS60184036A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | クレゾ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184036A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5055623A (en) * | 1989-06-22 | 1991-10-08 | Rhone-Poulenc Chimie | Preparation of phenols by direct N2 O hydroxylation of aromatic substrates |
| US5110995A (en) * | 1991-03-12 | 1992-05-05 | Institute Of Catalysis | Preparation of phenol or phenol derivatives |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58146522A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-01 | Masakazu Iwamoto | フエノ−ルの製造方法 |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP3868884A patent/JPS60184036A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58146522A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-01 | Masakazu Iwamoto | フエノ−ルの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5055623A (en) * | 1989-06-22 | 1991-10-08 | Rhone-Poulenc Chimie | Preparation of phenols by direct N2 O hydroxylation of aromatic substrates |
| US5110995A (en) * | 1991-03-12 | 1992-05-05 | Institute Of Catalysis | Preparation of phenol or phenol derivatives |
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