JPS601885B2

JPS601885B2 - 感光性樹脂組成物および感光性エレメント

Info

Publication number: JPS601885B2
Application number: JP13793080A
Authority: JP
Inventors: 敏明石丸; 勝重塚田; 信行林; 滋鯉「淵」; 麻郎磯部
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1980-10-01
Filing date: 1980-10-01
Publication date: 1985-01-18
Also published as: JPS5761014A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は感光性樹脂組成物及び感光・性ェレメントに関
する。

更に詳しくは印刷配線板製造、金属精密加工等に使用し
得る優れた特性を有する保護被膜形成用の感光性樹脂組
成物及び該組成物の層と該層を支持する支持体フィルム
とからなる感光性ェレメントに関する。

感光性ェレメント、すなわち支持体フィルム上の実質的
に乾燥した感光性樹脂組成物の層が印刷配線板を製造す
るためのフオトレジストとして使用されることはよく知
られている。

さらに、半田マスク、化学メッキ用レジスト等に使用可
能な優れた特性を有する感光性樹脂組成物が非常に有用
であることも周知である。半田マスクの主な目的は、半
田付け時の半田付け領域を限定し半田ブリッジ等を防ぐ
こと、裸の銅導体の腐食を防止すること、及び長期にわ
たって導体間の電気絶縁性を保つことである。

これらの目的のため、従来はェポキシ樹脂等の熱硬化性
インク、あるいは光硬化性インクをスクリーン印刷して
いた。しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、
それに用いる半田マスクの形成がスクリーン印刷方式で
は精度上困難になってきた。また、配線密度の向上にと
もない、導体間の電気絶縁性の要求が厳しくなり、導体
保護膜の厚さが最低でも約２０山肌以上あることが望ま
れ始めた。スクリーン印刷方式では、１回で形成可能な
しジストの平均厚みは高々３０仏肌であり、導体凸部上
の形成されたレジストの最も薄い部分の厚みは１０仏の
以下にならざるを得ない。２度、３度と重ね印刷をすれ
ば厚膜化は可能であるが、印刷精度及び工程の煩雑化の
ため実質的には非常に困難である。

そこで、半田マスク形成用の感光性ェレメントの出現が
望まれている。感光性樹脂組成物の層の厚みが２０仏肌
以上の感光性ェレメントは有用である。印刷配線の導体
厚みは１８〆の以上のものがほとんどであるので、感光
性樹脂層の厚みが４０仏の以上の感光性ェレメントは特
に有用である。一般に感光性ドライフィルムと称して印
刷配線板の導体パターン形成用に用いられているエッチ
ング又は電解メッキ用の感光性ヱレメントは耐熱性が十
分でなく、半田マスク形成用には使用できない。そこで
耐熱性の良好な、半田マスク形成用に用いうる感光性ェ
レメント用の感光性樹脂組成の提案が行なわれている（
例えば、１榛関昭６３−５６０１８特公階５２−４３０
９２、特公昭５３一４４３４６）。

それらは、提案の一つの目的である耐熱性に優れている
が、４０仏仇以上の厚い保護膜を形成した場合には、１
２５００と−６５００の冷熱衝撃試験で５サィクル以内
にクラックが生じる。クラックの発生は膜厚が厚くなる
ほどひどくなる。これは印刷配線板の長期の信頼性を考
慮しなければならないときに大きな問題となる。スクリ
ーン印刷方式で形成される半田マスクのなかには耐冷熱
衝撃性の良好なものもある。

これはおもに、スクリーン印刷方式で形成される半田マ
スクの厚みが１０〜３０り肌であるためである。他の理
由は、一般に印刷インクは多量のフィラーを含有してい
るためである。フィラーの含有が耐冷熱衝撃性の向上に
寄与することは公知である。しかしながら、感光性ェレ
メントの場合、その感光性樹脂組成物の層は活性光を照
射する前の段階ですでに実質的に乾燥していなければな
らず、多少ともフィルム性がなければならない。このこ
とは、感光性樹脂組成物の層が、フィルム性を付与する
のを一つの目的として、線状高分子化合物を含有するこ
とを必須の条件としていることを意味する。このため、
線状高分子化合物、活性光感受性化合物及び増感剤の他
に多量のフイラーを含有させることは困難である。さら
に、本発明者らが種々検討したところ、感光性ェレメン
トの場合、その感光性樹脂組成物の層に約１の重量％以
上のフィラ−を含有させると、確かにそれにより形成さ
れた半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上するが、主要な特
性の一つである半田耐熱性が低下し、実用的でないこと
がわかった。

スクリーン印刷用光硬化性インクに用いる化合物として
、種々のウレタン（メタ）アクリレート化合物（ウレタ
ンアクリレート化合物又はウレタンメタアクリレート化
合物、以下同じ）が、耐熱性に優れているとして、提案
されている。

しかし、それらを光硬化性インクと異なり通常像的露光
・現像を伴う本発明が目的とする感光性ェレメントに応
用しようとするときには大きな困難が生じる。その第１
の困難は、提案されているウレタン（メタ）アクリレー
ト化合物の多くが線状高分子化合物、特に種々の特性で
好適なビニル系共重合線状高分子化合物と相溶しないか
あるいは相熔性が著しく悪いことである。第２の困難は
感光性ェレメントの現像に用いる不燃性溶剤、特に一般
に最も多用されている１・１・１−トリクロロェタン系
溶剤に、提案されているウレタン（メタ）ァクリレート
化合物の多くが不溶であることである。特公昭５１−１
５７３３にはかかる困難を解決したウレタン（メタ）ア
クリレート化合物が示されている。しかしながらそこに
示された組成物は半田マスク形成用としては可操性、耐
熱性等の点で使用できない。本発明の目的は半田マスク
形成に用いうる耐熱性に優れ、且つ、耐冷熱衝撃性に優
れた感光性樹脂組成物及び該組成物の層と該層を支持す
る支持体フィルムとからなる感光性ヱレメントを提供す
ることである。

本発明は ‘ａ）‘ィ）ィソホロンジイソシアナート、‘０）２価
アルコール及びし一２価アルコールの（メタ）アクリル
酸モノェステル（アクリル酸モノェステル又はメタアク
リル酸モノェステルを指す、以下同じ）を反応させて得
られるウレタンジ（メタ）アクリレート化合物（ウレタ
ンジアクリレート化合物又はウレタンジメタクリレート
化合物を指す、以下同じ）２０〜７５重量部‘ｂ｝ガ
ラス転移温度が約４０〜１５０００の線状高分子化合物
、２０〜７５重量部ならびに【ｃ｝活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤ま
たは（および）増感剤系を含有する感光性樹脂組成物に
関する。

さらに本発明は、 ‘ａ｝【ィ｝ィソホロンジィソシアナート【〇）２価ア
ルコール及びし一２価アルコールの（メタ）アクリル酸
モノェステルを反応させて得られるウレタンジ（メタ）
アクリレート化合物、２０〜７５重量部‘ｂーガラス
転移温度が約４０〜１５０００の線状高分子化合物、２
０〜７５重量部ならびに｛ｃ）活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤又は
（及び）増感剤系＊＊を含有す
る感光性樹脂組成物の層と該層を支持する支持体フィル
ムからなる感光性ェレメントに関する。

本発明の提案する感光性樹脂組成物について以下に詳細
に説明する。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は、【ィ｝ィソホロ
ンジイソシアナート、【口｝２価アルコール、及び内２
価アルコールの（メタ）アクリル酸モノェステルを反応
させて得られるゥレタンジ（メタ）アクリレート化合物
を必須成分として含有する。

‘ィ）のィソホロンジィソシアナートとしては例えば西
独のヴェバ・ヘミー（ＶｅｂａＣｈｅｍｉｅ）社が製造
し、国内では花ＤＩの略称で堺商事■が販売しているも
のが用いられる。‘ｏー及びし一の２価アルコールとし
てはメチレングリコール、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレン
グリコール、１・４ーブタンジオール、１１３ーブタン
ジオール、２・３ーブタンジオール、１・５−ペンタン
ジオール、１・６ーヘキサンジオール、１１１０ーデカ
ンジオール、ネオベンチルグリコール、１・４−シクロ
ヘキサンジメタノール、ビス（２−ヒドロキシエチル）
テレフタレート、２．３−ビス（４−ヒドロキシエトキ
シフエニル）プロパン、２・２−ビス（４−ヒドロキシ
・ジエトキシフエニル）プロパンなどがある。

し一の２価アルコールの（メタ）アクリル酸モノエステ
ルとしては２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
、２ーヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が用
いられる。‘ｏ｝の２価アルコールとげの２価アルコー
ルとは同一の２価アルコールを用いても異なる２価アル
コールを用いてもよい。

得られるウレタンジ（メタ）アクリレート化合物は式１
で表わされる。ここでＲ，は日又はＣＨ３、Ｒ２は２価
アルコールの残基、Ｒ３は２価アルコールの残基、Ｘは
ィソホロンジィソシアナートの残基である。ｎは○又は
正の整数であり、実際に得られる反応生成物はｎの値の
異なるウレタンジ（メタ）アクリレート化合物の混合物
である。本発明のウレタンジ（メタ）アクリレート化合
物を合成する場合、｛ィ｝のィソホロンジイソシアナー
トのィソシアナート当量と、‘口’の２価アルコ−ル及
びし一の２価アルコールの（メタ）アクリル酸モノェス
テルの合計のアルコール当量がほぼ等しくなるように反
応させる｛ィ｝のィソホロンジィソシアナート、｛ｏー
の２価アルコール及び内の２価アルコールの（メタ）ア
クリル酸モノェステルの量を決めることが好ましいが、
イソシアナート当量がアルコール当量に対して小過剰で
あっても少し不足してもかまわない。

ィソシアナート当量がアルコール当量に対して４・過剰
の場合は最終的に過剰のィソシアナート基をメタノール
などの１価アルコールと反応させ、フリーのイソシアナ
ート基をなくすことができる。反応させる｛〇｝の２価
アルコールのアルコール当量と、し一の２価アルコール
の（メタ）アクリル酸モノェステルのアルコール当量の
比を１にすれば（但し、反応させるィソホロンジイソシ
アナートのィソシアナート当量と全アルコール当量はほ
ぼ等しくする）ｎの数平均値は１になる。

構成炭素原子数の大きな２価アルコールを使用すると形
成される半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上するが「耐熱
性が低下する。

逆に構成炭素原子数の小さな２価アルコールを使用する
と形成される半田マスクの耐熱性はより向上するが、耐
冷熱衝撃性は低下する。｛〇汲びし一の２価アルコール
の構成炭素原子数は１〜２３固が好ましい。構成炭素原
子数の大きい２価アルコールを使用する場合の耐熱性の
低下は改善可能である。すなわち、反応させる｛ｏーの
２価アルコールのアルコール当量を、し一の２価アルコ
ールの（メタ）アクリル酸モノェステルのアルコール当
量より少なくし（但し、反応させるィソホロンジイソシ
アナートのイソシアナート当量と全アルコール当量はほ
ぼ等しくする）ｎの数平均値を１以下にすることにより
耐熱性の低下を改善できる。構成炭素原子数の小さい２
価アルコールを使用する場合の耐冷熱衝撃性の低下は同
様に改善可能である。

すなわち、反応させる‘ｏ｝の２価アルコールのアルコ
ール当量を、し一の２価アルコールの（メタ）アクリル
酸モノェステルのアルコール当量より多くし（但し、反
応させるィソホロンジィソシアナートのイソシアナート
当量と全アルコール当量はほぼ等しくする）ｎの数平均
値を１以上にすることにより耐冷熱衝撃性の低下を改善
できる。すなわち、耐熱性と耐冷熱衝撃性のバランスを
考慮すると（メタ）アクリロィル基（アクリロィル基又
はメタアクリロィル基を指す、以下同じ）の濃度の好ま
しい範囲がある。本発明者らが種々検討した結果、１×
１０‐３〜４．３×１０‐３当量／夕の（メタ）アクリ
ロィル基を含んでいるウレタンジ（メタ）アクリレート
化合物（混合物）を用いた感光性樹脂組成物を使用して
形成した半田マスクは耐熱性と耐冷熱衝撃性のバランス
に優れていることがわかった。

半田マスクにより導体が保護された印刷配線板の耐電食
性を考慮すると、反応させる‘。

｝の２価アルコールとしては、１・４−ブタンジオール
、１‘３ーブタンジオール、１・５−ペンタンジオール
、１・６ーヘキサンジオール、１・４−シクロヘキサン
ジメタノールなど、残基中にエーテル結合等の親水性基
を含まない２価アルコールが好ましい。ウレタンジ（メ
タ）アクリレート化合物の含有量は耐熱性及び耐冷熱衝
撃性から２０〜７５重量部の範囲とされる。

本発明になる感光性樹脂組成物は、ガラス転移温度が約
４０〜１５０ｑｏの線状高分子化合物を必須成分として
含有する。

ガラス転移温度が約４０午０禾満では形成される半田マ
スクの耐熱性が低い。

ガラス転移温度が約１５０℃を越えるとゥレタンジ（メ
タ）アクリレート化合物との相溶性が悪くなり、支持体
フィルムまたは基板上に感光性樹脂組成物の層を形成で
きなくなる。ピニル共重合線状高分子化合物は、ウレタ
ンジ（メタ）アクリレート化合物との相溶性、及び印刷
配線基板と感光性樹脂組成物の層との密着性の点で好ま
しい。線状高分子化合物の共重合成分としては各種のビ
ニル単量体を用いることができる。ビニル拳量体の適当
な例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチ
ル、アクリル酸エチル、スチレン、Ｑ−メチルスチレン
、ビニルトルエン、２ーヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２ーヒドロキシプロピルメタクリレ−ト、２−ヒド
ロキシエ′チルアクリレート、アクリル酸、メタクリル
酸、グリシジルメタクリレート、ｔーブチルアミノエチ
ルメタクリレート、２・３ージブロモプロピルメタクリ
レート、３−クロロ−２ーヒドロキシプロピルメタクリ
レ−′ト、アクリルアミド、アクリロニトリル等を挙げ
得る。形成される半田マスクに難燃性が必要な場合は、
共重合成分としてブロム原子を含有する単量体の使用が
可能である。

線状高分子化合物中のブロム原子の含有量としては４の
重量％までが適当で、４の重量％を越えると耐冷熱衝撃
性が低下する。

ブロム原子を含有する単量体としてはトリブロモフェニ
ル（メタ）アクリレート（トリブロモフェニルアクリレ
ート又はトリブロモフェニルメタアクリレートを指す、
以下同じ）が好適である。トリブロモフェニル（メタ）
アクリレートの共重合量としては、５重量％未満では難
燃性への効果が共重合しないものと大差なく、６５重量
％を越えると耐冷熱衝撃性が低下する。難燃性にとって
三酸化アンチモンの併用は効果的である。しかし、感光
性樹脂組成物中の三酸化アンチモンの含有量が５重量％
を越えると形成される半田マスクの耐熱性等に悪い影響
が出る。感光性樹脂組成物中の線状高分子化合物の含有
量は耐熱性及び耐冷熱衝撃性の点から２０〜７５重量部
の範囲とされる。

本発明の提案する感光性樹脂組成物は、活性光により遊
離ラジカルを生成する増感剤または（および）増感剤系
を必須成分として含有する。

使用できる増感剤としては、置換または非置換の多核キ
ノン類、例えば、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
１・２−ペンズアントラキノン、２・３−ジフヱニルア
ントラキノン等、ジアセチルおよびペンジル等のケトア
ルドニル化合物、ベンゾィン、ピバロン等のＱ−ケタル
ドニルアルコール類およびエーテル類、Ｑ−炭化水素置
換芳香族アシロイン類、例えばＱ−フェニルーベンゾィ
ン、Ｑ・Ｑ−ジェトキシアセトフェノン等、ベンゾフエ
ノン、４・４′ービスジアルキルアミノべ・ンゾフェノ
ン等の芳香族ケトン類を例示でき、これらは単独でも組
合せてもよい。使用できる増感剤系としては２１４・５
−トリアリールイミダゾール二量体と２−メルカプトベ
ンゾキナゾール、ロイコクリスタルバイオレット、トリ
ス（４−ジエチルアミノー２−メチルフェニル）メタン
等との組合せを例示できる。また、それ自体で光開始性
はないが、前述した物質と組合せて用いることにより全
体として光開始性能のより良好な増感剤系となるような
添加剤を用いることができる。例えばペンゾフェノンに
対するトリェタノールアミン等の三級アミンなどである
。これら増感剤または（および）増感剤系は上記の｛ａ
）ゥレタンジ（メタ）アクリレート化合物および（ｂー
線状高分子化合物に対して０．５〜１の重量％含有され
ることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物は、さら
に他の光重合性不飽和化合物を含有することも可能であ
る。

他の光重合性不飽和化合物の例としてはトリメチロール
プロパントリアクリレート、ベンタエリスリトールトリ
アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト等を挙げ得る。また特開昭５３−５６０１８に示され
る重合性不飽和化合物をも用いることができる。

しかし、これら他の光重合性不飽和化合物の含有量は、
耐熱性と耐冷熱衝撃性のバランスから、上記の（ａ｝ウ
レタンジ（メタ）アクリレート化合物および【ｂ）線状
高分子化合物に対して２の重量％以下であることが好ま
しく、１の重量％以下であることが特に好ましい。他の
光重合性不飽和化合物は、耐溶剤性、密着性など他の特
性をさらに向上するために添加しうるが、分子内にリン
酸基を含む（メタ）アクリル酸ェステル（アクリル酸ヱ
ステル又はメタアクリル酸ェステルを指す、以下同じ）
は形成される半田マスクと印刷配線基板との密着性をさ
らに向上するために好ましい。分子内にリン酸基を含む
（メタ）アクリル酸ェステルとしては日本化薬■製のＫ
ＡＹＮＭＥＲ■シリーズのＰＭ−１、ＰＭ−２、ＰＡ−
１またはＰＡ−２、油脂製品■製のホスマーＭ■（アシ
ッドフオスフオキシエチルメタクリレート）、ホスマー
ＣＬ■（３−クロロー２ーアシツドフオキシプロピルメ
タクリレート）等がある。

これらの分子内にリン酸基を含む（メタ）アクリル酸ェ
ステルの含有量は上記の（ａ｝ゥレタンジ（メタ）アク
リレート化合物および（ｂ｝線状高分子化合物に対して
０．０１〜５重量％が好ましい。更に、本発明の感光性
樹脂組成物はさらに他の副次的成分を含有することがで
きる。

副次的成分としては熱重合防止剤、染料、顔料、塗工性
向上剤等であり、これらの選択は通常の感光性樹脂組成
物と同機の考慮のもとに行なわれる。次に本発明の提案
する感光性ェレメントについて以下に詳細に説明する。

本発明の提案する感光性ェレメントは支持体フィルム上
に上記で詳細に説明した感光性樹脂組成物の層を形成す
ることにより得られる。

支持体フィルム上への感光性樹脂組成物の層の形成は常
法により行なうことができる。たとえば感光性樹脂組成
物をメチルエチルケトン、トルェン、塩化メチレン等の
有機溶剤に均一に溶解させ（但し、三酸化アンチモン、
顔料等は均一に分散させ）、この溶液を該支持体フィル
ム上にナイフコート法、ロールコート法等で塗布し、乾
燥して行なわれる。感光層中の残存溶剤量は特性保持の
ために２重量％以下おさえることが好ましく、１重量％
以下におさえることが特に好ましい。本発明に用いられ
る支持体フィルムは感光性ェレメントの製造時に必要な
耐熱性、耐溶剤性を有していることが必要で、活性光に
対し透明であっても不透明であってもよい。

好ましい例として、ポリエステルフィルム、ポリィミド
フイルム等公知のフィルムを挙げることができる。長尺
の感光性ェレメントを製造する場合は、製造の最終段階
で該ェレメントをロール状に巻き取る。

この場合、感圧‘性粘着テープ等で公知の方法を用い、
背面処理した支持体フィルムを用いることにより、ロー
ル状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層の支持体
フィルム背面への転着を防ぐことが可能である。同じ目
的、塵の付着を防ぐ目的等で該ェレメントの感光性樹脂
組成物の層上に剥離可能なカバーフィルムを積層するこ
とが好ましい。剥離可能なカバーフィルムの例としては
、ポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、テ
フロンフィルム、表面処理をした紙等があり、カバーフ
ィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層と支持体
フィルムとの接着力よりも、感光性樹脂組成物の層とカ
バーフィルムとの接着力がより小さいものであればよい
。

本発明の感光性ェレメントを構成する感光性樹脂組成物
の層の厚さは、適用する印刷配線板の導体間の高度の電
気絶縁性を保持するため、また、形成される半田マスク
パターンの解像度の点から２０〜２００仏肌であること
が好ましい。

次に、本発明の提案する感光性ェレメントの使用方法の
例について説明する。

本発明の提案する感光性ェレメントの基板上への積層は
容易である。

すなわち、カバーフィルムのない場合はそのまま、カバ
ーフィルムのある場合はカバーフィルムを剥離して又は
剥離しながら、加熱・加圧積層する。加熱・加圧積層は
印刷配線板製造業者では周知の常圧ラミネータを用いて
行なうことができる。基板が、導体配線ラインの形成さ
れた印刷配線板のように１０山肌以上の凹凸のあるもの
の場合は、減圧下又は真空下で積層することが好ましい
。このための装置としては特関昭５２−５２７０３号又
は特公昭５５−１３３４１号に記載される積層装置等が
ある。

積層後の露光および現像処理は常法により行ない得る。

すなわち、支持体フィルムが活性光に不透明である場合
は支持体フィルムを剥離した後、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯等の光源を用い、ネガマスクを通して像的に露光す
る。露光前後の５０ｑｏなし・し１００午○での加熱処
理は基板と感光性樹脂層との密着性を高めるために好ま
しい。現像液には１・１・１−トリクロルヱタン等の溶
剤が用いられる。

不燃性溶剤の使用は安全上好ましい。このような方法で
得ら．れた像的な保護被膜は通常のエッチング、めつき
等のための耐食膜となるが、現像後の８０ｑｏないし２
００℃での加熱処理及び活性光の露光により更に優れた
特性を有する保護被膜となる。

現像後の加熱処理及び活性光の露光の順序はどちらが先
でもよく、またそれぞれを何度かに分けて行なってもよ
い。現像後の加熱処理及び活性光の露光によって得られ
る保護被膜はトリクレン、メチルエチルケトン、インプ
ロピルアルコール、トルェン等の有機溶剤に十分耐え、
酸性水溶液又はアルカリ水溶液にも耐える。更に、耐熱
性に優れ、耐冷熱衝撃曲こも優れているので長期の信頼
性を要求される半田マスク等の永久的な保護被膜として
好適である。また、本発明の提案する感光性樹脂組成物
の溶液をディップコート法、フローコート法等で基板に
直接塗布し、溶剤乾燥後、直接あるいはポリェステルフ
ィルム等の活性光に透明なフィルムを積層後、前記の感
光性ェレメントの場合と同様にして、ネガマスクを通し
て像的に露光し、現像し、さらに加熱処理および活性光
の露光をすることによっても前記と同様に特性の優れた
保護被膜が得られる。

このように本発明になる感光性樹脂組成物または感光性
ェレメントを用いて形成される被膜は優れた化学的、物
理的特性を有することから、印刷板材料、プラスチック
レリ−フ用等にも用いられる。

次に本発明の実施例を示す、ここに示す実施例は本発明
の実施態様を示すものであり、本発明はこれによって限
定されるものではない。

実施例および比較例において部は重量部である。

実施例１（ａ｝ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａイソホ
ロンジイソシアナート１７７６部（１６当量）トルヱン（溶剤）１２０の都ジラゥ
リン酸ジーｎ−ブチルスズ（触媒）１部Ｂ１・６−へキサンジオール４７２部（８当量）Ｃ２ーヒドロキシエチルアクリレート９２８部（８当量）トルェン（溶剤）１２頚部ヒドロキ
ノン（熱重合防止剤）０．４部Ｄメタノール（
停止剤）３２部上記Ａを温度計、損梓装
置、冷却管、窒素ガス導入管及び滴下器のついた加熱及
び冷却の可能な容積約５その反応器に加え蝿拝しながら
６０℃に昇温した。

反応温度を５５〜６５ｏｏに保ちながら約３時間で均一
にＢを滴放した。Ｂ滴加後、５５〜６５ｏｏの温度で約
２時間保ち、その後５５〜６５℃の温度でＣを約３時間
で均一に滴下した。Ｃ滴下後、約５時間かけて徐々に反
応温度を８０００まで昇温した。．その後温度を６０ｑ
Ｃに下げ、Ｄを加え約１時間損拝を続けた。

このようにして不揮発分７０％のウレタンジアクリレー
ト化合物の溶液（１）を得た。‘ｂー感光性ェレメン
トの製造上記方法で得られたウレタンジアクリレート化合物の溶
液（１）７礎部（不揮発分としては４＄部）、メタクリル酸メチル・メタクリル酸・テトラヒドロフル
フリルメタクリレート（７８／２／２の重量比）共重合
物（分子量約１５万、ガラス転移温度約９ｙＣ）
４７部、２一エチルアントラキ
ノン４部、ｐーメトキシフェノール
０．１部、クリスタルバイオレット
０．１部、メチルエチルケトン
８碇郡上記の配合で感光性樹脂組成物の溶液を調整し、
厚さ約５０ム肌のポリィミドフィルム上に塗布し、室温
で２０分、８０００で１０分「１０５ｑ０で５分乾燥し
、感光性樹脂組成物の層の厚さが約６０山肌の感光性ェ
レメントを得た。

｛ｃｉ半田マスクの形成基材厚さ１．６側、銅箔厚さ１８舷肌のガラスェポキシ
鋼張積層板を像的にエッチングすることにより第１図に
示した銅パターンを有する試験基板６枚を得た。

１は銅パターン部分、２は基材の露出部分を示し、数字
の単位は側である。

この試験基板上に上記｛ｂーで得た感光性ェレメントを
曙産業■製Ａ−５００型常圧ラミネータを用い、積層し
た。積層後、支持体フィルムのポリイミドフィルムを剥
離し、第２図に示す試験用ネガマスクを用い■オーク製
作所製フェニックス３００の型露光機を使用し、９００
のＪ／めで露光した。３はネガマスクの不透明部分、４
はネガマスクの透明部分を示し数字の単位は側である。

露光後３び分放置したのち、１・１・１−トリクロルエ
タンを用いて２０ｏ○で９町砂間スプレー現像した。現
像後８０ｑｏでＩＱ分間加熱乾燥し、東芝電材欄製紫外
線照射装置を使用し２．５Ｊ′ので照射した。

その後１５０ｏｏで３び分間加熱処理した。

このようにして保護被膜を形成した６枚の試験基板のう
ち４枚をそれぞれ２５ｏｏのィソプロパノール、トルェ
ン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液にそれぞれ１０分
間浸潰したが形成した保護被膜には何の変化も認められ
なかった。他の１枚について２５５〜２６５つ０の半田
格に３晩妙間浸潰したが保護被膜は安定であり、クラッ
クの発生および基板からの剥離は認められず、半田マス
クとして十分用い得ることがわかつた。更に残り１枚の
試験基板について、ロジン系フラックスＡ−２２６（タ
ムラ化研■製）を用いて、２５５〜２６５００の半田格
で３秒間半田付処理をしたのち、ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０
班１０７Ｄ条件Ｂ（−６５Ｃ０、３び分間こ常温５分以
内こ１２５ｑｏ、３０分間）、２０サイクルの冷熱衝撃
試験を行なったが、保護被膜にクラックの発生はなく長
期間の信頼性が非常に優れていることがわかった。実施
例２ｔａ｝ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａ
イソホロンジイソシアナート１７７６部（１６当量）トルェン（溶剤）８０の郭ジラウリ
ン酸ジーｎーブチルスズ（触媒）１部Ｂ１・４ーシクロヘキサンジメタノール３６庇都（５
当量）２ーヒドロキシエチルアクリレート３４８部（３当量）メチルエチルケトン（溶剤）５２碇邦Ｃ２ーヒ
ドロキシエチルアクリレート９２８部（８当量）トルヱン（溶剤）８礎部Ｐ−メトキ
シフェノール（熱重合防止剤）０．３部Ｄエタノール（停止剤）２＄部実施例
１一【ａ｝と同様にして上記配合でウレタンジアクリレ
ート化合物の溶液を得た。

その後、減圧乾燥して粘稲なウレタンジアクリレート化
合物（Ｄ）を得た。（ｂ｝感光性ェレメントの製造上記方法で得られたウレタンジアクリレート化合物（ロ
）４碇部、メタリル酸メチ
ル・アクリル酸メチル・２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート・アクリロニトリル（８０／１０／５／５重量比
）共重合物（分子量約１０万、ガラス転移温度約９０ｑ
ｏ）５７部、ペンゾフェノン
２．７部、ミヒラーケトン０
．森部、ｐ−メトキシフェノール０．１部
、ビクトリアピュアブルー０．０５部、メ
チルエチルケトン８の部、トルエン
４碇部第３図に示す
装置を用いて上記配合の感光性樹脂組成物の溶液１０を
２５仏の厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム１
６上に均一に塗布し８０〜１００ｏｏの熱風対流式乾燥
機１１で約１０分間乾燥した。

感光性樹脂組成物の層の乾燥後の厚さは約１００ム机で
あった。感光性樹脂組成物の層の上には、更に第３図の
ように厚さ約２５仏肌のポリエチレンフィルム１７をカ
バーフィルムとして張り合わせた。第３図において、５
はポリエチレンテレフタレートフイルムくり出しロール
、６，７，８はロール、９はナイフ、１２はポリエチレ
ンフィルムくり出しロール、１３，１４はロール、１５
は感光性ェレメント巻き取りロ−ルである。‘ｃ｝半
田マスクの形成上記で得られた感光性ェレメントを、第１図に示す銅パ
ターン（銅厚さ約７０ム肌）の形成された試験用印刷配
線板（ガラスェポキシ基板、厚さ１．６肋）上に日立化
成工業■製真空ラミネータ（真空度３仇舷Ｈｇ、ラミネ
ート温度１００００、ラミネートスピード２の／分）を
用い、加熱加圧積層した。

積層後６０００で５分間加熱し、室温で３時間放置した
後、実施例１一｛ｃ｝と同様に第２図に示した試験用ネ
ガマスクを通して１５０机Ｊ／めで露光した。露光後８
０ｑｏで５分間加熱し、室温で２０分間放置したのち、
支持体フィルムを剥離し、１・１・１−トリクロルエタ
ンを用い、２０ｑ○で１５０秒間スプレー現像した。

現像後８０つ０で１０分間加熱乾燥し、３．０Ｊ′めで
紫外線照射し、１３０ｏｏで２時間加熱処理した。

このようにして保護被膜を形成した試験基板について実
施例１一｛ｃ｝と同様にして２５ｑ０のィソプロパノー
ル、トルェン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液で１０
分間浸債試験したが、形成した保護被膜には何の変化も
認められなかった。また２５５〜２６５午０の半田格で
３現鴎、間浸濃試験したが問題なく、耐熱性に優れてい
た。さりこ実施例１−ｔｃ’と同様の半田付処理後ＭＩ
Ｌ−ＳＴＤ−２０が１０７Ｄ条件Ｂ、２０サイクル
の冷熱衝撃試験でも形成された被膜にクラックの発生は
認められなかった。実施例３実施例２−【ａ’で得られたウレタンジアクリレート化
合物（ロ）６碇瓜メタクリル酸
メチル・メタクリル酸（９８／２重量比）共重合物（分
子量約１０万、ガラス転移温度約１０５Ｃ０）
３７部、ペンゾフェノン
２．７部、ミヒラーケトン
０．３部、Ｐ−メトキシフェノール
０．１部、ビクトリアピュアブルー０
．０２邦、メチルエチルケトン６礎都、トルエン
７礎部上記配合の感光性
樹脂組成物の溶液を用い、実施例２−‘ｂ）と同様に第
３図に示す装置を使用して感光性樹脂組成物の層の厚さ
約８０仏のの感光性ェレメントを得た。

この感光性ェレメントを、第１図に示す銅パターン（銅
厚さ約５０仏の）の形成された試験用印刷配線板上に実
施例２−【ｃ｝と同様にして減圧下で積層した。さらに
実施例２一【ｃーと同機の処理を行なって該試験基板上
に像的な保護被膜を形成した。形成された保護被膜は、
２５ｏ０のィソプロパノール、トルエン、トリクレン、
メチルエチルケトン、１０％塩酸水溶液又は１０％Ｎａ
ＯＨ水溶液に対する１０分間の浸漬試験で何ら問題なく
、実施例１−‘ｃｉと同様の半田付処理後２５５〜２６
５ｑｏ半田格に対する３０秒間浸漬試験でのクラックの
発生、基材からの剥離はなく耐熱性に優れていた。さら
に実施例１−‘ｃーと同様の半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴ
Ｄ−２０が１０７Ｄ条件Ｂ、２０サイクルの冷熱衝撃
試験でもクラックの発生はなかった。比較例１実施例２一‘ｂ）のウレタンジアクリレート化合物（ロ
）にかえてトリメチロールブロパントリアクリレートを
用い、他は実施例２一【ｂ｝及び実施例２−‘ｃ｝と同
様の操作を行なった。

最終的に得られた保護被膜は、２５５〜２６５ｑｏの半
田格に対する３町砂間の浸溝試験で一部基板からの剥離
が認められた。さらに実施例１−｛ｃーと同様の半田付
処理後ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０が１０７Ｄ条件Ｂでの
冷熱衝撃試験で５サイクル以内にクラックが発生した。
比較例２実施例３のウレタンジアクリレート化合物（Ｄ）６の部
‘こかえて、ベンタエリスリトールトリアクリレート２
０部及びビスフェノールＡのジー（３−アクリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル）ェステル４碇都を用い、他
は実施例３と同様の操作を行なった。

最終的に得られた保護被膜は実施例１−【ｃーと同様の
半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０が１０７Ｄ条件
Ｂでの冷熱衝撃試験で５サイクル以内にクラックが発生
した。また、１０％塩酸水溶液に対する１０分間浸債試
験で保護被膜の一部に基板からの浮きが認められた。比
較例３トリメチロールプロパントリアクリレート３〇部、ポリプロピレングリコール（平均分子量１０００）ジア
クリレート１の部、メタクリル
酸メチル・メタクリル酸・テトラヒド。

フルフリルメタクリレート（７８／２ノ２の重量比）共
重合物（分子量約１５方、ガラス転移温度約９５ｑｏ）
５館部、ペンゾフェノン
２．７部、ミヒラーケトン
０．３部、Ｐ−メトキシフェノー
ル０．５部、メチルエチルケトン
２０礎郡上記配合の感光性樹脂組成物の
溶液を用い、他は実施例３と同様の操作を行なった。最
終的に得られた保護被膜は、耐溶剤性及び耐熱性に優れ
ていたが、実施例１−‘ｃ｝と同様の半田付処理後ＭＩ
Ｌ−ＳＴＤ−２０犯１０７Ｄ条件Ｂでの冷熱衝撃試
験で１０サイクル以内にクラックが発生した。実施例
４｛ａ｝ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａイソ
ホロンジイソシアナート１７７６部（１６当量）トルェン（溶剤）１２０碇部ジラウ
リン酸ジーｎ−プチルスズ（触媒）１部Ｂテトラエチレングリコール７７６部（８当量）Ｃ２ーヒドロキシプロピルアクリレート１０４碇都（
８当量）トルェン（溶剤）３０碇都ヒドロキ
ノン（熱重合防止剤）０．４部Ｄメタノール（
停止剤）３２部実施例１−【ａーと同様
にして上記配合でウレタンジアクリレート化合物の溶液
を得た。

その後、減圧乾燥して粘稲なウレタンジアクリレート化
合物（ｍ）を得た。‘ｂ｝感光性ェレメントの製造及
び半田マスクの形成上記方法で得られたウレタンジアク
リレート化合物（血）６
碇部、メタクリル酸メチル・メタクリル酸・トリブロモ
フェニルアクリレート（３８／２／６の重量比）共重合
物（分子量約１２万、ガラス転移温度約１２０ｑｏ、ブ
ロム含量３０重量％）３７部、ペンゾフェノン
２．７部、４・４ービス（ジ
エチルアミノ）ペンゾフエノン
０．３部、２・２ーメチレンビス（４−エ
チル−６一ｔ−ブチルフエノール）０
．群部、ビクトリアピュアブルー０．０２
部、メチルエチルケトン１０傍部、
トルエン５碇都上記
配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い、他は実施例２−
｛ｂ｝及び実施例２一〔ｃ｝と同様の操作を行なった。

最終的に得られた保護被膜は２５℃のイソプロパノール
、トルエン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液に対する
１０分間浸贋試験で何ら問題なく、また２５５〜２６５
午○の半田格に３硯砂間浸潰したが、剥離、クラックな
どの変化は認められなかった。実施例１一｛ｃ｝と同様
の半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０班１０７Ｄ条
件Ｂ、２０サイクルの冷熱衝撃試験でもクラツクの発生
はなかった。また、日立化成■製印刷配線基板ＭＣＬ−
Ｅ−６８（ＵＬ難燃グレード９４Ｖ−０）の０．８肋厚
基材上に上記と同様の操作で全面に保護被膜を形成した
。

このものはＵＬの９４Ｖ−１規格を満足した。実施例
５【ａ）ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａイソホロ
ンジイソシアナート１７７６部（１６当量）トルェン（溶剤）１００庇部ジラゥリ
ン酸ジーｎ−プチルスズ（触媒）１部Ｂエチレングリコール３１碇部（１０当量）Ｃ
２−ヒドロキシエチルアクリレート６９６部（６当量
）トルェン（溶剤）１５礎都ヒドロキ
ノン（熱重合防止剤）０．３部Ｄメタノール（
停止剤）３２部実施例２−｛ａ｝と同様
にして上記配合でウレタンジアクリレート化合物の溶液
を得た。

その後、減圧乾燥して粘鋼なウレタンジアクリレート化
合物（Ｗ）を得た。【ｂー活性光感受性ェレメントの
製造及び半田マスクの形成上記方法で得られたウレタン
ジアクリレート化合物（Ｗ）
５礎部、メタクリル酸メチル・アクリル酸メチル・ア
クリル酸・テトラヒドロフルフリルメタクリレート・ト
リブロモフエニルアクリレート（４０／２３／２／１０
／２５重量比）共重合物（分子量約８万、ガラス転移温
度約７５ｏｏ、ブロム含量１５重量％）
４７部、ペンゾフエノン
２．作部、ミヒラケトン
０．＄部、２・２′ーメチレンビス（４−メチ
ル−６一ｔープチルフェノール）０
．５部、ビクトリアピュアブルー０．０２
部、メチルエチルケトン１０碇部、
トルエン５庇部上記
配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い、他は実施例２一
｛ｂ’及び実施例２一【ｃーと同様の操作を行なった。

最終的に得られた保護被膜は２６０のィソプロパノール
、トルェン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液に対する
１粉ご間浸漬試験で何ら問題なく、また２５５〜２６５
ｑｏの半田格に３０秒間浸潰したが、剥離、クラックな
どの変化は認められなかった。さらに実施例１一‘ｃ｝
と同様の半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０餌１０７
Ｄ条件Ｂ、２０サイクルの冷熱衝撃試験でもクラック
の発生はなかった。また、日立化成■製印刷配線基板Ｍ
山一８一６８の１．６側厚基村上に上記と同様の操作で
全面に保護被膜を形成した。このものはＵＬの９４Ｖ−
１規格を満足した。実施例６実施例５−｛ｂーの感光性樹脂組成物の溶液にさらに三
酸化アンチモン１部を加えた他は実施例５−‘ｂ｝と同
様の操作を行なった。

最終的に得られた保護被膜の耐溶剤性、耐熱性及び耐冷
熱衝撃性は実施例５−他と同様の結果で良好であった。
また、日立化成■製印刷配線基板ＭＣＬ−Ｅ一６８の１
．６側厚基村上に上記と同様の操作で全面に保護被膜を
形成した。このものはＵＬの９４Ｖ−０規格を満足した
。実施例７〔ａ｝ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａインホ
ロンジイソシアナ−ト１７７６部（１６当量）トルェン（溶剤）１００碇部ジラゥリ
ン酸ジーｎーブチルスズ（触媒）１部Ｂ１・４ーブタソジオール３６碇郡（８当量）Ｃ２
−ヒドロキシエチルメタクリレート１０４庇郡（８当量
）トルェン（溶剤）２８碇部ヒドロキ
ノン（熱重合防止剤）０．３部Ｄメタノール（
停止剤）３２部実施例１−（ａ｝と同様
にして、上記配合でウレタンジメタクリレート化合物の
溶液を得た。

その後、減圧乾燥して粘穂なウレタンジメタクリレート
化合物（Ｖ）を得た。【ｂ｝感光性ェレメントの製造
及び半田マスクの形成上記方法で得られたウレタンジメ
タクリレート化合物（Ｖ）４
戊邦、メタクリル酸メチル・メタクリル酸、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート・アクリロニトリル・トリ
ブロモフエニルアクリレート（４３ノ２／２０／５／３
の重量比）共重合物（分子量約１５方、ガラス転移温度
約１００℃、ブロム含量１頚重量％）
５７部、ペンゾフェノン
２．７部、ミヒラケトン
０．３部、Ｐ−メトキシフェノール
０．０５部、ビクトリアピュアブルー０．
０５部、トルエン１
５の郭上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い他は実
施例２−‘ｂ｝及び実施例２−【ｃ｝と同様の操作を行
なった。

最終的に得られた保護被膜は２５ｑｏのイソプロパノー
ル、トルェン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液に対す
る１０分間浸債試験で何ら問題なく、また２５５〜２６
５ｏｏの半田格に３の砂・間浸潰したが、剥離、クラッ
クなどの変化は認められなかった。さらに実施例１−【
ｃ｝と同様の半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴＤ−２０が１０
７Ｄ条件Ｂ、２０サイクルの冷熱衝撃試験でもクラッ
クの発生はなかった。また、日立化成■製印刷配線基板
ＭＩＬ−Ｅ−６８の１．６側厚基材上に上記と同様の操
作で全面に保護被膜を形成した。このものはＵＬの９４
Ｖ−１規格を満足した。実施例８ ‘ａ｝ウレタンジアクリレート化合物の合成Ａイソホ
ロンジイソシアナート１７７６部（１６当量）トルェン（溶剤）１００の都ジラウ
リン酸ジーｎーブチルスズ（触媒）１部Ｂ１・４ーシクロヘキサンジメタノール２１６部（３
当量）テトラエチレングリコール２９１部（３当量）メチルエチルケトン（溶剤）２０碇部Ｃ２ーヒ
ドロキシアクリレート１１６の部（１０当量）トルェン（溶剤）２０礎部Ｐ−メト
キシフェノール（熱重合防止剤）〇‐２部Ｄメタノール３２都実施
例１一【ａ’と同様にして上記配合でウレタンジアクリ
レート化合物の溶液を得た。

その後、減圧乾燥して粘鋼なウレタンジアクリレ−ト化
合物（の）を得た。‘ｂー感光性ェレメントの製造上記方法で得られたウレタンジァクリレート化合物（Ｗ
）４７部、メタクリル酸
メチル・アクリル酸メチル・アクリル酸・テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート・２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート・トリフロモフエニルアクリレート（４３／
１０／２／５／５／３５重量比）共重合物（分子量約１
５方、ガラス転移温度約９０ご０、ブロム含量２２重量
％）５礎邦、ペンゾフェノン
２．７部、ミヒラーケトン０
．３部、Ｐーメトキシフェノール０．０
５部、ビクトリアブルー０．０２
部、ＫＡＹＡＭＥＲＰＡ−２（日本化薬■製、リン酸基
を含有する２価のアクリレート）０．１部、メチル
エチルケトン５礎部、トルエン
１０の都上記配合の感光
性樹脂組成物の溶液を用い、実施例２一（ｂ｝と同様に
第３図に示す装置を使用して感光性樹脂組成物の層の厚
さ約５０ｒ仇の感光性ェレメントを得た。

‘ｃ｝半田マスクの形成上記で得た感光性ェレメントを、第１図に示す銅パター
ン（銅厚さ約１８ｒ仇）の形成された試験用印刷配線板
上に実施例２−｛ｃ｝と同様にして減圧下で積層した。

積層後室温で３時間放置し、実施例１−｛ｃ’と同様に
第２図に示した試験用ネガマスクを通して２００ｍＪ′
ので露光した。露光後８０００で５分間加熱し、室温で
２粉ふ間放冷したのち、支持体フィルムを剥離し、１・
１・１−トリクロルェタンを用い、２００○で７餌砂間
スプレー現像した。現像後８０００で３■ご間加熱乾燥
し、さらに１２０ｏｏで３０分間、１５０つ０で３０分
間加熱した。室温で１０分間放冷後、１０Ｊ／めで紫外
線照射し、さらに１３０ｑＣで２時間加熱処理した。こ
のようにして保護被膜を形成した試験基板について実施
例１−（ｃ｝と同様にして、２５ｑｏのィソプロパノー
ル、トルェン、トリクレン又は１０％塩酸水溶液に対す
る１び分間浸贋試験をしたが、何ら問題なかった。また
２５５〜２６５００の半田格に対する３硯砂間浸債試験
でも保護被膜の剥離はなく耐熱性は良好であった。さら
に実施例１−【ｃ｝と同様の半田付処理後ＭＩＬ−ＳＴ
Ｄ−２０が１０７Ｄ条件Ｂ、２０サイクルの冷熱衝撃試
験でもクラックは発生しなかった。クロスカット試験で
も保護被膜の剥離はなく、密着性が優れていた。また、
日立化成■製印刷配線基板ＭＣＬ−Ｂ−６８の０．８肌
厚基板材上に上言己と同様の操作で全面に保護被膜を形
成した。このものはＵＬの９４Ｖ−１規格を満足した。
比較例４実施例１一｛ａ）のィソホロンジィソシアナ
ート１７７６部（１６当量）にかえて、ヘキサメチレン
ジイソシアナート１３４４部（１６当量）を用いた他は
実施例１−｛ａーと同様にしてウレタンジアクリレート
化合物を合成した。

生成したウレタンジアクＩＪレート化合物（刑）は反応
溶剤のトルェンには不熔で生成とともにワックス状に分
離した。得られたウレタンジアクリレート化合物（Ｗ）
はメチルエチルケトン、１・１・１−トリクロルェタン
には難漆で、アセトン、クロロホルムには溶解した。得
られたウレタンジアクリレート化合物（肌）５〇部、実
施例１一脚で用いた共重合物４７部、ペンゾ
フエノン２．７部、ミヒラ
ーケトン０．森部、ｐーメト
キシフェノール０．０５部、ビクトリア
ピュアブルー０．０２都、アセトン
５礎部、クロロホルム
１０碇郭上記配合の感光性樹
脂組成物の溶液を、実施例２一【ｂ｝と同機に第３図に
示す装置を使用してポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に塗布し、熱風乾燥したが、溶剤乾燥と同時にウレ
タンジアクリレート化合物（血）と共重合物が相分離し
、好ましい感光性ェレメントは得られなかった。

さらに実施例２〜実施例８で用いた共重合物を使用して
みたが上記と同様に相溶性が悪く、好ましい感光性ェレ
メントは得られなかった。以上、実施例で詳細に説明し
た様に本発明になる感光性樹脂組成物および感光性ェレ
メントは、耐熱性、耐冷熱衝撃性及び耐溶剤性の優れた
保護被膜を形成し、形成された保護被膜は長期の信頼性
を要求される半田マスクに好適である。

尚、上記は本発明になる感光性樹脂組成物および感光性
ェレメントの一実施例にすぎず、当然、本発明の精神を
逸脱しない範囲で種々の変形及び使用方法が可能である
。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例で用いた試験基板の銅パターンを示す図
、第２図は実施例で用いた試験用ネガマスクを示す図お
よび第３図は実施例で用いた感光性ェレメントの製造装
置の略図である。符号の説明、１・・・・・・鋼パターン部分、２・・・
…基材の露出部分、３・・・・・・ネガマスクの不透明
部分、夕４・・・・・・ネガマスクの透明部分、５・・
・・・・ポリエチレンテレフタレートフイルムくり出し
ロール、６，７，８・・・・・・ロール、９・・・・・
・ナイフ、１０・・・・・・感光性樹脂組成物の溶液、
１１・・・・・・乾燥機、１２…・・・ポリエチレン
フィルムくり出しロール、１３，１０４・・・・・・
ロール、１５・・・・・・感光性ェレメント巻き取りロ
ール、１６……ポリエチレンテレフタレートフイルム、
１７……ポリエチレンフイルム。菊ー図東Ｚ図第３図

Claims

【特許請求の範囲】１（ａ）（イ）イソホロンジイソシアナート、（ロ）
２価アルコールのアクリル酸モノエステル又はメタアク
リル酸モノエステル、を反応させて得られるウレタンジ
アクリレート化合物又はウレタンジメタクリレート化合
物、２０〜７５重量部（ｂ）ガラス転位温度が約４０〜
１５０℃の線状高分子化合物、２０〜７５重量部ならび
に（ｃ）活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤又は
（及び）増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物。２線状高分子化合物がビニル系共重合線状高分子化合
物である特許請求の範囲第１項記載の感光性樹脂組成物
。３線状高分子化合物が４０重量％までのブロム原子を
含有する線状高分子化合物である特許請求の範囲第１項
又は第２項記載の感光性樹脂組成物。４線状高分子化合物が共重合組成として５〜６５重量
％のトリブロモフエニルアクリレート又はトリブロモフ
エニルメタアクリレートを含有する線状高分子化合物で
ある特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記載の感
光性樹脂組成物。５（ロ）及び（ハ）の２価アルコールが１〜２３個の
炭素原子を含む２価アルコールである特許請求の範囲第
１項、第２項、第３項又は第４項記載の感光性樹脂組成
物。６（ロ）の２価アルコールが、１・４−ブタンジオー
ル、１・３−ブタンジオール、１・５−ペンタンジオー
ル、１・６−ヘキサンジオールおよび１・４−シクロヘ
キサンジメタノールからなる群から選ばれた２価アルコ
ールである特許請求の範囲第１項、第２項、第３項、第
４項又は第５項記載の感光性樹脂組成物。７２価アルコールのアクリル酸モノエステル又はメタ
アクリル酸モノエステルがヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロ
ピルアクリレートおよびヒドロキシプロピルメタクリレ
ートからなる群から選ばれた化合物である特許請求の範
囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項又は第６項
記載の感光性樹脂組成物。８ウレタンジアクリレート化合物又はウレタンジメタ
クリレート化合物が１×１０＾−＾３〜４．３×１０＾
−＾３当量／ｇのアクリロイル基又はメタアクリロイル
基を含むウレタンジアクリレート化合物又はウレタンジ
メタアクリレート化合物である特許請求の範囲第１項、
第２項、第３項、第４項、第５項、第６項又は第７項記
載の感光性樹脂組成物。９５重量％までの三酸化アンチモンを含有する、特許
請求の範囲第１項、第２項、第３項、第４項、第５項、
第６項、第７項又は第８項記載の感光性樹脂組成物。１０（ａ）（イ）イソホロンジイソシアナート（ロ）
２価アルコール及び（ハ）２価アルコールのアクリル酸
モノエステル又はメタアクリル酸モノエステルを反応さ
せて得られるウレタンジアクリレート化合物又はウレタ
ンジメタクリレート化合物、２０〜７５重量部（ｂ）ガ
ラス転位温度が約４０〜１５０℃の線状高分子化合物、
２０〜７５重量部ならびに（ｃ）活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤又は
（及び）増感剤系を含有する感光性樹脂組成物の層と該
層を支持する支持体フイルムからなる感光性エレメント
。１１線状高分子化合物がビニル系共重合線状高分子化
合物である特許請求の範囲第１０項記載の感光性エレメ
ント。１２線状高分子化合物が４０重量％までのブロム原子
を含有する線状高分子化合物である特許請求の範囲第１
０項又は第１１項記載の感光性エレメント。１３線状高分子化合物が共重合組成として５〜６５重
量％のトリブロモフエニルアクリレート又はトリブロモ
フエニルメタアクリレートを含有する線状高分子化合物
である特許請求の範囲第１０項、第１１項又は第１２項
記載の感光性エレメント。１４（ロ）及び（ハ）の２価アルコールが１〜２３個
の炭素原子を含む２価アルコールである特許請求の範囲
第１０項、第１１項、第１２項又は第１３項記載の感光
性エレメント。１５（ロ）の２価アルコールが、１・４−ブタンジオ
ール、１・３−ブタンジオール、１・５−ペンタンジオ
ール、１・６−ヘキサンジオールおよび１・４−シクロ
ヘキサンジメタノールからなる群から選ばれた２価アル
コールである特許請求の範囲第１０項、第１１項、第１
２項、第１３項又は第１４項記載の感光性エレメント。１６２価アルコールのアクリル酸モノエステル又はメ
タアクリル酸モノエステルがヒドロキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート及びヒドロキシプロピルメタクリレ
ートからなる群から選ばれた化合物である特許請求の範
囲第１０項、第１１項、第１２項、第１３項、第１４項
又は第１５項記載の感光性エレメント。１７ウレタン
ジアクリレート化合物又はウレタンジメタクリレート化
合物が１×１０＾−＾３〜４．３×１０＾−＾３当量／
ｇのアクリロイル基又はメタアクリロイル基を含むウレ
タンジアクリレート化合物はウレタンジメタクリレート
化合物である特許請求の範囲第１０項、第１１項、第１
２項、第１３項、第１４項、第１５項又は第１６項記載
の感光性エレメント。１８感光性樹脂組成物が５重量％までの三酸化アンチ
モンを含有する特許請求の範囲第１０項、第１１項、第
１２項、第１３項、第１４項、第１５項、第１６項又は
第１７項記載の感光性エレメント。１９剥離可能なカバーフイルムを感光性樹脂組成物の
層上に積層してなる特許請求の範囲第１０項、第１１項
、第１２項、第１３項、第１４項、第１５項、第１６項
、第１７項又は第１８項記載の感光性エレメント。２０感光性樹脂組成物の層が２０〜２００μｍの厚さ
である特許請求の範囲第１０項、第１１項、第１２項、
第１３項、第１４項、第１５項、第１６項、第１７項、
第１８項又は第１９項記載の感光性エレメント。