JPS60189852A - イオンマイクロアナライザの試料微動装置 - Google Patents
イオンマイクロアナライザの試料微動装置Info
- Publication number
- JPS60189852A JPS60189852A JP59043948A JP4394884A JPS60189852A JP S60189852 A JPS60189852 A JP S60189852A JP 59043948 A JP59043948 A JP 59043948A JP 4394884 A JP4394884 A JP 4394884A JP S60189852 A JPS60189852 A JP S60189852A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- thin plate
- neutral atoms
- fine movement
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- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、I MΔの試料微動装置に係り、特にスパッ
タリングにより試料表面汚染防止を施したIMAの試料
微動装置に関する。
タリングにより試料表面汚染防止を施したIMAの試料
微動装置に関する。
第1図は、従来のIMAの(イオンマイクロアIMAは
試料2に一次イオンビー111を照射した時、試料2よ
り放出する中性原子4の中に含まれる二次イオン3を分
析するものである。試料2は、基盤7の上へ組上げられ
たX方向試料微動機構6とY方向試料微動機構5の上に
搭載し、XY平面を二次元的に微動される。2方向およ
び回転、傾斜等の微動機構を有する場合、基盤7より更
に下方(図中)にそれらの機能が組込j、れている。
試料2に一次イオンビー111を照射した時、試料2よ
り放出する中性原子4の中に含まれる二次イオン3を分
析するものである。試料2は、基盤7の上へ組上げられ
たX方向試料微動機構6とY方向試料微動機構5の上に
搭載し、XY平面を二次元的に微動される。2方向およ
び回転、傾斜等の微動機構を有する場合、基盤7より更
に下方(図中)にそれらの機能が組込j、れている。
今、−次イオンビーム1を試料2のAAに照射すると、
A点より試料の中性原子4が放射状に放出する。第2図
は、中性原子放出、つまりスパッタリングの詳細を示し
たものである。
A点より試料の中性原子4が放射状に放出する。第2図
は、中性原子放出、つまりスパッタリングの詳細を示し
たものである。
試料面に浅い角度で放出し中性駈〔子4Δは、再び試料
面B点に戻る。また試料近傍の電極8に衝突し反射した
中性原子4Bも再び試料表面へ戻る。
面B点に戻る。また試料近傍の電極8に衝突し反射した
中性原子4Bも再び試料表面へ戻る。
試料のA点分析後、B点の分析をする場合、B点からの
二次イオンの情報は中性原子4A、4Bが重畳し正確で
はない。この様にスパッタリングにより試料表面を汚染
することにより試料面の分析〔発明の目的〕 本発明の目的とする所は、上記の如く、スパッタリング
による試料表面汚染による分析精度の低下を防止した試
料微動装置を提供することにある。
二次イオンの情報は中性原子4A、4Bが重畳し正確で
はない。この様にスパッタリングにより試料表面を汚染
することにより試料面の分析〔発明の目的〕 本発明の目的とする所は、上記の如く、スパッタリング
による試料表面汚染による分析精度の低下を防止した試
料微動装置を提供することにある。
本発明は、−次イオンビームを試料に照射することによ
り、試料面より放出する二次イオンを分析するイオンマ
イクロアナライザの試料微動装置において、−次イオン
ビーム照射部に開孔を有した薄板をを試料に極めて近接
して具備し、試料の水平微動機構の基板部より支え試料
と同電位を供給したことを特徴とするイオンマイクロア
ナライザの試料微動装置である。
り、試料面より放出する二次イオンを分析するイオンマ
イクロアナライザの試料微動装置において、−次イオン
ビーム照射部に開孔を有した薄板をを試料に極めて近接
して具備し、試料の水平微動機構の基板部より支え試料
と同電位を供給したことを特徴とするイオンマイクロア
ナライザの試料微動装置である。
第3図は、本発明の一実施例を示すものである。
試料微動の基盤7より、支柱11により薄板12を支え
ている。この薄板12には、−次イオン照射部にのみ開
孔12Aを有している。
ている。この薄板12には、−次イオン照射部にのみ開
孔12Aを有している。
この開孔12Aより、−次イオン1.中性原子4、二次
イオン3が出入りする。この薄板12は、試料2に極め
て近接し、−次イオンの照射および二次イオンの引出し
の電界に対して具備前と同じである。試料2をXY平面
に移動した場合を考えると上記、二次イオンの引出電界
か、Wt板I2て決り、一定となる利点がある。
イオン3が出入りする。この薄板12は、試料2に極め
て近接し、−次イオンの照射および二次イオンの引出し
の電界に対して具備前と同じである。試料2をXY平面
に移動した場合を考えると上記、二次イオンの引出電界
か、Wt板I2て決り、一定となる利点がある。
次に二次イオンビームが、試料2のA点を照射した時の
ことを考える。試料面に浅い角度で放出した中性原子4
Aは、薄板12上へ戻る。また、試料近傍の電極8に反
射した中性原子4Bも、薄板12上へ戻る。故に、試料
2のB点は汚染されず、正確な分析ができる。
ことを考える。試料面に浅い角度で放出した中性原子4
Aは、薄板12上へ戻る。また、試料近傍の電極8に反
射した中性原子4Bも、薄板12上へ戻る。故に、試料
2のB点は汚染されず、正確な分析ができる。
以上の如く試料微動の基盤より支えたFdt板を具備す
ることにより、試料微動時にも二次イオン引出電界が一
定となる。二次イオンの引出効率が一定となり分析精度
を増す。またスパッタリングによる汚染を防止でき、分
析精度を向上させることができる。
ることにより、試料微動時にも二次イオン引出電界が一
定となる。二次イオンの引出効率が一定となり分析精度
を増す。またスパッタリングによる汚染を防止でき、分
析精度を向上させることができる。
第1図は従来の試料微動装置の説明図、第2図はスパッ
タリング3Yi細図、第3図は本発明の一実施例の試料
微動装置の説明図である。 7・・・基盤、Jl・・・支柱、12A・・・開口。 晰1[] 乃2目
タリング3Yi細図、第3図は本発明の一実施例の試料
微動装置の説明図である。 7・・・基盤、Jl・・・支柱、12A・・・開口。 晰1[] 乃2目
Claims (1)
- 1、−次イオンビームを試料に照射することにより、試
料面より放出する二次イオンを分析するイオンマイクロ
アナライザの試料微動装置において、−次イオンビーム
照射部に開孔を有した薄板を試料に極めて近接して具備
し、試料の水平微動機構の基板部より支え試料と同電位
を供給したことをRmとするイオンマイクロアナライザ
の試料微動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59043948A JPS60189852A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | イオンマイクロアナライザの試料微動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59043948A JPS60189852A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | イオンマイクロアナライザの試料微動装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60189852A true JPS60189852A (ja) | 1985-09-27 |
Family
ID=12677927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59043948A Pending JPS60189852A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | イオンマイクロアナライザの試料微動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60189852A (ja) |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59043948A patent/JPS60189852A/ja active Pending
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