JPS60189852A - イオンマイクロアナライザの試料微動装置 - Google Patents

イオンマイクロアナライザの試料微動装置

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Publication number
JPS60189852A
JPS60189852A JP59043948A JP4394884A JPS60189852A JP S60189852 A JPS60189852 A JP S60189852A JP 59043948 A JP59043948 A JP 59043948A JP 4394884 A JP4394884 A JP 4394884A JP S60189852 A JPS60189852 A JP S60189852A
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JP
Japan
Prior art keywords
sample
thin plate
neutral atoms
fine movement
point
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Pending
Application number
JP59043948A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichi Izumi
泉 栄一
Yoshio Arima
有馬 義雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS60189852A publication Critical patent/JPS60189852A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/252Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、I MΔの試料微動装置に係り、特にスパッ
タリングにより試料表面汚染防止を施したIMAの試料
微動装置に関する。
〔発明の背景〕
第1図は、従来のIMAの(イオンマイクロアIMAは
試料2に一次イオンビー111を照射した時、試料2よ
り放出する中性原子4の中に含まれる二次イオン3を分
析するものである。試料2は、基盤7の上へ組上げられ
たX方向試料微動機構6とY方向試料微動機構5の上に
搭載し、XY平面を二次元的に微動される。2方向およ
び回転、傾斜等の微動機構を有する場合、基盤7より更
に下方(図中)にそれらの機能が組込j、れている。
今、−次イオンビーム1を試料2のAAに照射すると、
A点より試料の中性原子4が放射状に放出する。第2図
は、中性原子放出、つまりスパッタリングの詳細を示し
たものである。
試料面に浅い角度で放出し中性駈〔子4Δは、再び試料
面B点に戻る。また試料近傍の電極8に衝突し反射した
中性原子4Bも再び試料表面へ戻る。
試料のA点分析後、B点の分析をする場合、B点からの
二次イオンの情報は中性原子4A、4Bが重畳し正確で
はない。この様にスパッタリングにより試料表面を汚染
することにより試料面の分析〔発明の目的〕 本発明の目的とする所は、上記の如く、スパッタリング
による試料表面汚染による分析精度の低下を防止した試
料微動装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、−次イオンビームを試料に照射することによ
り、試料面より放出する二次イオンを分析するイオンマ
イクロアナライザの試料微動装置において、−次イオン
ビーム照射部に開孔を有した薄板をを試料に極めて近接
して具備し、試料の水平微動機構の基板部より支え試料
と同電位を供給したことを特徴とするイオンマイクロア
ナライザの試料微動装置である。
〔発明の実施例〕
第3図は、本発明の一実施例を示すものである。
試料微動の基盤7より、支柱11により薄板12を支え
ている。この薄板12には、−次イオン照射部にのみ開
孔12Aを有している。
この開孔12Aより、−次イオン1.中性原子4、二次
イオン3が出入りする。この薄板12は、試料2に極め
て近接し、−次イオンの照射および二次イオンの引出し
の電界に対して具備前と同じである。試料2をXY平面
に移動した場合を考えると上記、二次イオンの引出電界
か、Wt板I2て決り、一定となる利点がある。
次に二次イオンビームが、試料2のA点を照射した時の
ことを考える。試料面に浅い角度で放出した中性原子4
Aは、薄板12上へ戻る。また、試料近傍の電極8に反
射した中性原子4Bも、薄板12上へ戻る。故に、試料
2のB点は汚染されず、正確な分析ができる。
〔発明の効果〕
以上の如く試料微動の基盤より支えたFdt板を具備す
ることにより、試料微動時にも二次イオン引出電界が一
定となる。二次イオンの引出効率が一定となり分析精度
を増す。またスパッタリングによる汚染を防止でき、分
析精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の試料微動装置の説明図、第2図はスパッ
タリング3Yi細図、第3図は本発明の一実施例の試料
微動装置の説明図である。 7・・・基盤、Jl・・・支柱、12A・・・開口。 晰1[] 乃2目

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、−次イオンビームを試料に照射することにより、試
    料面より放出する二次イオンを分析するイオンマイクロ
    アナライザの試料微動装置において、−次イオンビーム
    照射部に開孔を有した薄板を試料に極めて近接して具備
    し、試料の水平微動機構の基板部より支え試料と同電位
    を供給したことをRmとするイオンマイクロアナライザ
    の試料微動装置。
JP59043948A 1984-03-09 1984-03-09 イオンマイクロアナライザの試料微動装置 Pending JPS60189852A (ja)

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