JPS60190201A - 溶融垂れ防止機能を有する蒸発材 - Google Patents
溶融垂れ防止機能を有する蒸発材Info
- Publication number
- JPS60190201A JPS60190201A JP4532584A JP4532584A JPS60190201A JP S60190201 A JPS60190201 A JP S60190201A JP 4532584 A JP4532584 A JP 4532584A JP 4532584 A JP4532584 A JP 4532584A JP S60190201 A JPS60190201 A JP S60190201A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- evaporation
- evaporated
- evaporation material
- function
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は溶融垂れ防止機能を有する蒸発材に関する。よ
り詳細に述べると、本発明は蒸発物と担持材から成り、
加熱蒸発時に溶融状態の蒸発物が重力方向へ垂れて落下
することを防止する機能を有する蒸発材に関する。
り詳細に述べると、本発明は蒸発物と担持材から成り、
加熱蒸発時に溶融状態の蒸発物が重力方向へ垂れて落下
することを防止する機能を有する蒸発材に関する。
一般に材料表面の硬質化あるいは耐摩耗性向上などのた
めに材料表面を各種物質の膜で被覆（コーティング）す
る。コーティング方法としては、コーテイング物質の特
性および被コーテイング材料の形状等により、真空蒸着
法、スパッタリング法などが用いられている。このうち
、真空蒸着法は、蒸発物（コーティング物質；すなわち
コーテイング膜の原料物質）を単に加熱・蒸発させるこ
とにより、比較的容易にコーテイング膜を形成させるこ
とができるので、最も多用されている。しかしながら、
真空蒸着法を用いてコーテイング膜を作る場合、当然な
がら、蒸発物を直接あるいは間接的に加熱し、蒸発物の
蒸気を発生させなければならない。この過程で固体状の
蒸発物は昇華性物質の場合を除き、かならず溶融状態す
なわち液状過程を通る。ところで液状になると流動性を
おびた蒸発物は自重によって重力方向へ垂れ、最終的に
自重の大きさがそ」七自身の表面張力を越えると落下す
るという現象を起こし、蒸発原料として装荷した蒸発材
の利用歩留りを著しく低下させる。
めに材料表面を各種物質の膜で被覆（コーティング）す
る。コーティング方法としては、コーテイング物質の特
性および被コーテイング材料の形状等により、真空蒸着
法、スパッタリング法などが用いられている。このうち
、真空蒸着法は、蒸発物（コーティング物質；すなわち
コーテイング膜の原料物質）を単に加熱・蒸発させるこ
とにより、比較的容易にコーテイング膜を形成させるこ
とができるので、最も多用されている。しかしながら、
真空蒸着法を用いてコーテイング膜を作る場合、当然な
がら、蒸発物を直接あるいは間接的に加熱し、蒸発物の
蒸気を発生させなければならない。この過程で固体状の
蒸発物は昇華性物質の場合を除き、かならず溶融状態す
なわち液状過程を通る。ところで液状になると流動性を
おびた蒸発物は自重によって重力方向へ垂れ、最終的に
自重の大きさがそ」七自身の表面張力を越えると落下す
るという現象を起こし、蒸発原料として装荷した蒸発材
の利用歩留りを著しく低下させる。
そのため従来、蒸発物の溶融垂れによる落下損失を防ぎ
蒸発原料の利用歩留りを向上させるために蒸発原料の保
持容器として坩堝を使用して蒸発を行なわせることが一
般的である。
蒸発原料の利用歩留りを向上させるために蒸発原料の保
持容器として坩堝を使用して蒸発を行なわせることが一
般的である。
しかし、坩堝を使用して蒸発を行なわせる場合、
（］）蒸発物の加熱のみならず、坩堝の加熱も同時に行
なうことになるので、蒸発物への加熱効率が低下し、そ
の分、コストが高くなる。
なうことになるので、蒸発物への加熱効率が低下し、そ
の分、コストが高くなる。
伐）坩堝によって陰になる方向へは原理的に蒸発粒子が
飛ばないのでコーティング方向に制限を受ける。
飛ばないのでコーティング方向に制限を受ける。
（３）坩堝を使用するため蒸発部の構造が複雑になる。
などの欠点を有する。
発明の要約
本発明者等は坩堝を使用することに起因する従来技術の
欠点を克服するため、坩堝を使用せずに蒸発することが
できる蒸発体を研究した。
欠点を克服するため、坩堝を使用せずに蒸発することが
できる蒸発体を研究した。
その結果、溶融状態の蒸発物の垂れ防止には、自重が常
に表面張力以下となるように溶融状態の蒸発物を、その
温度では固体であり、かつ蒸発物によって濡れる性質の
ある高融点担持拐の表面へ液状で付着・分散せしめれば
よいことを見い出した。本発明は、この知見に基づいて
なされたものである。
に表面張力以下となるように溶融状態の蒸発物を、その
温度では固体であり、かつ蒸発物によって濡れる性質の
ある高融点担持拐の表面へ液状で付着・分散せしめれば
よいことを見い出した。本発明は、この知見に基づいて
なされたものである。
従って、本発明の主目的は蒸発物とそれより融点の高い
担持材から成る蒸発材を提供することである。
担持材から成る蒸発材を提供することである。
更に本発明の付随的な目的は、本発明の蒸発材を用（・
ることにより加熱蒸発時に溶融状態の蒸発物が重力方向
へ垂れて落下するのを防止する方法を提供することであ
る。
ることにより加熱蒸発時に溶融状態の蒸発物が重力方向
へ垂れて落下するのを防止する方法を提供することであ
る。
本発明の別の目的および利点は以下遂次間らかにされる
、 ３、発明の詳細な説明 本発明の溶融垂れ防止機能を有する蒸発材は蒸発物と、
それより高融点の担持材から成る。
、 ３、発明の詳細な説明 本発明の溶融垂れ防止機能を有する蒸発材は蒸発物と、
それより高融点の担持材から成る。
本発明で用いることのできる蒸発物は非昇華性のもの、
すなわち溶融性でかつ、担持材より、融点が低い材料で
あれば、いずれの種類でもよ（・。また、本発明で用い
られる担持材は、蒸発物より融点が高く、かつ、蒸発物
に対して濡れる性質を有するものであれば、その種類を
問わない、相持材の形状は直径０．０５〜１ ｍｍの範
囲の粒状が好ましい。蒸発物と担持材の混合体積比は担
持拐が１０〜５０チの範囲が好ましい。
すなわち溶融性でかつ、担持材より、融点が低い材料で
あれば、いずれの種類でもよ（・。また、本発明で用い
られる担持材は、蒸発物より融点が高く、かつ、蒸発物
に対して濡れる性質を有するものであれば、その種類を
問わない、相持材の形状は直径０．０５〜１ ｍｍの範
囲の粒状が好ましい。蒸発物と担持材の混合体積比は担
持拐が１０〜５０チの範囲が好ましい。
本発明における蒸発材の加熱方法としては、電子ビーム
加熱法、直接通電加熱法、傍熱加熱法、高周波加熱法、
あるいはレーザービーム。
加熱法、直接通電加熱法、傍熱加熱法、高周波加熱法、
あるいはレーザービーム。
アークイメージスポットの照射などのいずれかあるいは
並用でもよい。
並用でもよい。
次に図を参照して本発明の蒸発材の一興体例を説明する
。図中、１はチタン、２は炭素である。図示する例は、
蒸発物としてチタン１、担持材として炭素２を用いるこ
とによりチタンの溶融垂れ防止機能を持たせたチタン蒸
発材の一例（断面図）である。この蒸発材が適当な加熱
方法によって加熱され、チタン１の融点である１６７０
℃に達するとチタン１は溶融し液状となって担持材であ
る炭素２（融点３６５０℃）の表面を濡らし、すなわち
分散・付着する。その結果、溶融チタン１は担持材炭素
２によって保持されることになり、チタン１０重力方向
への溶融垂れが防止される。なお、溶融チタン１が存在
するかぎり蒸発材温度はチタン融点と同一温度を保持し
ているので、担持材である炭素２は固体状態を維持する
ことができる。
。図中、１はチタン、２は炭素である。図示する例は、
蒸発物としてチタン１、担持材として炭素２を用いるこ
とによりチタンの溶融垂れ防止機能を持たせたチタン蒸
発材の一例（断面図）である。この蒸発材が適当な加熱
方法によって加熱され、チタン１の融点である１６７０
℃に達するとチタン１は溶融し液状となって担持材であ
る炭素２（融点３６５０℃）の表面を濡らし、すなわち
分散・付着する。その結果、溶融チタン１は担持材炭素
２によって保持されることになり、チタン１０重力方向
への溶融垂れが防止される。なお、溶融チタン１が存在
するかぎり蒸発材温度はチタン融点と同一温度を保持し
ているので、担持材である炭素２は固体状態を維持する
ことができる。
以下に実施例を掲げて本発明の構成および効果を具体的
に説明する。
に説明する。
蒸発物および担持材として、それぞれチタン金属および
粒径０．０５〜０．１ ｍｍの炭素粉末を用いて構成さ
れたチタン蒸発材を、加熱エネルギ約１ｋｗ の電子ビ
ーム加熱したときのチタン蒸発速度は蒸発材から２０ｃ
１ｒＬ離れた位置で６Ａ秒−１であった。この蒸発速度
は同一条件下で坩堝を用いた場合のチタン蒸発速度にほ
ぼ匹敵する値である。
粒径０．０５〜０．１ ｍｍの炭素粉末を用いて構成さ
れたチタン蒸発材を、加熱エネルギ約１ｋｗ の電子ビ
ーム加熱したときのチタン蒸発速度は蒸発材から２０ｃ
１ｒＬ離れた位置で６Ａ秒−１であった。この蒸発速度
は同一条件下で坩堝を用いた場合のチタン蒸発速度にほ
ぼ匹敵する値である。
また、オージェ電子分光計でこのチタン蒸着膜の化学組
成を分析した結果、蒸着膜の組成はチタン１００％であ
った。このことは、このチタン蒸発材からは蒸発物であ
るチタンのみが蒸発し、担持材である炭素は蒸発しない
ことを示している。
成を分析した結果、蒸着膜の組成はチタン１００％であ
った。このことは、このチタン蒸発材からは蒸発物であ
るチタンのみが蒸発し、担持材である炭素は蒸発しない
ことを示している。
図は本発明の溶融垂れ防止機能を有する蒸発材の一例の
断面図である。 特許出願人 日本原子力研究所 （外４名）
断面図である。 特許出願人 日本原子力研究所 （外４名）
Claims (5)
- （１）蒸発物および一種あるいは二種以上の担持椙から
主として成る溶融垂れ防止機能を有する蒸発材。 - （２）担持材の融点が蒸発物より常に高いことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の溶融垂れ防止機能を有
する蒸発材。 - （３）蒸発物と担持材の混合体積比は担持材が１０〜５
０％であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の溶融垂れ防止機能を有する蒸発材、 - （４）担持材の形状が粒状あるいは粉末であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の溶融垂れ防止機能
を有する蒸発材。 - （５）蒸発材の形状が蒸発物と担持材とを一体として成
型した固状であることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の溶融垂れ防止機能を有する蒸発材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4532584A JPS60190201A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 溶融垂れ防止機能を有する蒸発材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4532584A JPS60190201A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 溶融垂れ防止機能を有する蒸発材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60190201A true JPS60190201A (ja) | 1985-09-27 |
Family
ID=12716156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4532584A Pending JPS60190201A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 溶融垂れ防止機能を有する蒸発材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60190201A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54107884A (en) * | 1978-02-14 | 1979-08-24 | Toshiba Corp | Vacuum depositing method for silicon |
| JPS57104663A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-29 | Canon Inc | Vacuum vapor deposition method |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP4532584A patent/JPS60190201A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54107884A (en) * | 1978-02-14 | 1979-08-24 | Toshiba Corp | Vacuum depositing method for silicon |
| JPS57104663A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-29 | Canon Inc | Vacuum vapor deposition method |
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