JPS6019778A - エチレンオキシド又は、エチレンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物を浄化する方法及び装置 - Google Patents
エチレンオキシド又は、エチレンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物を浄化する方法及び装置Info
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- JPS6019778A JPS6019778A JP59129415A JP12941584A JPS6019778A JP S6019778 A JPS6019778 A JP S6019778A JP 59129415 A JP59129415 A JP 59129415A JP 12941584 A JP12941584 A JP 12941584A JP S6019778 A JPS6019778 A JP S6019778A
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- ethylene oxide
- gas
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- compressor
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
従来の技術
エチレンオキシドは極めて毒性が強くまた僅かな空気汚
染で爆発性のガスであり、これは特に殺菌目的で医学界
において使用される。その物理的特性を変えるだめにし
ばしば使用特定な添加物を加える。すなわち例えばエチ
レンオキシドをその爆発性を阻止するために弗素化クロ
フルオ ル炭化水素(有利にはジクロルジ\N木ルメタン)と混
合することは公知である。他の添加物は例えば二酸化炭
素又は蟻酸メチルである。この目的、従って例えば殺菌
を達成した後、ガス又はガス混合物を排出又は焼却する
。エチレンオキシド及び例えば弗素化クロル炭化水素又
は他の添加物の毒性作用により、排出又は焼却は著しく
環境を汚染する。
染で爆発性のガスであり、これは特に殺菌目的で医学界
において使用される。その物理的特性を変えるだめにし
ばしば使用特定な添加物を加える。すなわち例えばエチ
レンオキシドをその爆発性を阻止するために弗素化クロ
フルオ ル炭化水素(有利にはジクロルジ\N木ルメタン)と混
合することは公知である。他の添加物は例えば二酸化炭
素又は蟻酸メチルである。この目的、従って例えば殺菌
を達成した後、ガス又はガス混合物を排出又は焼却する
。エチレンオキシド及び例えば弗素化クロル炭化水素又
は他の添加物の毒性作用により、排出又は焼却は著しく
環境を汚染する。
二重jす1(旦Jシウ[Lゑ月jしし
本発明の根本課題は、エチレンオキシド又はエチレンオ
キシドと使用特定の添加物とからなる混合物を経済的に
使用可能の費用で浄化し、これにより再使用のために回
収することのできる方法を提案することにある。
キシドと使用特定の添加物とからなる混合物を経済的に
使用可能の費用で浄化し、これにより再使用のために回
収することのできる方法を提案することにある。
問題点を解決するだめの手段
本発明によればこの課題は、エチレンオキシド又は、エ
チレンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物を
まず乾燥し、次いで空気の液化圧を上廻る圧力で液化す
ることによって解決される。この手段によりエチレンオ
キシド又はエチレンオキシドと使用特定の添加物とから
成る混合物から酸素、窒素及び他のガス状不純物を除去
する。このガスは液相で除去することができる。蒸発工
程の後各使用目的に応じて再び浄化する。
チレンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物を
まず乾燥し、次いで空気の液化圧を上廻る圧力で液化す
ることによって解決される。この手段によりエチレンオ
キシド又はエチレンオキシドと使用特定の添加物とから
成る混合物から酸素、窒素及び他のガス状不純物を除去
する。このガスは液相で除去することができる。蒸発工
程の後各使用目的に応じて再び浄化する。
液化は圧力を高め及び/又は温度を下げることによって
達成することができる。この場合との値は望ましくない
不純物がガス状で残るように選択する。圧力が大気圧範
囲内の場合、温度は20℃を下廻る(純粋なエチレンオ
キシドの場合)か又は−30℃を下廻る(混合物の場合
)。温度が室温範囲内の場合(約20℃)、その都度選
択される圧力は約1.5パール(純粋なエチレンオキシ
ドの場合)又は約5・々−ル(混合物の場合)を下廻る
べきではない。作業温度は基本的には一193℃〜40
℃、有利には一80℃〜20℃であって31:い。相応
して圧力は]−6バール(及びそ、11以上)〜100
ミリバールの間で可能である。
達成することができる。この場合との値は望ましくない
不純物がガス状で残るように選択する。圧力が大気圧範
囲内の場合、温度は20℃を下廻る(純粋なエチレンオ
キシドの場合)か又は−30℃を下廻る(混合物の場合
)。温度が室温範囲内の場合(約20℃)、その都度選
択される圧力は約1.5パール(純粋なエチレンオキシ
ドの場合)又は約5・々−ル(混合物の場合)を下廻る
べきではない。作業温度は基本的には一193℃〜40
℃、有利には一80℃〜20℃であって31:い。相応
して圧力は]−6バール(及びそ、11以上)〜100
ミリバールの間で可能である。
次に本発明の利点を第1図〜第3図に基づき詳述する。
図中作業ガスが利用される殺菌装置のタンク、すなわち
殺菌室は1で示されている。これには2で浄化され寸/
ζ回収されたガスが導かれる。
殺菌室は1で示されている。これには2で浄化され寸/
ζ回収されたガスが導かれる。
タンクl内の圧力は圧力監視装置3により制御される。
第2図に示した装置ではガス組成を監視するための伺加
的な装置牛が配置されている。
的な装置牛が配置されている。
これらの装置との関連で必要な場合には弁すを介して不
足するガス成分、一般にはエチレンオキシドをガス貯蔵
器6から供給する。
足するガス成分、一般にはエチレンオキシドをガス貯蔵
器6から供給する。
殺菌室l内で作業ガスは殺菌処理中加圧下に存在する。
ガスを排出するため1ず弁7及び8を開放して、ガスを
図示した矢印9及び11の方向で導管12に流す。はぼ
大気圧で弁8を閉じ、弁13及び14を開く。その結果
真空ポンプ]−5により室1は更にポンプ吸出又は真空
化され、ポンプ吸出されたガスは真空ポンプ15及び導
管16を介して導管12に送られる。真空ポンプ]−5
は目的に応じて前導入口で冷却された2又は3工程のル
ート又はロールピストン真空、Jqンプとして構成され
、従ってガスの油不含のポンプ吸出を確実に行うことが
できる。ルートポンプには水貫流冷却器17が接続され
ており、これはガスの好−ましくない加熱を阻止する。
図示した矢印9及び11の方向で導管12に流す。はぼ
大気圧で弁8を閉じ、弁13及び14を開く。その結果
真空ポンプ]−5により室1は更にポンプ吸出又は真空
化され、ポンプ吸出されたガスは真空ポンプ15及び導
管16を介して導管12に送られる。真空ポンプ]−5
は目的に応じて前導入口で冷却された2又は3工程のル
ート又はロールピストン真空、Jqンプとして構成され
、従ってガスの油不含のポンプ吸出を確実に行うことが
できる。ルートポンプには水貫流冷却器17が接続され
ており、これはガスの好−ましくない加熱を阻止する。
導管]6には通雨め弁18が含壕れ、これは加圧期中に
ガスが導管16に入り込むのを阻止する。約70ミリ・
ぐ−ル(2工程のルート又はロールぎストン真空月?ン
プの場合)又はlOミIJパール(3工程ポンプの場合
)の圧力に達した後、弁7を閉じ、弁19を開き、もう
1つの真、空ポンプ21−を接続する。これにより室l
は約10”−2ミIJ・ζ−ルの最終圧に排気される。
ガスが導管16に入り込むのを阻止する。約70ミリ・
ぐ−ル(2工程のルート又はロールぎストン真空月?ン
プの場合)又はlOミIJパール(3工程ポンプの場合
)の圧力に達した後、弁7を閉じ、弁19を開き、もう
1つの真、空ポンプ21−を接続する。これにより室l
は約10”−2ミIJ・ζ−ルの最終圧に排気される。
残ガスは大気中に排出される。この真空化により僅少な
損失が生じるが、この僅少量の回収には法外な経費が必
要である。
損失が生じるが、この僅少量の回収には法外な経費が必
要である。
第1図に示した実施例では浄化すべきエチレンオキシド
は通雨め弁22を有する導管12を介して全体的に23
で示しだ吸着装置に達し、ここでエチレンオキシドを乾
燥する。導管12には更にフィルタ10又は同様の装置
が設けられている。これは機械的不純物(塵埃又は同様
のもの)をガスから除去するのに用いられる。
は通雨め弁22を有する導管12を介して全体的に23
で示しだ吸着装置に達し、ここでエチレンオキシドを乾
燥する。導管12には更にフィルタ10又は同様の装置
が設けられている。これは機械的不純物(塵埃又は同様
のもの)をガスから除去するのに用いられる。
吸着装置23は2個の交互に作動するタンク24及び2
5を含み、これらはそれぞれ電気的な被覆加熱器26又
は27を有する。双方のタンク24及び25はモレキュ
ラーシーブ、シリカゲル又はアル−ゲルで満たされてい
る。三方弁28及び29の調整に応じてガスはほぼ大気
圧で双方のタンク24及び25に流れ、コンプレッサ3
2及び後方に接続された冷却器33を有する導管31に
達する。コンプレッサ32及びコンデンサ33を用いて
エチレンオキシドを数バール(2〜6パール)に圧縮し
、10〜40℃に冷却する。その結果エチレンオキシド
が液化し、これは圧力容器34に集められる。ガス混合
物内で連行されるガス状の不純物(空気、窒素及び同様
のもの)を凝縮不能の成分として圧力容器34−内の液
状エチレンオキシド上に集める。弁36を有する廃ガス
導管35を介して時々排出する。廃ガス導管35は主廃
ガス導管40に接続される。
5を含み、これらはそれぞれ電気的な被覆加熱器26又
は27を有する。双方のタンク24及び25はモレキュ
ラーシーブ、シリカゲル又はアル−ゲルで満たされてい
る。三方弁28及び29の調整に応じてガスはほぼ大気
圧で双方のタンク24及び25に流れ、コンプレッサ3
2及び後方に接続された冷却器33を有する導管31に
達する。コンプレッサ32及びコンデンサ33を用いて
エチレンオキシドを数バール(2〜6パール)に圧縮し
、10〜40℃に冷却する。その結果エチレンオキシド
が液化し、これは圧力容器34に集められる。ガス混合
物内で連行されるガス状の不純物(空気、窒素及び同様
のもの)を凝縮不能の成分として圧力容器34−内の液
状エチレンオキシド上に集める。弁36を有する廃ガス
導管35を介して時々排出する。廃ガス導管35は主廃
ガス導管40に接続される。
液状の浄化されたエチレンオキシドは弁39及び41を
有する導管37を介して殺菌室lに再び供給される。蒸
発器42中で液相から気相への移行が行われる。導管3
7には更に弁43ヲ介してエチレンオキシド−貯蔵タン
ク44が接続され、これによりエチレンオキシドの損失
を補償することができる。
有する導管37を介して殺菌室lに再び供給される。蒸
発器42中で液相から気相への移行が行われる。導管3
7には更に弁43ヲ介してエチレンオキシド−貯蔵タン
ク44が接続され、これによりエチレンオキシドの損失
を補償することができる。
第2図に示した実施例は、エチレンオキシドフルオ
とジクロルジ晩Nヘルメタンから成る混合物の浄化に使
用する。乾燥、液化及び殺菌室1への■供給等の方法は
第1図と同じである。第1図との違いは、吸着器23の
前方に供給タンク51が接続されていることである。供
給タンクの前方には更に導管]、2中でコンプレッサ5
2及び冷却器53が接続されている。これによりタンク
51内の圧力は約5パールに構成される。
用する。乾燥、液化及び殺菌室1への■供給等の方法は
第1図と同じである。第1図との違いは、吸着器23の
前方に供給タンク51が接続されていることである。供
給タンクの前方には更に導管]、2中でコンプレッサ5
2及び冷却器53が接続されている。これによりタンク
51内の圧力は約5パールに構成される。
供給タンクから混合物は高めた圧力ですでに記載した吸
着器23に達し、乾燥後コンプレッサ32に入れられる
。コンプレッサによりガス混合物は約1.6〜20パー
ルに圧縮され、冷却器33中で約20℃に冷却され、こ
れにより液化される。タンク51内でのガスの緩衝は装
置の作業を柔軟にするという利点を有する。
着器23に達し、乾燥後コンプレッサ32に入れられる
。コンプレッサによりガス混合物は約1.6〜20パー
ルに圧縮され、冷却器33中で約20℃に冷却され、こ
れにより液化される。タンク51内でのガスの緩衝は装
置の作業を柔軟にするという利点を有する。
吸着剤23の二つの吸着容器24及び25は交互に作動
される。双方の容器の一方が作業下にある間に、他方の
容器の吸着材料は純粋な窒素で再生される。これは貯蔵
器55から導管56及び二方弁57を介してそれぞれ再
生すべき吸着器に供給さJする。弁58及び59を介し
て再生に使用するガスは各吸着器から取り出され、上院
ガス導管40に供給される。再生処理中容容器は被覆加
熱器により約250℃に加熱される。その都度再生すべ
き容器は独自の再生処理後に加熱状態を維持しながら排
気するのが有利である。このため導管56には弁62及
び冷却器63を介して真空ポンゾロ4が接続されている
。この貞、空、1?ンデ64、ポンプ21及びもう]つ
の図示されていない真空ポンプ(これらは運転前に全系
を排気するのに利用する)は油密化ポンプであってよい
。それというのもこれらの71?ンゾは殺菌ガスと直接
接触しないからである。
される。双方の容器の一方が作業下にある間に、他方の
容器の吸着材料は純粋な窒素で再生される。これは貯蔵
器55から導管56及び二方弁57を介してそれぞれ再
生すべき吸着器に供給さJする。弁58及び59を介し
て再生に使用するガスは各吸着器から取り出され、上院
ガス導管40に供給される。再生処理中容容器は被覆加
熱器により約250℃に加熱される。その都度再生すべ
き容器は独自の再生処理後に加熱状態を維持しながら排
気するのが有利である。このため導管56には弁62及
び冷却器63を介して真空ポンゾロ4が接続されている
。この貞、空、1?ンデ64、ポンプ21及びもう]つ
の図示されていない真空ポンプ(これらは運転前に全系
を排気するのに利用する)は油密化ポンプであってよい
。それというのもこれらの71?ンゾは殺菌ガスと直接
接触しないからである。
2つのコンプレッサ32及び52は乾き圧縮器、有利に
はルート圧縮器として構成されている。これによりガス
が油で汚染されるのを阻止することができる。
はルート圧縮器として構成されている。これによりガス
が油で汚染されるのを阻止することができる。
第3図による実施例はほとんど第1図による実施例に相
当するが、温度を下げることによって液化する点で異な
る。従ってコンプレッサ32は省略される。この代りに
冷却装置33を、必要な低温が得られるように構成する
。ブライン冷却器を用いて、例えば−100℃までの温
度を、また蒸発可能の窒素を用いて−1−90℃捷での
温度を得ることができる。後者の場合、より高い液化温
度を調整し、維持するために温かい窒素で調整された付
加混合物を使用することができる。
当するが、温度を下げることによって液化する点で異な
る。従ってコンプレッサ32は省略される。この代りに
冷却装置33を、必要な低温が得られるように構成する
。ブライン冷却器を用いて、例えば−100℃までの温
度を、また蒸発可能の窒素を用いて−1−90℃捷での
温度を得ることができる。後者の場合、より高い液化温
度を調整し、維持するために温かい窒素で調整された付
加混合物を使用することができる。
吸着循環系はタイマーを用いて、例えば8時間周期で制
御される。このタイマーは特に弁28.29並びに57
〜59及び62を、常に一方の吸着容器が作業期にあり
また他方の吸着容器が再生期にあるように制御する。ジ
ャケラ、ト加熱器26及び27並びに真空ポンプ64も
タイマーによシ制御可能である。
御される。このタイマーは特に弁28.29並びに57
〜59及び62を、常に一方の吸着容器が作業期にあり
また他方の吸着容器が再生期にあるように制御する。ジ
ャケラ、ト加熱器26及び27並びに真空ポンプ64も
タイマーによシ制御可能である。
すべての実施例に記載した乾燥装置は2床2牛及び25
を有する吸着器23から成る。この代りにガスをその液
化温度よシも高い温度で乾燥する他の乾燥器を設置する
こともできる。更に乾燥装置を殺菌室]−のすぐ後に配
置することもできる。すなわち真空月?ンプ15の吸収
側に配置することができる。乾燥装置は例えば再生可能
の冷却乾燥器であってよい。コンク0レツサ32(第1
図)、並びに32及び52(第2図)は圧力との関連に
おいて接続及び遮断される。
を有する吸着器23から成る。この代りにガスをその液
化温度よシも高い温度で乾燥する他の乾燥器を設置する
こともできる。更に乾燥装置を殺菌室]−のすぐ後に配
置することもできる。すなわち真空月?ンプ15の吸収
側に配置することができる。乾燥装置は例えば再生可能
の冷却乾燥器であってよい。コンク0レツサ32(第1
図)、並びに32及び52(第2図)は圧力との関連に
おいて接続及び遮断される。
エチレンオキシド(第1図)の乾Fll〜1.2パール
で行う。従って吸着器23の前方にコンプレッサは必要
ない。コンプレッサ32を用いて液化するには圧力を2
〜6・々−ルに高める。
で行う。従って吸着器23の前方にコンプレッサは必要
ない。コンプレッサ32を用いて液化するには圧力を2
〜6・々−ルに高める。
上記の圧力値でコンプレッサ32が接続又は遮断される
。
。
エチレンオキシド−フレオン−混合物ノ乾燥(第2図)
は約1〜5パールで行う。この圧力値でコンプレッサ5
2は接続又は遮断される。
は約1〜5パールで行う。この圧力値でコンプレッサ5
2は接続又は遮断される。
次いで液化するためコンプレッサ32を用いて圧力を5
〜20パールに高めるととが必要である。コンプレッサ
にそれぞれ接続される冷却器は必要とされるガスが過度
に加熱されるのを阻止する。
〜20パールに高めるととが必要である。コンプレッサ
にそれぞれ接続される冷却器は必要とされるガスが過度
に加熱されるのを阻止する。
殺菌ガスを液化するには、乾式の−又は二工程金属膜−
又はピストン圧縮器を使用することもできる。5〜6・
ぐ−ルでエチレンオキシドを液化するには(第1図)、
この種の一工程圧縮器で十分である。圧力を20ノぐ−
ルにまで高めることによって殺菌ガス混合物を液化する
場合には二工程圧縮器を使用するのが有利であり〜この
場合ガスは第1工程で4〜5パールに圧縮され、第1一
工程の後にガスを冷却する。
又はピストン圧縮器を使用することもできる。5〜6・
ぐ−ルでエチレンオキシドを液化するには(第1図)、
この種の一工程圧縮器で十分である。圧力を20ノぐ−
ルにまで高めることによって殺菌ガス混合物を液化する
場合には二工程圧縮器を使用するのが有利であり〜この
場合ガスは第1工程で4〜5パールに圧縮され、第1一
工程の後にガスを冷却する。
第1図は高めた圧力でエチレンオキシドを浄化し、回収
する浄化装置の系統図、第2図はエチレンオキシドとジ
クロルジフルオルメタンとからなる混合物で処理する相
応する装置の系統図、第3図は作業ガスを低下した温度
で浄化し、回収する浄化装置の系統図である。 ■・・殺菌室、3 圧力監視装置、牛・・・ガス組成監
視装置、6・ガスタンク、10・・・フィルタ、15・
・真空4?ンプ、17・・冷却器、21・・真空ポンプ
、23・・・吸着装置、32・・・コンプレッサ、33
・冷却器、34−・・圧力容器、41・・上院ガス導管
、42・・蒸発器、4−+・・・エチレンオキシド貯蔵
タンク、5]・・供給タンク、52・・コンプレッサ、
53・・冷却器、55・・・貯蔵器、63・・冷却器、
64・・真空ポンプ。
する浄化装置の系統図、第2図はエチレンオキシドとジ
クロルジフルオルメタンとからなる混合物で処理する相
応する装置の系統図、第3図は作業ガスを低下した温度
で浄化し、回収する浄化装置の系統図である。 ■・・殺菌室、3 圧力監視装置、牛・・・ガス組成監
視装置、6・ガスタンク、10・・・フィルタ、15・
・真空4?ンプ、17・・冷却器、21・・真空ポンプ
、23・・・吸着装置、32・・・コンプレッサ、33
・冷却器、34−・・圧力容器、41・・上院ガス導管
、42・・蒸発器、4−+・・・エチレンオキシド貯蔵
タンク、5]・・供給タンク、52・・コンプレッサ、
53・・冷却器、55・・・貯蔵器、63・・冷却器、
64・・真空ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 エチレンオキシド又は、エチレンオキシドと使用
特定の添加物とから成る混合物を浄化する方法において
、このガスを乾燥し、空気の液化圧を」1廻る圧力で液
化することを特徴トスる、エチレンオキシド又はエチレ
ンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物の浄化
法。 2、カスヲモレキュラーシーブ、シリカケゞル、アルー
ケ゛ル又は同様のものを有する吸着装置(23)中で乾
燥することより成る、特許請求の範囲第1項記載の方法
。 3、液化を圧力を高め及び/又は温度を下げることによ
って達成することより成る、特許請求の範囲第1項又は
第2項に記載の方法。 屯 室温範囲の温度で液化圧が純粋なエチレンオキシド
の場合約15パールを丑だ、エチレンオキシドと弗素化
クロル炭化水素との、又は他の使用特定の添加物との混
合物の場合約5・々−ルをそれぞれ越えることより成る
、特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれか1項
に記載の方法。 5 エチレンオキシドと弗素化クロル炭化水素とから成
る混合物を乾燥前に供給タンク(5])中で6・々−ル
までの圧力で緩衝することより成る、特許請求の範囲第
4項記載の方法。 6 大気圧範囲内の圧力で温度が20℃(純粋なエチレ
ンオキシドの場合)又は−30℃(混合物の場合)より
低いことより成る、特許請求の範囲第1項から第3項ま
でのいずれか1項に記載の方法。 7 殺菌室を有する殺菌装置を運転する方法において、
殺菌室(1)を殺菌処理後放圧し、その後油なしに作動
する真空ポンプを用いて圧力10〜100 ミリ・ぐ−
ルにまで真空化し、放出及び吸出されたガスを乾燥し、
空気の液化圧を上廻る圧力で液化することにより浄化及
び回収することを特徴とする、殺菌室を有する殺菌装置
の運転法。 8 エチレンオキシド又は、エチレンオキシドと使用時
定の添加物とから成る混合物を浄化する装置において、
該ガスを乾燥するだめの吸、着装置(23)少なくとも
1個と、圧力を高めることに」:って該ガスを液化する
コンプレッサ(32)少なくとも1個とを有することを
特徴とする、エチレンオキシド又は、エチレンオキシド
と使用特定の添加物とから成る混合物の浄化装置。 9、殺菌ガスを搬送するコンプレッサ(32゜52)及
び真空ポンプ(15)がルート原理又はねじ原理により
油なしに作動する機械であることより成る、特許請求の
範囲第8項記載の装置。 10、コンプレッサが油なしに作動する金属薄膜又はピ
ストン形コンゾレッサから成る、特許請求の範囲第8項
記載の装置。 11 コンプレッサ(32,52)及び真空ポンプ(1
5)にそれぞれ冷却器(17,33゜53)が接続され
ている、特許請求の範囲第9項又は第10項に記載の装
置。 12、中間冷却器を有する二工程で作動するコンプレッ
サを特徴する特許請求の範囲第11項記載の装置。 ■3 吸着装置(23)の前方に供給タンク(51)が
接続されている、特許請求の範囲第8項から第10項ま
でのいずれか1項に記載の装置。 ■4. ガスを乾燥するための吸着装置(23)少なく
とも1個と温度低下によりガスを液化するための冷却器
(33)少なくとも1個を有する、特許請求の範囲第8
項から第13項丑でのいずれが1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE33229104 | 1983-06-25 | ||
| DE3322910 | 1983-06-25 | ||
| DE34107118 | 1984-03-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6019778A true JPS6019778A (ja) | 1985-01-31 |
Family
ID=6202373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59129415A Pending JPS6019778A (ja) | 1983-06-25 | 1984-06-25 | エチレンオキシド又は、エチレンオキシドと使用特定の添加物とから成る混合物を浄化する方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6019778A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08250834A (ja) * | 1995-12-25 | 1996-09-27 | Hokuriku Electric Ind Co Ltd | 回路基板 |
| JP2020505341A (ja) * | 2017-01-19 | 2020-02-20 | ノボマー, インコーポレイテッド | エチレンオキシドの処理のための方法およびシステム |
| JP2023509909A (ja) * | 2020-01-17 | 2023-03-10 | ダフ,ジョセフ | 滅菌プロセスからのエチレンオキシドの回収 |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP59129415A patent/JPS6019778A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08250834A (ja) * | 1995-12-25 | 1996-09-27 | Hokuriku Electric Ind Co Ltd | 回路基板 |
| JP2020505341A (ja) * | 2017-01-19 | 2020-02-20 | ノボマー, インコーポレイテッド | エチレンオキシドの処理のための方法およびシステム |
| JP2023509909A (ja) * | 2020-01-17 | 2023-03-10 | ダフ,ジョセフ | 滅菌プロセスからのエチレンオキシドの回収 |
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