JPS60201239A - Ｉｃｐ発光分光分析用プラズマト−チ - Google Patents
Ｉｃｐ発光分光分析用プラズマト−チInfo
- Publication number
- JPS60201239A JPS60201239A JP5919384A JP5919384A JPS60201239A JP S60201239 A JPS60201239 A JP S60201239A JP 5919384 A JP5919384 A JP 5919384A JP 5919384 A JP5919384 A JP 5919384A JP S60201239 A JPS60201239 A JP S60201239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- pipe
- plasma
- tunnel
- torch
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ・ 産業上の利用分野
本発明はＩＣＰ（高周波誘導結合プラズマ）発光分光分
析用プラズマトーチに関する。
析用プラズマトーチに関する。
口・従来技術
現在１０２発光分光分析で用いられているプラズマトー
チはファンセル形の三重管トーチである。
チはファンセル形の三重管トーチである。
第２図はこの従来例を示す。中心にある１はキャリヤガ
ス管、その外側の２はプラズマ用ガス管、一番外側の３
は冷却ガス管であシ、４は冷却ガス管の外側に巻装され
た高周波コイルである。５はプラズマ炎である。プラズ
マ炎５はプラズマ用ガス管から供給されている比較的低
速のガス流によって形成されており冷却ガスがプラズマ
炎の外周を高速で上方に吹き上げている。またプラズマ
炎では高周波の表皮効果で誘導電流は表層に集中してお
シ、そこをキャリヤガスが上方に吹き抜けているので、
プラズマ炎内には比較的低温のトンネルが形成されてい
る。試料は霧滴状になってキャリヤガスの流れに乗って
、このプラズマ炎のトンネル内に導入され、外周の高温
のプラズマと接して原子化され発光する。プラズマ炎内
に低温のトンネルを作ってそこに試料を導入して発光さ
せるのは、発光領域の外側によシ低温の試料含有層があ
ると、試料原子スペクトル光がその低温層の試料原子に
・よって吸収され、感度低下を来すので、発光領域の外
側をよシ高温のプラズマ炎で包んでおくためである。
ス管、その外側の２はプラズマ用ガス管、一番外側の３
は冷却ガス管であシ、４は冷却ガス管の外側に巻装され
た高周波コイルである。５はプラズマ炎である。プラズ
マ炎５はプラズマ用ガス管から供給されている比較的低
速のガス流によって形成されており冷却ガスがプラズマ
炎の外周を高速で上方に吹き上げている。またプラズマ
炎では高周波の表皮効果で誘導電流は表層に集中してお
シ、そこをキャリヤガスが上方に吹き抜けているので、
プラズマ炎内には比較的低温のトンネルが形成されてい
る。試料は霧滴状になってキャリヤガスの流れに乗って
、このプラズマ炎のトンネル内に導入され、外周の高温
のプラズマと接して原子化され発光する。プラズマ炎内
に低温のトンネルを作ってそこに試料を導入して発光さ
せるのは、発光領域の外側によシ低温の試料含有層があ
ると、試料原子スペクトル光がその低温層の試料原子に
・よって吸収され、感度低下を来すので、発光領域の外
側をよシ高温のプラズマ炎で包んでおくためである。
プラズマトーチでは高周波コイルとプラズマ炎との間の
誘導結合によってプラズマ炎にエネルギーが供給されて
おシ、プラズマを安定に維持するためには、プラズマト
ーチの寸法、各部のガス流量、高周波電力等の因子をう
まく設定しておくことが必要で、このうちプラズマトー
チの寸法は一つのトーチでは一定であるから、可変因子
はガス流量と高周波電力であるが、トーチ寸法が決って
いるので、これらの可変因子は余シ自由に変えられない
。結局上に掲げた因子は実際上略固定したものとなって
いる。
誘導結合によってプラズマ炎にエネルギーが供給されて
おシ、プラズマを安定に維持するためには、プラズマト
ーチの寸法、各部のガス流量、高周波電力等の因子をう
まく設定しておくことが必要で、このうちプラズマトー
チの寸法は一つのトーチでは一定であるから、可変因子
はガス流量と高周波電力であるが、トーチ寸法が決って
いるので、これらの可変因子は余シ自由に変えられない
。結局上に掲げた因子は実際上略固定したものとなって
いる。
このため、高周波電力をもつと少くシ、小さなプラズマ
炎で小量の試料を分析したいとか、その他従来とは異る
条件で分析しだいと云う要求に従来のＩＣｐ発光分光分
析装置は応じることができなかった。
炎で小量の試料を分析したいとか、その他従来とは異る
条件で分析しだいと云う要求に従来のＩＣｐ発光分光分
析装置は応じることができなかった。
ハ・ 目 的
本発明は上述した要求に応じ得るプラズマトーチを提供
しようとするものである。
しようとするものである。
二・構 成
本発明プラズマトーチは上述したファツセル型プラズマ
トーチの中心のキャリヤガス管の中に更にガス供給管を
設けて４重管とした点に特徴を有する。
トーチの中心のキャリヤガス管の中に更にガス供給管を
設けて４重管とした点に特徴を有する。
ホ・実施例
第１図に本発明の一実施例を示す。１はキャリヤガス管
、２はプラズマ用ガス管、３は冷却ガス管で４は高周波
コイルである。これらの各部の配置は第２図に示した従
来例と同じである。本発明の特徴はキャリヤガス管１の
中に更にトンネルガス管６を設け、トーチ全体を４重管
とした点にある。７は試料霧化器で、霧吹きの原理でキ
ャリヤガスの流れによって試料容液を霧化し、キャリヤ
ガス管１を通して試料をプラズマ炎５内に供給している
。
、２はプラズマ用ガス管、３は冷却ガス管で４は高周波
コイルである。これらの各部の配置は第２図に示した従
来例と同じである。本発明の特徴はキャリヤガス管１の
中に更にトンネルガス管６を設け、トーチ全体を４重管
とした点にある。７は試料霧化器で、霧吹きの原理でキ
ャリヤガスの流れによって試料容液を霧化し、キャリヤ
ガス管１を通して試料をプラズマ炎５内に供給している
。
プラズマに供給する高周波電力を小さくするためには、
プラズマ炎も小さくせねばならないが、表皮効果による
誘導電流の存在域の深さはプラズマ炎の大小と余り関係
しないので、プラズマ炎が小さくなると、中心部が表皮
に近くなって、相対的に中心部温度が高くなる。或は試
料のプラズマ炎内滞留時間を長くして感度を上げるため
キャリヤ流量を少くするとプラズマ炎の中心を吹゛き抜
けるガス流が減少し、プラズマ炎の中心部の低温のトン
ネルが形成され難くなる。こ＼において本発明ではキャ
リヤガス管の中心にあるトンネルガス管によってガスを
供給し、結果的にキャリヤガス流量を増加させたのと同
じ効果を生せしめプラズマ中心を比較的多量のガスに吹
き抜けさせて、低温のトンネル８の形成を確実ならしめ
た。
プラズマ炎も小さくせねばならないが、表皮効果による
誘導電流の存在域の深さはプラズマ炎の大小と余り関係
しないので、プラズマ炎が小さくなると、中心部が表皮
に近くなって、相対的に中心部温度が高くなる。或は試
料のプラズマ炎内滞留時間を長くして感度を上げるため
キャリヤ流量を少くするとプラズマ炎の中心を吹゛き抜
けるガス流が減少し、プラズマ炎の中心部の低温のトン
ネルが形成され難くなる。こ＼において本発明ではキャ
リヤガス管の中心にあるトンネルガス管によってガスを
供給し、結果的にキャリヤガス流量を増加させたのと同
じ効果を生せしめプラズマ中心を比較的多量のガスに吹
き抜けさせて、低温のトンネル８の形成を確実ならしめ
た。
なお一般にｌＣＰ用プラズマトーチに供給するガスはキ
ャリヤ、プラズマ用、冷却用ともアルゴンを用いるが、
上述トンネルガスはアルゴン以外のガスでもよい。
ャリヤ、プラズマ用、冷却用ともアルゴンを用いるが、
上述トンネルガスはアルゴン以外のガスでもよい。
へ・効 果
本発明プラズマトーチは上述したような構成で、プラズ
マ炎を小さくした場合でも、或はキャリヤ流量を減らし
た場合でもトンネルガスの供給によって、プラズマ炎中
に低温部を形成できるので、小量の試料でも導入が容品
になシ、トンネルガス流量の調節で、高周波電力、冷却
ガス、プラズマ用ガス、キャリヤガスの流量等を広範囲
に調節することが可能となシ、色々の場合に応じてＳ
／ Ｎ比の良い分析が可能となる。
マ炎を小さくした場合でも、或はキャリヤ流量を減らし
た場合でもトンネルガスの供給によって、プラズマ炎中
に低温部を形成できるので、小量の試料でも導入が容品
になシ、トンネルガス流量の調節で、高周波電力、冷却
ガス、プラズマ用ガス、キャリヤガスの流量等を広範囲
に調節することが可能となシ、色々の場合に応じてＳ
／ Ｎ比の良い分析が可能となる。
第１図は本発明の一実施例の線断側面図、第２図は従来
例の縦断側面図である。 １・・・キャリヤガス管、２・・・プラズマ用ガス管、
３・・・冷却用ガス管、４・・・高周波コイル、５・・
・プラズマ炎、６・・・トンネルガス管、７・・・試料
霧化器、８・・・プラズマ炎内に形成されたトンネル。 代理人 弁理士 縣 浩 介
例の縦断側面図である。 １・・・キャリヤガス管、２・・・プラズマ用ガス管、
３・・・冷却用ガス管、４・・・高周波コイル、５・・
・プラズマ炎、６・・・トンネルガス管、７・・・試料
霧化器、８・・・プラズマ炎内に形成されたトンネル。 代理人 弁理士 縣 浩 介
Claims (1)
- キャリヤガス管と、その外側のプラズマ用ガス管と更に
その外側の冷却用ガス管との三重管構成において、上記
キャリヤガス管の中心に更にトンネルガス管を設けて四
重管構成とし、キャリヤガス管によって試料をプラズマ
炎に導入し、トンネルガス管によってプラズマ炎中心部
に試料を含まないガスを供給するようにしたことを特徴
とするＩＣｐ発光分光分析用プラズマトーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5919384A JPS60201239A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｉｃｐ発光分光分析用プラズマト−チ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5919384A JPS60201239A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｉｃｐ発光分光分析用プラズマト−チ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60201239A true JPS60201239A (ja) | 1985-10-11 |
Family
ID=13106334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5919384A Pending JPS60201239A (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | Ｉｃｐ発光分光分析用プラズマト−チ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60201239A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2773300A1 (fr) * | 1997-12-29 | 1999-07-02 | Air Liquide | Torche a plasma et installation d'analyse de gaz utilisant une telle torche |
| EP0930810A1 (fr) * | 1997-12-29 | 1999-07-21 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Torche à plasma à injecteur réglable et installation d'analyse d'un gaz utilisant une telle torche |
| CN111331148A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-26 | 中天智能装备有限公司 | Icp等离子冷却系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647312U (ja) * | 1987-07-02 | 1989-01-17 |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP5919384A patent/JPS60201239A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647312U (ja) * | 1987-07-02 | 1989-01-17 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2773300A1 (fr) * | 1997-12-29 | 1999-07-02 | Air Liquide | Torche a plasma et installation d'analyse de gaz utilisant une telle torche |
| EP0930810A1 (fr) * | 1997-12-29 | 1999-07-21 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Torche à plasma à injecteur réglable et installation d'analyse d'un gaz utilisant une telle torche |
| US6236012B1 (en) | 1997-12-29 | 2001-05-22 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Plasma torch with an adjustable injector and gas analyzer using such a torch |
| CN111331148A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-06-26 | 中天智能装备有限公司 | Icp等离子冷却系统 |
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