JPS60206053A - リ−ドフレ−ム - Google Patents
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- JPS60206053A JPS60206053A JP59059455A JP5945584A JPS60206053A JP S60206053 A JPS60206053 A JP S60206053A JP 59059455 A JP59059455 A JP 59059455A JP 5945584 A JP5945584 A JP 5945584A JP S60206053 A JPS60206053 A JP S60206053A
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- cladding
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- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
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- Wire Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の技術分野]
本発明は半導体用のリードフレームに関する。
[発明の技術的背景とその問題点]
従来から、半導体のリードフレームとしては、42アロ
イ(42%Ni−Fe合金)のようなFe−Ni系合金
で形成されたものが知られている。
イ(42%Ni−Fe合金)のようなFe−Ni系合金
で形成されたものが知られている。
しかしながら、このようなリードフレームは、硬度が高
く折曲げ性に優れている反面、半導体の高集積化に伴っ
て要求されてきている熱放散性が充分でなく、また材料
価格が高いという欠点があった。
く折曲げ性に優れている反面、半導体の高集積化に伴っ
て要求されてきている熱放散性が充分でなく、また材料
価格が高いという欠点があった。
近年、このようなFe−Ni系合金に代って値段の安価
なCu合金でリードフレームを形成することが検討され
ているが、Al1線とのボンディング性、硬度、折曲げ
性、耐酸化性等のリードフレームに要求されるすべての
特性を満足させるものは得られていない。
なCu合金でリードフレームを形成することが検討され
ているが、Al1線とのボンディング性、硬度、折曲げ
性、耐酸化性等のリードフレームに要求されるすべての
特性を満足させるものは得られていない。
[発明の目的1
本発明者らはこのような点に対処して鋭意研究を進めた
結果、従来のl”e−Ni系合金にCuまたはCu合金
、特に析出硬化形のCu合金をクラッドすることにより
前述の特性をすべて満足させるリードフレームが得られ
ることを見出した。
結果、従来のl”e−Ni系合金にCuまたはCu合金
、特に析出硬化形のCu合金をクラッドすることにより
前述の特性をすべて満足させるリードフレームが得られ
ることを見出した。
本発明はこのような知見に基づいてなされたもので、A
l1線とのボンディング性、硬度、折曲げ性、耐酸化性
および半田付は性に優れ、熱放散性の高いリードフレー
ムを提供することを目的とする。
l1線とのボンディング性、硬度、折曲げ性、耐酸化性
および半田付は性に優れ、熱放散性の高いリードフレー
ムを提供することを目的とする。
[発明の概要]
ずなわち本発明は、Fe合金からなる板状体の両面に、
CuまたはCt1合金からなる薄板をクラッドしてなる
クラツド材で形成したことを特徴とするリードフレーム
である。
CuまたはCt1合金からなる薄板をクラッドしてなる
クラツド材で形成したことを特徴とするリードフレーム
である。
本発明に用いるクラツド材の一例を第1図に示ず。同図
において符号1はFe合金からなる板状体、符号2はそ
の両面にクラッドされたQuまたはCu合金からなる薄
板を示す。
において符号1はFe合金からなる板状体、符号2はそ
の両面にクラッドされたQuまたはCu合金からなる薄
板を示す。
ここで板状体1を構成するFe合金としては、例えば4
2アロイやコバール(F’e −Ni −C。
2アロイやコバール(F’e −Ni −C。
合金)を使用することができる。また、これらの板状体
の両面にクラッドする薄板2は、20μm以上の厚さの
ものを使用するのが望ましく、特に析出硬化形のCu合
金で構成した薄板を使用するのが望ましい。
の両面にクラッドする薄板2は、20μm以上の厚さの
ものを使用するのが望ましく、特に析出硬化形のCu合
金で構成した薄板を使用するのが望ましい。
このような析出硬化形Cu合金は、cr s Zrのよ
うな析出硬化成分元素とCuを高温で溶解し、連続鋳造
法により鋳造し、さらに熱間圧延、冷間圧延し、溶体化
熱処理を行なった後、冷間加工を施し、次いで析出硬化
処理を行なうことにより得ることができる。
うな析出硬化成分元素とCuを高温で溶解し、連続鋳造
法により鋳造し、さらに熱間圧延、冷間圧延し、溶体化
熱処理を行なった後、冷間加工を施し、次いで析出硬化
処理を行なうことにより得ることができる。
特にCI’0.1〜1重量%とZr0.05〜0゜5重
量%を含むCu合金を400〜500℃の温度で析出硬
化処理し、1000〜10000個/−の密度で0.5
〜50μ操の析出物を析出させたCu合金は、硬度、折
曲げ性、耐熱性、!電性に優れているので使用すること
が望ましい。
量%を含むCu合金を400〜500℃の温度で析出硬
化処理し、1000〜10000個/−の密度で0.5
〜50μ操の析出物を析出させたCu合金は、硬度、折
曲げ性、耐熱性、!電性に優れているので使用すること
が望ましい。
また、上記割合のCr 57−r以外にMa、Si、3
n、Ni%Zn、Mn、P、AUから選ばれた1種また
は2種以上の元素を合計量で1重量%以下含有させ、同
様に析出硬化処理を施したCu合金を用いることもでき
る。
n、Ni%Zn、Mn、P、AUから選ばれた1種また
は2種以上の元素を合計量で1重量%以下含有させ、同
様に析出硬化処理を施したCu合金を用いることもでき
る。
本発明のリードフレームは、このようなCu合金または
Cuからなる薄板2を、前述のFe合金からなる板状体
1の両面に全体の厚さが0.15〜0,25nになるよ
うに常法により冷間でクラッドしてなるクラッド材料を
400〜500℃の温度で析出硬化処理した後、打抜き
加工等の方法で所定形状に成形することにより得られ、
折曲げ性を始めとする種々の特性に極めて優れている。
Cuからなる薄板2を、前述のFe合金からなる板状体
1の両面に全体の厚さが0.15〜0,25nになるよ
うに常法により冷間でクラッドしてなるクラッド材料を
400〜500℃の温度で析出硬化処理した後、打抜き
加工等の方法で所定形状に成形することにより得られ、
折曲げ性を始めとする種々の特性に極めて優れている。
[発明の実施例〕
以下本発明の実施例について記載する。
次表に示す組成のCu合金を連続鋳造し、熱間圧延後、
溶体化熱処理を行なった。次いで冷間圧延により厚さ0
.2uの板状に仕上げた。
溶体化熱処理を行なった。次いで冷間圧延により厚さ0
.2uの板状に仕上げた。
こうして得られた薄板を、4270イからなる厚さ0.
11mmの板状体の両面に常法によりクラッドし、45
0℃で析出硬化処理を施し、これを打抜き加工し、第2
図に示す形状のリードフレーム3を製造した。
11mmの板状体の両面に常法によりクラッドし、45
0℃で析出硬化処理を施し、これを打抜き加工し、第2
図に示す形状のリードフレーム3を製造した。
次に得られたリードフレームの折曲げ性、表面硬[fお
よUALI線とのボンディング性を試験した。
よUALI線とのボンディング性を試験した。
結果は同表に示す通りであった。なお、同表中ボンディ
ング性は第3図に示すように、実施例のリードフレーム
3のチップ搭載部3aにダイ接着剤4を介してシリコン
ウェハー5を接着し、さらにその上にAu蒸着膜6を形
成した後、このAu蒸@M6とこれに対応するリードフ
レームの接続部3bをAiJめっきを施すことなく、A
lll子線直接接続したときALI線7のA部で破断し
たものをO印とした。符号8は樹脂モールド部を示ず。
ング性は第3図に示すように、実施例のリードフレーム
3のチップ搭載部3aにダイ接着剤4を介してシリコン
ウェハー5を接着し、さらにその上にAu蒸着膜6を形
成した後、このAu蒸@M6とこれに対応するリードフ
レームの接続部3bをAiJめっきを施すことなく、A
lll子線直接接続したときALI線7のA部で破断し
たものをO印とした。符号8は樹脂モールド部を示ず。
なお、8部で破断したものはなかった。
(以下余白)
*90℃繰り返し曲げ試験、規格4回以上[発明の効果
] 以上の説明から明らかなように本発明のリードフレーム
は、Al1線とのボンディング性、表面硬度、折曲げ性
に優れ、しかも耐酸化性、半田付は性および熱放散性が
良好で安価である。
] 以上の説明から明らかなように本発明のリードフレーム
は、Al1線とのボンディング性、表面硬度、折曲げ性
に優れ、しかも耐酸化性、半田付は性および熱放散性が
良好で安価である。
また、クラッドされたFe合金からなる板状体をCLI
またはCu合金の薄板とは完全な金属結合により接合さ
れており剥離することがない。
またはCu合金の薄板とは完全な金属結合により接合さ
れており剥離することがない。
第1図は本発明に用いるクラツド材の一例を示す横断面
図、第2図は本発明の一実施例のリードフレームの平面
図、第3図は実施例のり−ドフレームのAu線とのボン
ディング性の試験方法を示す拡大断面図である。 1・・・・・・・・・・・・Fe合金からなる板状体2
・・・・・・・・・・・・CuまたはCu合金からなる
薄板 3・・・・・・・・・・・・リードフレーム4・・・・
・・・・・・・・ダイ接着剤5・・・・・・・・・・・
・シリコンウェハー6・・・・・・・・・・・・Au蒸
着膜7・・・・・・・・・・・・Au線 代理人弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第2図
図、第2図は本発明の一実施例のリードフレームの平面
図、第3図は実施例のり−ドフレームのAu線とのボン
ディング性の試験方法を示す拡大断面図である。 1・・・・・・・・・・・・Fe合金からなる板状体2
・・・・・・・・・・・・CuまたはCu合金からなる
薄板 3・・・・・・・・・・・・リードフレーム4・・・・
・・・・・・・・ダイ接着剤5・・・・・・・・・・・
・シリコンウェハー6・・・・・・・・・・・・Au蒸
着膜7・・・・・・・・・・・・Au線 代理人弁理士 則 近 憲 佑 (ほか1名) 第1図 第2図
Claims (5)
- (1)Fe合金からなる板状体の両面に、CuまたはC
u合金からなる薄板をクラッドしてなるクラツド材で形
成したことを特徴とするリードフレーム。 - (2)Cu合金は、析出硬化形のCu合金である特許請
求の範囲第1項記載のリードフレーム。 - (3)析出硬化形Cu合金は、析出硬化元素としてQr
とZrを含有するCu合金である特許請求の範囲第2項
記載のリードフレーム。 - (4)析出硬化形Cu合金は、C「0.1〜1重量%と
Zr 0.05〜0.5!ffi%とを含有したもので
ある特許請求の範囲第3項記載のリードフレーム。 - (5)クラッド合金は、400〜500℃の温度で析出
硬化処理がなされたものである特許請求の範囲第1項な
いし第4項のいずれかに族記載のリードフレーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59059455A JPH061800B2 (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | リ−ドフレ−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59059455A JPH061800B2 (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | リ−ドフレ−ム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60206053A true JPS60206053A (ja) | 1985-10-17 |
| JPH061800B2 JPH061800B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=13113791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59059455A Expired - Lifetime JPH061800B2 (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | リ−ドフレ−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061800B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02161711A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-21 | Hitachi Cable Ltd | セラミックコンデンサに半田接合される板状のリード線 |
| FR2733354A1 (fr) * | 1995-04-24 | 1996-10-25 | Samsung Electronics Co Ltd | Appareil de soudage de connexions interieures comportant un moyen de dissipation de chaleur, et procede de soudage utilisant cet appareil |
| WO2014136824A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 日亜化学工業株式会社 | リードフレーム及び半導体装置 |
| JP2014175321A (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-22 | Nichia Chem Ind Ltd | リードフレーム及び発光装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5342390B2 (ja) | 2009-09-25 | 2013-11-13 | 株式会社岩田レーベル | Icタグの利用方法 |
-
1984
- 1984-03-29 JP JP59059455A patent/JPH061800B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02161711A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-21 | Hitachi Cable Ltd | セラミックコンデンサに半田接合される板状のリード線 |
| FR2733354A1 (fr) * | 1995-04-24 | 1996-10-25 | Samsung Electronics Co Ltd | Appareil de soudage de connexions interieures comportant un moyen de dissipation de chaleur, et procede de soudage utilisant cet appareil |
| WO2014136824A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 日亜化学工業株式会社 | リードフレーム及び半導体装置 |
| JP2014175321A (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-22 | Nichia Chem Ind Ltd | リードフレーム及び発光装置 |
| JPWO2014136824A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2017-02-16 | 日亜化学工業株式会社 | リードフレーム及び半導体装置 |
| US9748164B2 (en) | 2013-03-05 | 2017-08-29 | Nichia Corporation | Semiconductor device |
| US9887335B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-02-06 | Nichia Corporation | Light emitting device including a resin package having a cavity |
| US10096758B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-10-09 | Nichia Corporation | Lead frame including a plurality of units connected together and semiconductor device including the lead frame |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH061800B2 (ja) | 1994-01-05 |
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