JPS60209204A - 超純水製造方法 - Google Patents
超純水製造方法Info
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- JPS60209204A JPS60209204A JP6408684A JP6408684A JPS60209204A JP S60209204 A JPS60209204 A JP S60209204A JP 6408684 A JP6408684 A JP 6408684A JP 6408684 A JP6408684 A JP 6408684A JP S60209204 A JPS60209204 A JP S60209204A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は超純水製造方法に関するものであり、被処理
水に電圧を印加させ、被処理水中の不純物をイオン化ま
たは分極させることにより、被処理水中の不純物を効果
的に除去できるようにした超純水製造方法に関するもの
である。
水に電圧を印加させ、被処理水中の不純物をイオン化ま
たは分極させることにより、被処理水中の不純物を効果
的に除去できるようにした超純水製造方法に関するもの
である。
今日、超ＬＳＩは２６６にビットが主流となっており、
近い将来において１Ｍビット、４Ｍビットが主流１（Ｊ
Ｃると考えられる。これらの超ＬＳＩ製造工程の各段階
において、超純水を用いて製品、半製品を洗うため、超
純水の質は製品の歩留まりに直接影響を与える。このた
め従来においては例えば第１図に示すような超純水製造
方法がとられていた。
近い将来において１Ｍビット、４Ｍビットが主流１（Ｊ
Ｃると考えられる。これらの超ＬＳＩ製造工程の各段階
において、超純水を用いて製品、半製品を洗うため、超
純水の質は製品の歩留まりに直接影響を与える。このた
め従来においては例えば第１図に示すような超純水製造
方法がとられていた。
第１図は従来の超純水製造方法の一例を示すブロック線
図である。第１図において、吸入口（１）は被処理水が
吸入されるものである。前処理工程（１）は、吸入口（
１）からの被処理水中の塩素イオン、有機物などの不純
物を吸着する活性炭フィルタ（２）と、活性炭フィルタ
（２）を経た被処理水中の遊離塩素等の不純物を除去し
脱塩するイオン交換装置（３）と、イオン交換装置（３
）で除去できなかった不純物をさらに除去し脱塩する高
性能イオン交換装置（４）とがらなっている。後処理工
程（１）は、高性能イオン交換装置（４）で除去できな
かった微粒子、溶解物質を“除去する逆浸透圧膜（５）
と、逆浸透圧膜（５）を経た被処理水中の微生物を殺菌
する紫外線灯（６）と、紫外線灯（６）を経た被処理水
中の微生物の死骸などの微粒子を除去する限外濾過膜（
７）とからなっている。
図である。第１図において、吸入口（１）は被処理水が
吸入されるものである。前処理工程（１）は、吸入口（
１）からの被処理水中の塩素イオン、有機物などの不純
物を吸着する活性炭フィルタ（２）と、活性炭フィルタ
（２）を経た被処理水中の遊離塩素等の不純物を除去し
脱塩するイオン交換装置（３）と、イオン交換装置（３
）で除去できなかった不純物をさらに除去し脱塩する高
性能イオン交換装置（４）とがらなっている。後処理工
程（１）は、高性能イオン交換装置（４）で除去できな
かった微粒子、溶解物質を“除去する逆浸透圧膜（５）
と、逆浸透圧膜（５）を経た被処理水中の微生物を殺菌
する紫外線灯（６）と、紫外線灯（６）を経た被処理水
中の微生物の死骸などの微粒子を除去する限外濾過膜（
７）とからなっている。
貯槽（８）は限外濾過膜（７）を経て製造された超純水
を貯めるもので、巡環パイプ（９）を介して限外濾過膜
（７）に巡環されている。排出口αＱは限外濾過膜（７
）を経て製造された超純水の取出口である。
を貯めるもので、巡環パイプ（９）を介して限外濾過膜
（７）に巡環されている。排出口αＱは限外濾過膜（７
）を経て製造された超純水の取出口である。
次に動作について説明する。超純水の製造は前処理工程
（１）として、沈電槽（図示せず）、活性炭フィルタ（
２）、イオン交換装置（３）並びに高性能イオン交換装
置（４）を用いて、被処理水中の不純物の凝集沈澱、活
性炭濾過、精密濾過、脱塩などの一般的な浄水処理が行
われる。この前処理工程（１）で除去できなかった微粒
子を捕捉するために、後処理工程（１）において、逆浸
透圧膜（５）によって微粒子を捕促し、かつ高性能イオ
ン交換装置（４）を通過した微量のイオンを殆んど阻止
し、溶解している各種の物質を被処理水から除去する。
（１）として、沈電槽（図示せず）、活性炭フィルタ（
２）、イオン交換装置（３）並びに高性能イオン交換装
置（４）を用いて、被処理水中の不純物の凝集沈澱、活
性炭濾過、精密濾過、脱塩などの一般的な浄水処理が行
われる。この前処理工程（１）で除去できなかった微粒
子を捕捉するために、後処理工程（１）において、逆浸
透圧膜（５）によって微粒子を捕促し、かつ高性能イオ
ン交換装置（４）を通過した微量のイオンを殆んど阻止
し、溶解している各種の物質を被処理水から除去する。
この逆浸透圧膜（６）を通過した被処理水は、殆んど不
純物を含まないが、逆浸透圧膜（５）の性質上、一部不
純物が漏れる恐れがあり、特に微生物が漏れた場合、わ
ずかな栄養物質によっても増殖する恐れがある。このた
め、紫外線灯（６）を用いて紫外線殺菌を行い、その死
骸などの微粒子を限外濾過膜（７）で捕捉する。
純物を含まないが、逆浸透圧膜（５）の性質上、一部不
純物が漏れる恐れがあり、特に微生物が漏れた場合、わ
ずかな栄養物質によっても増殖する恐れがある。このた
め、紫外線灯（６）を用いて紫外線殺菌を行い、その死
骸などの微粒子を限外濾過膜（７）で捕捉する。
このようにして得られた超純水は貯槽（８）に貯められ
、必要に応じて排水口Ｏ０から取出されるが、貯槽（８
）の容器などからの溶出物等で再び汚染される恐れがあ
るため、貯槽（８）内の超純水を巡環パイプ（９）を介
して限外濾過膜（７）に巡環する。
、必要に応じて排水口Ｏ０から取出されるが、貯槽（８
）の容器などからの溶出物等で再び汚染される恐れがあ
るため、貯槽（８）内の超純水を巡環パイプ（９）を介
して限外濾過膜（７）に巡環する。
従来の超純水製造方法は以上のように構成され、現在主
流の２６６にビットの超ＬＳＩの製造に関しては、その
洗浄に用いる超純水としては十分に不純物が除去され問
題はないが、将来主流となる１Ｍビット、４Ｍビットの
製造に用いられる超純水としては、まだ不純物の除去に
おいて不十分である。
流の２６６にビットの超ＬＳＩの製造に関しては、その
洗浄に用いる超純水としては十分に不純物が除去され問
題はないが、将来主流となる１Ｍビット、４Ｍビットの
製造に用いられる超純水としては、まだ不純物の除去に
おいて不十分である。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたものであり、１被処理水に電圧を印加させ
、被処理水中の不純物を、超微細な不純物までイオン化
または分極させることにより、被処理水中の不純物を効
果的に除去するようにした超純水製造方法を提供するこ
とを目的としている。
めになされたものであり、１被処理水に電圧を印加させ
、被処理水中の不純物を、超微細な不純物までイオン化
または分極させることにより、被処理水中の不純物を効
果的に除去するようにした超純水製造方法を提供するこ
とを目的としている。
以下この発明の一実施例を図について説明する。
第２図はこの発明に係る超純水製造方法の一実施例を示
すブロック線図である。図中第１図と同一部分には同一
符号を付している。第２図において、電極装置（Ｉυは
、例えば間隔１ ｇｍもしくは４０１１１Ｍで対向設置
された電極（ｌｌａ）、（ｌｌｂ）を備え、吸入口（１
）からの被処理水に例えば０．１ｖ〜８０Ｖの交流電圧
、もしくは例えば０．１ｖ〜２０Ｖの直流電圧またはパ
ルス電圧の少くとも何れか−もしくは二辺上を重畳した
ものを印加して、かつ被処理水を例えば８分以上滞留さ
せて、被処理水中の不純物を、超微細な不純物までイオ
ン化または分極させるものである。
すブロック線図である。図中第１図と同一部分には同一
符号を付している。第２図において、電極装置（Ｉυは
、例えば間隔１ ｇｍもしくは４０１１１Ｍで対向設置
された電極（ｌｌａ）、（ｌｌｂ）を備え、吸入口（１
）からの被処理水に例えば０．１ｖ〜８０Ｖの交流電圧
、もしくは例えば０．１ｖ〜２０Ｖの直流電圧またはパ
ルス電圧の少くとも何れか−もしくは二辺上を重畳した
ものを印加して、かつ被処理水を例えば８分以上滞留さ
せて、被処理水中の不純物を、超微細な不純物までイオ
ン化または分極させるものである。
次に動作について説明する。吸入口（１）から吸入され
た被処理水は電極装置αすにおいて電圧が印加され、被
処理水中の不純物は超微細な不純物まで強制的にイオン
化または分極される。このイオン化または分極された不
純物同志はお互いに結合して大きくなる。不純物はイオ
ン化または分極しており、かつお互いに結合して大きく
なっているため、活性炭フィルタ（２）、イオン交換装
置（３）、高性能イオン交換装置（４）並びに逆浸透圧
膜（５）によって効果的に吸着除去される。
た被処理水は電極装置αすにおいて電圧が印加され、被
処理水中の不純物は超微細な不純物まで強制的にイオン
化または分極される。このイオン化または分極された不
純物同志はお互いに結合して大きくなる。不純物はイオ
ン化または分極しており、かつお互いに結合して大きく
なっているため、活性炭フィルタ（２）、イオン交換装
置（３）、高性能イオン交換装置（４）並びに逆浸透圧
膜（５）によって効果的に吸着除去される。
なお、上記実施例では、電極装置０１）を活性フィルタ
（２）の前段階に設置したが、イオン交換装置（３）。
（２）の前段階に設置したが、イオン交換装置（３）。
高性能イオン交換装置（４）、逆浸透圧膜（５）の前段
階に設置してもよく、また各前段階に複数個設置しても
よい。さらに電極装置Ｑρによって電圧を印加するため
１．被処理水中の微生物を殺菌することができ、紫外線
灯（６）を除去することもできる。
階に設置してもよく、また各前段階に複数個設置しても
よい。さらに電極装置Ｑρによって電圧を印加するため
１．被処理水中の微生物を殺菌することができ、紫外線
灯（６）を除去することもできる。
以上のようにこの発明によれば、超純水製造の前処理工
程の前段階または前処理工程中、あるいは後処理工程の
前段階もしくは後処理工程中の少くとも何れか−におい
て、被処理水中の不純物に電圧を印加して、不純物を強
制的にイオン化または分極させているため、被処理水中
の不純物を効果的に除去でき、純度の高い超純水を得る
ことができる効果を有する。
程の前段階または前処理工程中、あるいは後処理工程の
前段階もしくは後処理工程中の少くとも何れか−におい
て、被処理水中の不純物に電圧を印加して、不純物を強
制的にイオン化または分極させているため、被処理水中
の不純物を効果的に除去でき、純度の高い超純水を得る
ことができる効果を有する。
第１図は従来の超純水製造方法を示すブロック線図、第
２図はこの発明に係る超純水製造方法の一実施例を示す
ブロック線図である。 図において、（１）は吸入口、（２）は活性炭フィルタ
、（３）はイオン交換装置、（４）は高性能イオン交換
装置、（５）は逆浸透圧膜、（６）は紫外線灯、（７）
は限外濾過膜、（８）は貯槽、（９）は連環パイプ、α
Ｑは排出口、αりは電極装置、（ｌｌａ）＋（ｌｌｂ）
は電極である。なお各図中オ １ 日 才 ２ 凪
２図はこの発明に係る超純水製造方法の一実施例を示す
ブロック線図である。 図において、（１）は吸入口、（２）は活性炭フィルタ
、（３）はイオン交換装置、（４）は高性能イオン交換
装置、（５）は逆浸透圧膜、（６）は紫外線灯、（７）
は限外濾過膜、（８）は貯槽、（９）は連環パイプ、α
Ｑは排出口、αりは電極装置、（ｌｌａ）＋（ｌｌｂ）
は電極である。なお各図中オ １ 日 才 ２ 凪
Claims (1)
- （１） イオン交換装置を用いて被処理水の不純物を除
去する前処理工程と、逆浸透圧膜もしくは限外濾過膜の
少くとも何れか一方を用いて前記前処理工程を経た前記
被処理水中の微粒子を除去する後処理工程とからなる超
純水製造方法において、前記前処理工程の前段階または
前記前処理工程中あるいは前記後処理工程の前段階もし
くは前記後処理工程中の少くとも何れかにおいて、前記
被処理水に電圧を印加して前記被処理中の不純物をイオ
ン化または分極させるようにしたことを特徴とする超純
水製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6408684A JPS60209204A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 超純水製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6408684A JPS60209204A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 超純水製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60209204A true JPS60209204A (ja) | 1985-10-21 |
Family
ID=13247914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6408684A Pending JPS60209204A (ja) | 1984-03-31 | 1984-03-31 | 超純水製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60209204A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320085A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-27 | Toray Ind Inc | 精製水製造装置 |
| JPS6359387A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 | Toray Ind Inc | 超純水の製造方法 |
| JPS63100998A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-06 | Toray Ind Inc | 超純水の製造方法 |
| JPH02298397A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 純水の製造方法およびそのための装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50118974A (ja) * | 1974-03-04 | 1975-09-18 |
-
1984
- 1984-03-31 JP JP6408684A patent/JPS60209204A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50118974A (ja) * | 1974-03-04 | 1975-09-18 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6320085A (ja) * | 1986-07-10 | 1988-01-27 | Toray Ind Inc | 精製水製造装置 |
| JPS6359387A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 | Toray Ind Inc | 超純水の製造方法 |
| JPS63100998A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-06 | Toray Ind Inc | 超純水の製造方法 |
| JPH02298397A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 純水の製造方法およびそのための装置 |
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