JPS6021379A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6021379A JPS6021379A JP12945683A JP12945683A JPS6021379A JP S6021379 A JPS6021379 A JP S6021379A JP 12945683 A JP12945683 A JP 12945683A JP 12945683 A JP12945683 A JP 12945683A JP S6021379 A JPS6021379 A JP S6021379A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- channel
- plate
- bath
- steam
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の均一化を図９、しかも＃ｉＵ Ｍ制御の容易な真空蒸
着装置に関するものでちる。
着装置に関するものでちる。
従来の連続真空蒸着用の僧の形状１ｒｌｌを第１図←）
〜（Ｃ）に示す。
〜（Ｃ）に示す。
蒸着槽は、溶解した金属の蒸気を真空条件下で湯１から
発生させる浴槽２と、その蒸気を板７まで導くダクト（
′ｆチャンネル６から構成されている。板７に蒸着する
蒸気流量は浴槽内のヒーター電力とシャッタ５の開孔面
積で制御している。
発生させる浴槽２と、その蒸気を板７まで導くダクト（
′ｆチャンネル６から構成されている。板７に蒸着する
蒸気流量は浴槽内のヒーター電力とシャッタ５の開孔面
積で制御している。
チャンネル６は板が垂直に走るか水平に走るかによって
、第１図に）、（Ｂ）に示す垂直ライン、あるいは第１
図（Ｃ）に示す水平ラインという形状になっている。な
お、第１図（Ａ） （ｂ）は第１図（Ａ）（ａ）の斜視
図である。
、第１図に）、（Ｂ）に示す垂直ライン、あるいは第１
図（Ｃ）に示す水平ラインという形状になっている。な
お、第１図（Ａ） （ｂ）は第１図（Ａ）（ａ）の斜視
図である。
蒸気流量をｉｉＩＩｌ．ｌｉｉｌ−ｊ−るソヤッタ５は
、開孔面積を変えるため、バタフライ弁タイプ〔第１図
に）。
、開孔面積を変えるため、バタフライ弁タイプ〔第１図
に）。
（Ｃ）のシャッタ」あるいはスライド式〔第１図（Ｂ）
）のものが使われている。シャッタの開孔面積の変化は
バタフライ弁タイプでは蝶番形の軸受け６、スライド式
ではビニオンラック式３のもので操作されている。適格
シャッタ５には蒸気の凝固を防ぐためのヒーター４が備
えつけられている。
）のものが使われている。シャッタの開孔面積の変化は
バタフライ弁タイプでは蝶番形の軸受け６、スライド式
ではビニオンラック式３のもので操作されている。適格
シャッタ５には蒸気の凝固を防ぐためのヒーター４が備
えつけられている。
、従来の蒸着槽では次の理由で蒸気の板幅方向の流速分
布（板に蒸着する全屈蒸気の幅方向分布）の制御が峻し
くなることが懸念されていた。
布（板に蒸着する全屈蒸気の幅方向分布）の制御が峻し
くなることが懸念されていた。
バタフライ弁タイプあるい祉スライド式のシャッタ両者
ともに、蒸気の流れは蒸Ｍｉ４から垂直に流出しその方
向はチャンネル６内で様々な方向となっている。このた
めに、蒸気の整流効果が十分でなく板７０幅方向に蒸着
量の不均一な分布が出やすいことが（鰻念される。通當
、チ）・ンイ、ル６内での圧力は１０−２’ｌ’ｏｒｒ
〜１０−’ＴｏｒｒとＩ！Ｘ：＜、？Ａ気の平均自由
行程（金属蒸気分子同志が衝突う゛る半均距離）が長く
なるため、チャンネル６内で整流を行うためにはチャン
ネル６の長さを十分に長くとることが必要となる。とこ
ろが、実際問題としてチャンネル６の長さを長ぐするこ
とは材料、ヒータ取付けのためコスト高となるため望ま
しくない。
ともに、蒸気の流れは蒸Ｍｉ４から垂直に流出しその方
向はチャンネル６内で様々な方向となっている。このた
めに、蒸気の整流効果が十分でなく板７０幅方向に蒸着
量の不均一な分布が出やすいことが（鰻念される。通當
、チ）・ンイ、ル６内での圧力は１０−２’ｌ’ｏｒｒ
〜１０−’ＴｏｒｒとＩ！Ｘ：＜、？Ａ気の平均自由
行程（金属蒸気分子同志が衝突う゛る半均距離）が長く
なるため、チャンネル６内で整流を行うためにはチャン
ネル６の長さを十分に長くとることが必要となる。とこ
ろが、実際問題としてチャンネル６の長さを長ぐするこ
とは材料、ヒータ取付けのためコスト高となるため望ま
しくない。
本発明は、従来の真空蒸着用の槽において、板の１１１
１方向の蒸気流速分布の均一化−−チャンネル内の短か
い距離で整流を行うｍ−の改善を河すること金目的とし
てなされたものである。
１方向の蒸気流速分布の均一化−−チャンネル内の短か
い距離で整流を行うｍ−の改善を河すること金目的とし
てなされたものである。
ところで、上述の従来の真空蒸着用の槽では上面８から
の蒸気の拡がり、あるいは縮少が影響して膜厚分布の不
均一を生じることが考えられる。例えば、第２図に）に
示すように蒸着槽の上面８の開孔ａが板７の幅Ｗよフ小
さい場合（ａ （ｗ ）には板７の両端部の膜厚が薄く
なシ、一方第２図の）に示すように逆の場合〔上面８の
開孔ａが板幅Ｗより大きい場合（ａ＞ｗ））には板７の
両端の膜厚が厚くなることが１−念される。
の蒸気の拡がり、あるいは縮少が影響して膜厚分布の不
均一を生じることが考えられる。例えば、第２図に）に
示すように蒸着槽の上面８の開孔ａが板７の幅Ｗよフ小
さい場合（ａ （ｗ ）には板７の両端部の膜厚が薄く
なシ、一方第２図の）に示すように逆の場合〔上面８の
開孔ａが板幅Ｗより大きい場合（ａ＞ｗ））には板７の
両端の膜厚が厚くなることが１−念される。
ヤこで本発明では、板１酩に応しでチャンネル内で十分
にｍ流を行９ためｌＡｆチャンネル内に蒸気流れ制御用
ガイド【設け０゜カイト出口には可変カイトを設は板幅
に合せてその一度を決めることができるようにする。流
量制御は浴槽の上面にスライド式のンヤツタあるいは回
転角度と流量の関係が把握しやすいバタフライタイプの
ンヤツタを置いて行うようにする真空蒸着装置を提供す
るものである。
にｍ流を行９ためｌＡｆチャンネル内に蒸気流れ制御用
ガイド【設け０゜カイト出口には可変カイトを設は板幅
に合せてその一度を決めることができるようにする。流
量制御は浴槽の上面にスライド式のンヤツタあるいは回
転角度と流量の関係が把握しやすいバタフライタイプの
ンヤツタを置いて行うようにする真空蒸着装置を提供す
るものである。
第６図（４）、＜１３）は本発明装置の一実施態様例を
示す図で、第６図（ト）は断面図、第６１惺）は平面図
である。
示す図で、第６図（ト）は断面図、第６１惺）は平面図
である。
第６図に）、 （Ｂ）において、蒸発は従来と同じく浴
槽２の湯１の表面から起こる。浴槽２の上面８は従来の
通９となっている。本発明の構成では、タクトのガイド
部９をｅ Ｉｆｆ、し、該ガイド部９に取付けられた可
変ガイド１０がチャンネル内１」１１の外の板７０幅に
対して蒸気を均一に流すことが操作可能に配置されてい
る。蒸気流石： ”ｔ １ｌｉｌｌ （＋！ｉｆ する
ためにバタフライ弁弐ンヤツタ５、該シャッタ５への蒸
気（＝Ｊ着防止のためのヒータ４及びシャックの駆動機
構３が従来通ｐに設置さＪしている。第６図に示すチャ
ンネル６は従来と回じ形状で８９、垂直ラインに対する
ものとなっている。従って、蒸気はチャノ不ル出口１１
を辿υ、板７に蒸／？！ｊされることになる。可変ガイ
ド１０及びシャック５の駆動軸１ ’Ｏａおよび３υは
、手！ＵＩＩ又は適宜手段によυ回動される。
槽２の湯１の表面から起こる。浴槽２の上面８は従来の
通９となっている。本発明の構成では、タクトのガイド
部９をｅ Ｉｆｆ、し、該ガイド部９に取付けられた可
変ガイド１０がチャンネル内１」１１の外の板７０幅に
対して蒸気を均一に流すことが操作可能に配置されてい
る。蒸気流石： ”ｔ １ｌｉｌｌ （＋！ｉｆ する
ためにバタフライ弁弐ンヤツタ５、該シャッタ５への蒸
気（＝Ｊ着防止のためのヒータ４及びシャックの駆動機
構３が従来通ｐに設置さＪしている。第６図に示すチャ
ンネル６は従来と回じ形状で８９、垂直ラインに対する
ものとなっている。従って、蒸気はチャノ不ル出口１１
を辿υ、板７に蒸／？！ｊされることになる。可変ガイ
ド１０及びシャック５の駆動軸１ ’Ｏａおよび３υは
、手！ＵＩＩ又は適宜手段によυ回動される。
−ｈ記のように４７’）成される本発明装置面において
Ｑ、Ｌ、次の作用がある。
Ｑ、Ｌ、次の作用がある。
タクトのカイト９とｂＩ変ガイド１０を浴槽２の上面８
に設けでいる／こめに、蒸気の流れは第４図にｌｊ＜ず
ようにすることができる。すなわち、■４図ｅこおいて
、ガイド内でのｚ・（気分子のお互いの衝突の頻度が多
くなり、蒸気の流れの均一化を計る作用ｔもたらすこと
が可能となっている。また、蒸気の出口の幅を板７の幅
と同じくすることがでさ、チャンネル内の圧力が１０−
２〜１０−’ Ｔｏｒｒなのでカイト通過後の流れは均
一化したままに保つことができる。
に設けでいる／こめに、蒸気の流れは第４図にｌｊ＜ず
ようにすることができる。すなわち、■４図ｅこおいて
、ガイド内でのｚ・（気分子のお互いの衝突の頻度が多
くなり、蒸気の流れの均一化を計る作用ｔもたらすこと
が可能となっている。また、蒸気の出口の幅を板７の幅
と同じくすることがでさ、チャンネル内の圧力が１０−
２〜１０−’ Ｔｏｒｒなのでカイト通過後の流れは均
一化したままに保つことができる。
一方、従来の蒸着槽であれは、例えば第１図に）に示す
シャッタを用いると、開展が小さい場合には本発明と同
じ効果が期待できるが、シャック開度を大きくすると蒸
気の流れはランダムな方向に流れ、特にンヤッタの両→
ノイドがらもれる蒸気址が増えてチャンネル出口方向で
も是流されないまま板に蒸着することになり、膜厚の幅
方向に不均一な分布がでさる恐れがるる。
シャッタを用いると、開展が小さい場合には本発明と同
じ効果が期待できるが、シャック開度を大きくすると蒸
気の流れはランダムな方向に流れ、特にンヤッタの両→
ノイドがらもれる蒸気址が増えてチャンネル出口方向で
も是流されないまま板に蒸着することになり、膜厚の幅
方向に不均一な分布がでさる恐れがるる。
以上詳述したよりに、不発ゆｊの主旨は、浴槽出口にガ
イドを設けその幅方向を調虹できるようにした点にある
。従って、この主旨に外れない機構、例えば流蓋制岬用
シャッタをスライド式としたもの等も考えられる。
イドを設けその幅方向を調虹できるようにした点にある
。従って、この主旨に外れない機構、例えば流蓋制岬用
シャッタをスライド式としたもの等も考えられる。
第１図（Ａ）〜（（’）は従来装置を示す図、第２図（
イ））。 （Ｂ）は？４１図い）〜（Ｃ）に示す装置の欠点を説明
するための千ｍ模式図、第３図に）、 ｔＪ３）は本発
明装置の一実施態様例を示す図、第４図は第３図に示す
装置の作用効果を説明するための図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 第１図 第１図 第１頁の続き ０発 明 者 愛甲琢哉 堺市石津西町５番地日新製鋼株 式会社阪神研究所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
イ））。 （Ｂ）は？４１図い）〜（Ｃ）に示す装置の欠点を説明
するための千ｍ模式図、第３図に）、 ｔＪ３）は本発
明装置の一実施態様例を示す図、第４図は第３図に示す
装置の作用効果を説明するための図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 第１図 第１図 第１頁の続き ０発 明 者 愛甲琢哉 堺市石津西町５番地日新製鋼株 式会社阪神研究所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号
Claims (1)
- 真空蒸着装置において、蒸着槽は浴槽とチャンネルから
構成されるｔ１９造とし、浴槽とチャンネルとの間にカ
イトを設け、該カイトは板幅に応じて変えることがでさ
るように設置し、蒸気流１ルの調４を用ンヤツクを浴１
凸の上面に設けたことを！１４徴とする兵空蒸治装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58129456A JPH062942B2 (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58129456A JPH062942B2 (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6021379A true JPS6021379A (ja) | 1985-02-02 |
| JPH062942B2 JPH062942B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=15009931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58129456A Expired - Lifetime JPH062942B2 (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062942B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6389651A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS63192859A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155369A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | High vacuum ion plating method and apparatus |
| JPS57174458A (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Construction of vessel for evaporating source |
| JPS58100675A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続蒸着方法及びその装置 |
-
1983
- 1983-07-18 JP JP58129456A patent/JPH062942B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155369A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | High vacuum ion plating method and apparatus |
| JPS57174458A (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Construction of vessel for evaporating source |
| JPS58100675A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続蒸着方法及びその装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6389651A (ja) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JPS63192859A (ja) * | 1987-02-05 | 1988-08-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続式真空蒸着装置 |
| JP2012510568A (ja) * | 2008-12-03 | 2012-05-10 | ファースト ソーラー インコーポレイテッド | トップダウン式の材料堆積用システム及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062942B2 (ja) | 1994-01-12 |
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