JPS6021432A - 集合光学系評価装置 - Google Patents

集合光学系評価装置

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JPS6021432A
JPS6021432A JP12903483A JP12903483A JPS6021432A JP S6021432 A JPS6021432 A JP S6021432A JP 12903483 A JP12903483 A JP 12903483A JP 12903483 A JP12903483 A JP 12903483A JP S6021432 A JPS6021432 A JP S6021432A
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JP
Japan
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optical system
slit
disk
image
collective optical
Prior art date
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Pending
Application number
JP12903483A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideharu Takei
竹井 英陽
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Publication of JPS6021432A publication Critical patent/JPS6021432A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は集合光学系の縦及び横方向の光学伝達関数(M
TF)及び光強度の変化を測定できるようにした集合光
学系評価装置に関する。
〔従来技術〕
従来の光学系評価装置として、例えば、第1図に示すも
のがある。この光学系評価装置は、光源1の光を集光す
るコンデンサレンズ2と、垂直方向に細溝が切られ、コ
ンデンサレンズ2よシの光の一部を通過させる物体側ス
リット3と、該スリット3を所定の位置に結像させるレ
ンズ4(後述する評価を受けるレンズである)と、該レ
ンズ4が結像する位置に配設され、水平方向に細溝が切
られている像側スリット5と、該スリット5に投影され
た像を所定位置に結像させるリレーレンズ6と、透明部
分と不透明部分が所定の間隔(例えば、その幅の比が1
=1)で交互に配列されて像側スリット5の焦点位置に
設けられると共に矢印方向Slに走査される光学的フー
リエ変換スリット7と、該スリット7の格子とリレーレ
ンズ6よシの像との重ね合せ像を所定位置に結像させる
コンデンサーレンズ8と、該レンズ8の結像位置に受光
面が配設され光強度信号を電気信号に変換する受光器9
と、受光器9の出力信号を基に所定の演算を行なう演算
回路10と、演算回路10による後述するMTF演算結
果を表示する表示部11とよシ構成される。
以上の構成において、MTF(Modulatton 
Tran−sfer Function :光学伝達関
数)は、周知の如く解像度を周波数特性としてカーブで
示すものであるが、第1図では白、黒の境界の明確なス
リットを用いておシ、光源1の光はコンデンサーレンズ
2を介して物体側スリット3に照射される。物体側スリ
ット3には、第2図に示すように、細溝の幅、Woより
も充分大きな幅Wsの範囲に光源の像12が形成されて
いる。物体側スリット3に形成された像は、レンズ4を
介して像側スリット5に投影される。この投影像が第3
図に示す像13であシ、この像13の幅をWi。
細溝の幅をΔW及び像13の長さをL賭すれば、Li)
 WりΔWの関係であシ、影像の情報は像側スリy、□
)i5においてX軸(第1図)方向に広がる一次元情報
とし扱われる。こめ−次元情報はコンデンサレンズ6に
よシフーリエ弯換スリット7の格子部に投影される。ス
リット7は図の矢印方向S1に走査され、光学的なフー
リエ変換が行なわれる(該スリット7の格子は、正弦波
格子が使用される)。変換された光強度情報は、受光器
9に依シ電気信号に変換され演算回路10に送出される
レンズ4による像面は、第4図に示すように、連続した
曲面像14となシ、これは大略4次の偶関数で示すこと
ができるため、測定点は7乃至5ケ所(第4図ではPo
、Pa、Pb、Pc、Pd)を定めることによυ、その
特性を知ることができる。
しかし、レンズ4が通常のレンズに代って集合光学系が
使用されると、第5図に示すようになる。即ち、個々の
レンズ100の画像範囲をQI Q2とし、その走査方
向(例えば、複写機に適用した場合を考える)をSdl
とすると、一点Q(図示せず)はQ’r + Qo +
 QIBの如くに連続して感材上(感光体面)に投影さ
れて一点Q′を形成する。このときQ’l * Qlo
r QSは直線的に投影されず、伺等かの曲線として投
影されるため、点Q′は異なりたMTFの平均的な値で
形成されることになる。従って、集合光学系の場合、S
d1方向の変化は無視できない。これは通常レンズのT
c 1が700m+程度なのに対し1/1o程度と小さ
いことに起因する。
つぎに投影誤差について説明する。第6図に示すように
、レンズ4による原稿15の情報16(正弦波の2周期
が描かれている)は位置ZOK畏さxoの像17が投影
されている。何らかの理由によって投影面がZoよシΔ
Zだけ離れた位置2に投影されたときの像17′の長さ
をXとすれば、倍率の変動は(xX、)/、、で与えら
れ、この値が結果として感材と像の速度差を生じ、画像
のコントラストを劣化させ石。この倍率変、動(Am)
は概略ΔZ / Tc / 2と与えることもできる。
ΔZを一定とすればTcに逆比例して倍率変動が増加す
る。即ち、Tcが小さいほど倍率変動が大きく、像のコ
ントラスト劣化はよシ大きくなる。従って、共役長の差
から集合光学系では通常のレンズに比べ焦点ずれによる
像のコントラストの劣化を受けることになる。
以上述べたように、集合光学系のMTF測定は、通常レ
ンズに比べて大きく異なるのは次の3点である。
(1)露光スリットの幅において、複写機の走査方向の
MTFが大きく変化する。
(2)焦点ずれに起因する速度エラーによる画像劣化が
大きい。
(3)複数の光軸を有する。
このため、 (al 露光スリット幅内の積分されたMTFがまるこ
と、 (b) 速度エラーも含めたMTFが測定できること、 (c) 走査方向と直交する方向に対し連続的に測定で
きること、 等が要求される。これらの要求を達成するために考えら
れた従来の集合光学系評価装置の一例を示したのが第7
図である。
第7図においては、第1図に示したと同一の部分は同一
の引用数字で示したので重複する説明は省略するが、コ
ンデンサーレンズ2の後段に配設される拡散板18と、
拡散板18の後段に配設される物体側スリット19と、
物体側スリット19の後段に配設される集合光学系10
0と、物体側スリット19の格子に一致する細溝を備え
て集合光学系100の後段に配設される検出用スリット
20と、検出用スリット20の後段に配設される拡散板
21とを備えておシ、他の構成は第1図と共通する。
以上の構成において、拡散板18によって物体側スリッ
ト19に光源1の光がほぼ均一に照明された状態下で、
物体側スリット19と集合光学系iooは矢印方向に共
に同一速度で移動する。これによって集合光学系によシ
検出用スリット20に格子の像が投影されるが、この投
影過程で光学的にフーリエ変換され、光信号は拡散板2
1を介して受光器9によシ受光されて電気信号に変換さ
れ、以後第″1図の場合と同様の処理が行なわれる。
このように集合光学系100の長手方向に対し直角方向
に平行な格子に対するMTFを測定することができる。
しかし、従来の集合光学系評価装置にあっては、集合レ
ンズが長手方向に多数配列された構造を有するため、移
動方向Slに直交する方向のMTFを測定できない不都
合がある。例えば、複写機においては、横方向の線が走
査系の振動の影響でコントラストの劣化が生じ易く、横
方向の格子のMTF測定は不可欠となっている。この場
合、第7図に示した縦方向の測定と同様に、レンズ群を
連続的に横方向に測定できることが望まれる。
〔発明の目的及び構成〕
本発明は、上記に鑑みてなされたものであシ、縦、横両
方向のB、(TF及び光強度の測定を行なえるようにす
るため、円板の外縁部に放射状に伸びる格子を配設して
形成した格子部を該円板の回転によって集合光学系の基
準方向に対し直交する方向及び平行な方向に位置させる
ようにした集合光学系評価装置を提供するものである。
〔実施例〕
以下、本発明による集合光学系評価装置を詳細に説明す
る。
第8図及び第9図は本発明の一実施例を示し、第7図と
同一の部分は同一の引用数字で示したので重複する説明
は省略するが、縦方向の測定に関しては、第8図に示す
ように、拡散板18の後段に物体側スリット31(集合
光学系100の長手方向と垂直な方向に細溝を有す)を
設けると共に、外縁部に放射状に伸びる複数の格子を有
し、それぞれの格子が測定位置34にきたとき前記スリ
ット31と平行になる回転中心Mvを有する回転円板3
2を集合光学系100面上に位置するように配置する。
また、横方向の測定に関しては、円板32を格子が測定
位置35にきたとき集合光学系の長手方向に一致するよ
うに配置する。伺、拡散板18の後段に物体側スリット
31(第゛8図)と同じ物体側スリット33が配置され
ている。
円板32はガラス等の透明円板が用いられ、周辺に透明
部分と不透明部分を円中心に対し放射状に配設して格子
が形成される。透過濃度は、測定精度を考慮して決定さ
れるが、通常、透明部で0.02以下、不透明部で2以
上の光学濃度のものが要求される。
以上の構成において、円板32がMyを回転中心とし矢
印方向に回転すると、測定位置34における格子は直線
的に移動(集合光学系100の移動方向と同一)シ、ス
リット31による投影像との重ね合せ、即ち光学的フー
リエ変換が達成される。第9図の実施例では測定位置3
5は34に対し相対的に90度回転した位置となる。こ
の場合の測定位置における格子の回転運動はほぼ直線と
して扱うことができ、その方向はY軸方向でsb第8図
の実施例とは直交する方向になり、第8図の場合と同様
に円板32の格イとスリット330投影像とが測定位置
35で重ね合せられ、光学的にフーリエ変換が行なわれ
る。
このように、周辺に一定の周期の格子が描かれている円
板32を2つの回転中心軸Mv 、 MHで回転させ、
かつ、X軸上にある測定位置34及びX軸上にある測定
位置35でそれぞれ測定することKより、縦方向と横方
向の各MTFの測定を行なうことができる。この円板3
20回転中に集合光学系100を図示81方向に移動さ
せれば、1/ンズ群を連続して測定することができる。
F、4110図は本発明の他の実施例を示すものであシ
、第8図と第9図に示した実施例を一体化り、縦と横方
向のMTFを同時に測定できるようにしたものである。
共通する単一の円36の外周に回転中心IIllIMv
 、 MHを有する2つの円板32a。
32bの格子が測定位置37において直交するように該
円板32a 、32bを配置し、Moに配設したモータ
(図示せず)によってタイミングベルト等を介し各円板
を駆動する。
以上の構成において、測定位置37における格子は互い
に直角に配設されたものが交叉し、スリット31によっ
て投影された像は測定位置37において回転円板32a
の格子と重ね合され、さらに回転円板32bの格子と重
ね合せられ順次光学的にフーリエ変換が行なわれる。
第11図は本発明の応用例を示すものであり、第8図と
同一の部分は同一の引用数字で示したので重複する説明
は省略するが、第8図に示した物体側スリット31を除
去し、幅ΔWu、長さluの細溝を有するスリット40
を集合光学系100と円板32の間に設けるようにした
点が第8図の構成と相違する。
以上の構成において、集合光学系100を出た光はスリ
ブ)40に透過され、そのスリット像は回転板32の格
子と重ね合せられ、光強度の変化を測定することができ
る。
発明者らは、下記に示す条件のもとに本発明の実施例を
実施した。
空間周波数 41p/wM 円板32の直径 300箇賂子の中心の円の半(イ)回
転速度 1/2回転/秒 出力信号周波数 170Hz レンズ移動(Sl)速度 5mm/秒 縦方向スリットの幅 40μm 縦及び横方向スリット長 16端 横方向のスリブ小幅 1論 光強度検出用スリットの幅 0.1 am受 光 器 
光電子増倍管 ランプ電力 250W 以上の条件による測定精度は、 MTFの場合 = 5チ以下 光強度変化 : 1%以下 であシ、良好な測定結果が得られた。
〔発明の効果〕
以上説明した通シ、本発明の集合光学系評価装置によれ
ば、周辺に所定間隔で放射状に伸びる格子を形成した円
板を回転し、前記格子集合光学系の基準方向に対し直交
する方向及び平行な方向に位置させるようにしたため、
前記集合光学系の縦、横両方向のMTF及び光強度の測
定を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光学系評価装置を示す構成図、第2図は
第1図のスリット3に形成される投影像の説明図、第3
図は第1図のスリット5に形成される投影像の説明図、
第4図は通常のレンズによる像面形成説明図、第5図は
集合光学系レンズによる像面形成の説明図、第6図は投
影誤差発生の説明図、第7図は従来の集合光学系評価装
置を示す構成図、第8図及び第9図は本発明の一実施例
を示す斜視図、第10図は本発明の他の実施例を示す斜
視図、第11図は本発明の応用例を示す斜視図。 符号の説明 1・・・光源、2・・・コンデンサレンズ、9・・・受
光器、10・・・演算回路、11・・・表示部、18・
・・拡散板、31.33・・・物体側スリット、32.
32a、32b・−・円板、40−・・スリット、10
0・・・集合光学系。 特許 出願人 富士ゼロックス株式会社代理人 弁理士
 松 原 伸 之 同 弁理士 村 木 消 司 同 弁理士 平 1) 忠 雄 同 弁理士 上 島 淳 − 同 弁理士 鈴 木 均 第4図 第5図 第6図 第1O図 第1I図 1゜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光通過系路中に配設される評価対象の集合光学系と、所
    定間隔で透明部と不透明部とが交互に配設された格子を
    有して前記光学系の後段または前段に設けられる移動ス
    リットと、細い切り抜き溝が設けられて前記光学系の前
    段または後段に設けられる固定スリットとを備えて両ス
    リットによる綜像を重ね合せて光学的フーリエ変換が行
    なわれる集合光学系評価装置において、前記移動スリッ
    トが、円板の外縁部に放射状に伸びる格子によって形成
    され、該格子が該円板の回転中心軸の位置に応じて集合
    光学系の基準方向に対し直交する方向及び平行な方向に
    位置することを特徴とする集合光学系評価装置。
JP12903483A 1983-07-15 1983-07-15 集合光学系評価装置 Pending JPS6021432A (ja)

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JP12903483A JPS6021432A (ja) 1983-07-15 1983-07-15 集合光学系評価装置

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JPS6021432A true JPS6021432A (ja) 1985-02-02

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JP12903483A Pending JPS6021432A (ja) 1983-07-15 1983-07-15 集合光学系評価装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008107331A (ja) * 2006-09-26 2008-05-08 Mitsubishi Rayon Co Ltd キャピラリー・アレイ・シート検査装置及び検査方法
JP2011235929A (ja) * 2010-05-10 2011-11-24 Yoshihisa Furuta 物品収納ケース

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56635A (en) * 1979-06-18 1981-01-07 Ricoh Co Ltd Mtf inspecting unit for noninverted equal-size image focusing element array

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