JPS60224127A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60224127A JPS60224127A JP7982084A JP7982084A JPS60224127A JP S60224127 A JPS60224127 A JP S60224127A JP 7982084 A JP7982084 A JP 7982084A JP 7982084 A JP7982084 A JP 7982084A JP S60224127 A JPS60224127 A JP S60224127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- material layer
- disk
- magnetic disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/74—Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
- B65G47/82—Rotary or reciprocating members for direct action on articles or materials, e.g. pushers, rakes, shovels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は表面保咥性の高い磁気ディスクの製造方法に
関するものである。
関するものである。
「従来の技術」
周知のように、磁気ディスク記憶装置は、１〜１０枚程
度の磁気ディスクを同一軸上に適当な間隔を置いて配列
して、これを記憶媒体とし、例えば、これら磁気ディス
クの各面に対し、通常１個のヘッドを設け、これらを１
つの可動機構に固定して同時に動くようにし、読出し、
書込みにおいてこれらのヘッドをディスクの半径方向に
移動する構造の装置であ墨。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘッドとディスク表面との間隔
をできるだけ接近させ、かつ一定忙保つことが必要であ
り、現在はディスクの高速回転によシディスク表面に生
ずる空気流によシヘッドを浮かせて間隔を保つ浮動ヘッ
ド方式が採用されている。従って、ディスクの停止時に
はヘッドはディスク表面上に当接しており、ディスクの
始動、停止の前後においてはディスク表面にヘッドが摺
接することになる。
度の磁気ディスクを同一軸上に適当な間隔を置いて配列
して、これを記憶媒体とし、例えば、これら磁気ディス
クの各面に対し、通常１個のヘッドを設け、これらを１
つの可動機構に固定して同時に動くようにし、読出し、
書込みにおいてこれらのヘッドをディスクの半径方向に
移動する構造の装置であ墨。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘッドとディスク表面との間隔
をできるだけ接近させ、かつ一定忙保つことが必要であ
り、現在はディスクの高速回転によシディスク表面に生
ずる空気流によシヘッドを浮かせて間隔を保つ浮動ヘッ
ド方式が採用されている。従って、ディスクの停止時に
はヘッドはディスク表面上に当接しており、ディスクの
始動、停止の前後においてはディスク表面にヘッドが摺
接することになる。
一方、薄膜磁気ディスクにおいては、その代表的なもの
として、無電解めっきにより製造されるものが知られて
いる。この磁気ディスクには、磁性めっき層が潤滑剤を
介して表面に露出している構造のものと、磁性めっき層
の上に保護膜としてニッケル合金層、コバルトの、酸化
物層、有機化合物層が形成され、その上に潤滑剤を塗布
した構造のものがある。
として、無電解めっきにより製造されるものが知られて
いる。この磁気ディスクには、磁性めっき層が潤滑剤を
介して表面に露出している構造のものと、磁性めっき層
の上に保護膜としてニッケル合金層、コバルトの、酸化
物層、有機化合物層が形成され、その上に潤滑剤を塗布
した構造のものがある。
「発明が解決しようとする問題点」
上記のような構造の従来の磁気ディスクにおいては、上
記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問題点
がン発生しておシ、その解決が望まれている。
記したヘッドとの構造上の関係から下記のような問題点
がン発生しておシ、その解決が望まれている。
すなわち、上記した２つの構造の磁気ディスクのどちら
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護膜が表面にある場
合でも、これら磁性めっき層および保護膜の硬度、耐摩
耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時にヘッ
ドがディスク表面に摺接するその経時変化によりディス
ク表面の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉によるヘッ
ドクラッシュ等が発生してしまうという問題点である。
においても、つまり、磁性めっき層が表面にある場合で
も、その上にニッケル合金層等の保護膜が表面にある場
合でも、これら磁性めっき層および保護膜の硬度、耐摩
耗性が比較的低いので、ディスクの始動、停止時にヘッ
ドがディスク表面に摺接するその経時変化によりディス
ク表面の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉によるヘッ
ドクラッシュ等が発生してしまうという問題点である。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ヘッド
の摺接によってその表面が庫粍されることが少なく、摩
耗役の発生もはとんど見られない磁気ディスクの製造方
法を提供することを目的とするものである。
の摺接によってその表面が庫粍されることが少なく、摩
耗役の発生もはとんど見られない磁気ディスクの製造方
法を提供することを目的とするものである。
ｒ問題点を解決するための手段」
この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、最外層を形
成している磁性材層またはこの磁性材層上にさらに形成
されている非磁性材層の上に四塩化チタンを被覆し、こ
の四塩化チタンを加水分解圧よシ四水酸化チタンとし、
さらＫこの水酸化チタンを加熱酸化して最外層に強靭、
軽量、高耐摩耗性の二酸化チタン層を形成し、これによ
って表面保護性の高い磁気ディスクを得られるようにし
たものである。
成している磁性材層またはこの磁性材層上にさらに形成
されている非磁性材層の上に四塩化チタンを被覆し、こ
の四塩化チタンを加水分解圧よシ四水酸化チタンとし、
さらＫこの水酸化チタンを加熱酸化して最外層に強靭、
軽量、高耐摩耗性の二酸化チタン層を形成し、これによ
って表面保護性の高い磁気ディスクを得られるようにし
たものである。
「作 用」
上記のように、この発明の方法によれば、磁気ディスク
の最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二・酸化チタン層
を容易に形成するととができるので、長期に亘って特性
上問題となる摩耗を受けることがなく、シたがって摩耗
粉の発生もほとんどなく、ヘッドクラッシュを起こすこ
とのない表面保護性の高い磁気ディスクを容易に製造す
ることができるＯ 次に、この発明を実施例によシさらに詳しく説明する。
の最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二・酸化チタン層
を容易に形成するととができるので、長期に亘って特性
上問題となる摩耗を受けることがなく、シたがって摩耗
粉の発生もほとんどなく、ヘッドクラッシュを起こすこ
とのない表面保護性の高い磁気ディスクを容易に製造す
ることができるＯ 次に、この発明を実施例によシさらに詳しく説明する。
「実施例」
図に示すように、非磁性基板として充分小さなうねり（
円囲方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０μｍ以下）
をもつ面に仕上げた円板状のアルミニウム合金板１上に
無電解めっきによシ２０μｍ厚のニッケル・リン合金層
２を形成した。このニッケル・リン合金層２０表面２＆
を表面粗さＲｍａｘｃＬ１μｍに研磨仕上げし、この上
に無電解めっきによｆｉ（Ｌ０５μｍ厚のコバルト・リ
ン合金層３を形成した。そして、とのコＩリレト・リン
合金層３上に四塩化チタンをスピンコードン、この四塩
化チタンｔ−８０℃、ＲＨ８０％の雰囲気で加水分解し
て四本酸化チタンとした。つづいて、この四本酸化チタ
ンを２００°Ｃ恒温槽中で約２時間に亘って加熱し、酸
化して、最外層に二酸化チタン層４管形成した。最後忙
この二酸化チタン層４上に潤滑剤としてパーフロロポリ
エーテル５を約α０１μｍ厚忙塗布した。
円囲方向で５０μｍ以下かつ半径方向で１０μｍ以下）
をもつ面に仕上げた円板状のアルミニウム合金板１上に
無電解めっきによシ２０μｍ厚のニッケル・リン合金層
２を形成した。このニッケル・リン合金層２０表面２＆
を表面粗さＲｍａｘｃＬ１μｍに研磨仕上げし、この上
に無電解めっきによｆｉ（Ｌ０５μｍ厚のコバルト・リ
ン合金層３を形成した。そして、とのコＩリレト・リン
合金層３上に四塩化チタンをスピンコードン、この四塩
化チタンｔ−８０℃、ＲＨ８０％の雰囲気で加水分解し
て四本酸化チタンとした。つづいて、この四本酸化チタ
ンを２００°Ｃ恒温槽中で約２時間に亘って加熱し、酸
化して、最外層に二酸化チタン層４管形成した。最後忙
この二酸化チタン層４上に潤滑剤としてパーフロロポリ
エーテル５を約α０１μｍ厚忙塗布した。
上記のようにして製造した磁気ディスクを４万回のＣ８
Ｓテスト（コンタクト・スタート・ストップテスト）に
供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、摩耗粉
の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなかった。
Ｓテスト（コンタクト・スタート・ストップテスト）に
供した結果、電磁変換特性に変化は認められず、摩耗粉
の発生も、ヘッドクラッシュの発生も見られなかった。
これによシこの発明の方法によシ製造した磁気ディスク
は、すぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性をもつ
ことが確められた。
は、すぐれた耐久性を有し、高信頼性、高品質性をもつ
ことが確められた。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明に係る磁気ディスクの製
造方法は、最外層を形成している磁性材層またはこの磁
性材層１忙さらに形成されている非磁性材層の上に四塩
化チタンを被覆し、この四塩化チタンを加水分解により
四本酸化チタンとし、さらにこの四本酸化チタンを加熱
酸化して最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二酸化チタ
ン層を形成するものなので、経時的なヘッドの摺接によ
つて表面が摩耗されることが少なく、摩耗粉の発生もほ
とんど見られず、すぐれた耐久性を発揮し、高信頼性、
高品質な磁気ディスクを容易に製造することができる。
造方法は、最外層を形成している磁性材層またはこの磁
性材層１忙さらに形成されている非磁性材層の上に四塩
化チタンを被覆し、この四塩化チタンを加水分解により
四本酸化チタンとし、さらにこの四本酸化チタンを加熱
酸化して最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二酸化チタ
ン層を形成するものなので、経時的なヘッドの摺接によ
つて表面が摩耗されることが少なく、摩耗粉の発生もほ
とんど見られず、すぐれた耐久性を発揮し、高信頼性、
高品質な磁気ディスクを容易に製造することができる。
図はこの発明の方法によって製造した磁気ディスクの一
例を示す断面構成図である。 １・・・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・
・・・・ニッケル・リン合金層（磁性材層）、３・・・
・・コバルト・リン合金層（磁性材層）、４・・・・・
二酸化チタン層。 出願人 トキコ株式会社 代理人弁理士 志賀正武
例を示す断面構成図である。 １・・・・・アルミニウム合金板（非磁性基板）、２・
・・・・ニッケル・リン合金層（磁性材層）、３・・・
・・コバルト・リン合金層（磁性材層）、４・・・・・
二酸化チタン層。 出願人 トキコ株式会社 代理人弁理士 志賀正武
Claims (1)
- 薄肉円板状の非磁性基板上に磁性材層が形成されている
磁気ディスクまたは前記磁性材層上にさらに非磁性材層
が形成されている磁気ディスクの最外層である前記磁性
材層または非磁性材層上に四塩化チタンを被覆し、この
四塩化チタンを加水分解により四本酸化チタンにし、さ
らにこの四本酸化チタンを加熱酸化して磁気ディスクの
最外層に保護膜となる二酸化チタン層を形成することを
特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7982084A JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7982084A JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60224127A true JPS60224127A (ja) | 1985-11-08 |
| JPH0450648B2 JPH0450648B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13700835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7982084A Granted JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60224127A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58221459A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Hitachi Ltd | 外部記憶装置制御回路 |
-
1984
- 1984-04-20 JP JP7982084A patent/JPS60224127A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58221459A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Hitachi Ltd | 外部記憶装置制御回路 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0450648B2 (ja) | 1992-08-14 |
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