JPH0450648B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0450648B2 JPH0450648B2 JP59079820A JP7982084A JPH0450648B2 JP H0450648 B2 JPH0450648 B2 JP H0450648B2 JP 59079820 A JP59079820 A JP 59079820A JP 7982084 A JP7982084 A JP 7982084A JP H0450648 B2 JPH0450648 B2 JP H0450648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- titanium
- magnetic disk
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/74—Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
- B65G47/82—Rotary or reciprocating members for direct action on articles or materials, e.g. pushers, rakes, shovels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は表面保護性の高い磁気デイスクの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
「従来の技術」
周知のように、磁気デイスク記憶装置は、１〜
10枚程度の磁気デイスクを同一軸上に適当な間隔
を置いて配列して、これを記憶媒体とし、例え
ば、これら磁気デイスクの各面に対し、通常１個
のヘツドを設け、これらを１つの可動機構に固定
して同時に動くようにし、読出し、書込みにおい
てこれらのヘツドをデイスクの半径方向に移動す
る構造の装置である。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘツドとデイスク表面と
の間隔をできるだけ接近させ、かつ一定に保つこ
とが必要であり、現在はデイスクの高速回転によ
りデイスク表面に生ずる空気流によりヘツドを浮
かせて間隔を保つ浮動ヘツド方式が採用されてい
る。従つて、デイスクの停止時にはヘツドはデイ
スク表面上に当接しており、デイスクの始動、停
止の前後においてはデイスク表面にヘツドが摺接
することになる。
10枚程度の磁気デイスクを同一軸上に適当な間隔
を置いて配列して、これを記憶媒体とし、例え
ば、これら磁気デイスクの各面に対し、通常１個
のヘツドを設け、これらを１つの可動機構に固定
して同時に動くようにし、読出し、書込みにおい
てこれらのヘツドをデイスクの半径方向に移動す
る構造の装置である。この装置においては、記録
密度を上げるためには、ヘツドとデイスク表面と
の間隔をできるだけ接近させ、かつ一定に保つこ
とが必要であり、現在はデイスクの高速回転によ
りデイスク表面に生ずる空気流によりヘツドを浮
かせて間隔を保つ浮動ヘツド方式が採用されてい
る。従つて、デイスクの停止時にはヘツドはデイ
スク表面上に当接しており、デイスクの始動、停
止の前後においてはデイスク表面にヘツドが摺接
することになる。
一方、薄膜磁気デイスクにおいては、その代表
的なものとして、無電解めつきにより製造される
ものが知られている。この磁気デイスクには、磁
性めつき層が潤滑剤を介して表面に露出している
構造のものと、磁性めつき層の上に保護膜として
ニツケル合金層、コバルトの酸化物層、有機化合
物層が形成され、その上に潤滑剤を塗布した構造
のものがある。
的なものとして、無電解めつきにより製造される
ものが知られている。この磁気デイスクには、磁
性めつき層が潤滑剤を介して表面に露出している
構造のものと、磁性めつき層の上に保護膜として
ニツケル合金層、コバルトの酸化物層、有機化合
物層が形成され、その上に潤滑剤を塗布した構造
のものがある。
「発明が解決しようとする問題点」
上記のような構造の従来の磁気デイスクにおい
ては、上記したヘツドとの構造上の関係から下記
のような問題点が発生しており、その解決が望ま
れている。
ては、上記したヘツドとの構造上の関係から下記
のような問題点が発生しており、その解決が望ま
れている。
すなわち、上記した２つの構造の磁気デイスク
のどちらにおいても、つまり、磁性めつき層が表
面にある場合でも、その上にニツケル合金層等の
保護膜が表面にある場合でも、これら磁性めつき
層および保護膜の硬度、耐摩耗性が比較的低いの
で、デイスクの始動、停止時にヘツドがデイスク
表面に摺接するその経時変化によりデイスク表面
の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉によるヘツ
ドクラツシユ等が発生してしまうという問題点で
ある。
のどちらにおいても、つまり、磁性めつき層が表
面にある場合でも、その上にニツケル合金層等の
保護膜が表面にある場合でも、これら磁性めつき
層および保護膜の硬度、耐摩耗性が比較的低いの
で、デイスクの始動、停止時にヘツドがデイスク
表面に摺接するその経時変化によりデイスク表面
の摩耗がすすみ、出力の低下、摩耗粉によるヘツ
ドクラツシユ等が発生してしまうという問題点で
ある。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、ヘツドの摺接によつてその表面が摩耗される
ことが少なく、摩耗粉の発生もほとんど見られな
い磁気デイスクの製造方法を提供することを目的
とするものである。
で、ヘツドの摺接によつてその表面が摩耗される
ことが少なく、摩耗粉の発生もほとんど見られな
い磁気デイスクの製造方法を提供することを目的
とするものである。
「問題点を解決するための手段」
この発明に係る磁気デイスクの製造方法は、最
外層を形成している磁性材層またはこの磁性材層
上にさらに形成されている非磁性材層の上に四塩
化チタンを被覆し、この四塩化チタンを加水分解
により四水酸化チタンとし、さらにこの水酸化チ
タンを加熱酸化して最外層に強靭、軽量、高耐摩
耗性の二酸化チタン層を形成し、これによつて表
面保護性の高い磁気デイスクを得られるようにし
たものである。
外層を形成している磁性材層またはこの磁性材層
上にさらに形成されている非磁性材層の上に四塩
化チタンを被覆し、この四塩化チタンを加水分解
により四水酸化チタンとし、さらにこの水酸化チ
タンを加熱酸化して最外層に強靭、軽量、高耐摩
耗性の二酸化チタン層を形成し、これによつて表
面保護性の高い磁気デイスクを得られるようにし
たものである。
「作用」
上記のように、この発明の方法によれば、磁気
デイスクの最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二
酸化チタン層を容易に形成することができるの
で、長期に亘つて特性上問題となる摩耗を受ける
ことがなく、したがつて摩耗粉の発生もほとんど
なく、ヘツドクラツシユを起こすことのない表面
保護性の高い磁気デイスクを容易に製造すること
ができる。
デイスクの最外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二
酸化チタン層を容易に形成することができるの
で、長期に亘つて特性上問題となる摩耗を受ける
ことがなく、したがつて摩耗粉の発生もほとんど
なく、ヘツドクラツシユを起こすことのない表面
保護性の高い磁気デイスクを容易に製造すること
ができる。
次に、この発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。
明する。
「実施例」
図に示すように、非磁性基板として充分小さな
うねり（円周方向で50μｍ以下かつ半径方向で
10μｍ以下）をもつ面に仕上げた円板状のアルミ
ニウム合金板１上に無電解めつきにより20μｍ厚
のニツケル・リン合金層２を形成した。このニツ
ケル・リン合金層２の表面２ａを表面粗さ
Rmax0.1μｍに研磨仕上げし、この上に無電解め
つきにより0.05μｍ厚のコバルト・リン合金層３
を形成した。そして、このコバルト・リン合金層
３上に四塩化チタンをスピンコートし、この四塩
化チタンを80℃、RH80％の雰囲気で加水分解し
て四水酸化チタンとした。つづいて、この四水酸
化チタンを200℃恒温槽中で約２時間に亘つて加
熱し、酸化して、最外層に四酸化チタン層４を形
成した。最後にこの二酸化チタン層４上に潤滑剤
としてパーフロロポリエーテル５を約0.01μｍ厚
に塗布した。
うねり（円周方向で50μｍ以下かつ半径方向で
10μｍ以下）をもつ面に仕上げた円板状のアルミ
ニウム合金板１上に無電解めつきにより20μｍ厚
のニツケル・リン合金層２を形成した。このニツ
ケル・リン合金層２の表面２ａを表面粗さ
Rmax0.1μｍに研磨仕上げし、この上に無電解め
つきにより0.05μｍ厚のコバルト・リン合金層３
を形成した。そして、このコバルト・リン合金層
３上に四塩化チタンをスピンコートし、この四塩
化チタンを80℃、RH80％の雰囲気で加水分解し
て四水酸化チタンとした。つづいて、この四水酸
化チタンを200℃恒温槽中で約２時間に亘つて加
熱し、酸化して、最外層に四酸化チタン層４を形
成した。最後にこの二酸化チタン層４上に潤滑剤
としてパーフロロポリエーテル５を約0.01μｍ厚
に塗布した。
上記のようにして製造した磁気デイスクを４万
回のCSSテスト（コンタクト・スタート・ストツ
プテスト）の供した結果、電磁変換特性に変化は
認められず、摩耗粉の発生も、ヘツドクラツシユ
の発生も見られなかつた。これによりこの発明の
方法により製造した磁気デイスクは、すぐれた耐
久性を有し、高信頼性、高品質性をもつことが確
められた。
回のCSSテスト（コンタクト・スタート・ストツ
プテスト）の供した結果、電磁変換特性に変化は
認められず、摩耗粉の発生も、ヘツドクラツシユ
の発生も見られなかつた。これによりこの発明の
方法により製造した磁気デイスクは、すぐれた耐
久性を有し、高信頼性、高品質性をもつことが確
められた。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明に係る磁気デイ
スクの製造方法は、最外層を形成している磁性材
層またはこの磁性材層上にさらに形成されている
非磁性材層の上に四塩化チタンを被覆し、この四
塩化チタンを加水分解により四水酸化チタンと
し、さらにこの四水酸化チタンを加熱酸化して最
外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二酸化チタン層
を形成するものなので、経時的なヘツドの摺接に
よつて表面が摩耗されることが少なく、摩耗粉の
発生もほとんど見られず、すぐれた耐久性を発揮
し、高信頼性、高品質な磁気デイスクを容易に製
造することができる。
スクの製造方法は、最外層を形成している磁性材
層またはこの磁性材層上にさらに形成されている
非磁性材層の上に四塩化チタンを被覆し、この四
塩化チタンを加水分解により四水酸化チタンと
し、さらにこの四水酸化チタンを加熱酸化して最
外層に強靭、軽量、高耐摩耗性の二酸化チタン層
を形成するものなので、経時的なヘツドの摺接に
よつて表面が摩耗されることが少なく、摩耗粉の
発生もほとんど見られず、すぐれた耐久性を発揮
し、高信頼性、高品質な磁気デイスクを容易に製
造することができる。
図はこの発明の方法によつて製造した磁気デイ
スクの一例を示す断面構成図である。 １……アルミニウム合金板（非磁性基板）、２
……ニツケル・リン合金層（磁性材層）、３……
コバルト・リン合金層（磁性材層）、４……二酸
化チタン層。
スクの一例を示す断面構成図である。 １……アルミニウム合金板（非磁性基板）、２
……ニツケル・リン合金層（磁性材層）、３……
コバルト・リン合金層（磁性材層）、４……二酸
化チタン層。
Claims (1)
- １ 薄肉円板状の非磁性基板上に磁性材層が形成
されている磁気デイスクまたは前記磁性材層上に
さらに非磁性材層が形成されている磁気デイスク
の最外層である前記磁性材層または非磁性材層上
に四塩化チタンを被覆し、この四塩化チタンを加
水分解により四水酸化チタンにし、さらにこの四
水酸化チタンを加熱酸化して磁気デイスクの最外
層に保護膜となる二酸化チタン層を形成すること
を特徴とする磁気デイスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7982084A JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7982084A JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60224127A JPS60224127A (ja) | 1985-11-08 |
| JPH0450648B2 true JPH0450648B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13700835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7982084A Granted JPS60224127A (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60224127A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58221459A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Hitachi Ltd | 外部記憶装置制御回路 |
-
1984
- 1984-04-20 JP JP7982084A patent/JPS60224127A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60224127A (ja) | 1985-11-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0676279A (ja) | 磁気記録ディスク及びその製造方法 | |
| US4029541A (en) | Magnetic recording disc of improved durability having tin-nickel undercoating | |
| EP0281598A1 (en) | Magnetic data storage media | |
| US6572958B1 (en) | Magnetic recording media comprising a silicon carbide corrosion barrier layer and a c-overcoat | |
| JPS59142738A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0320812B2 (ja) | ||
| JP3012668B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッド | |
| US6322880B1 (en) | Magneto-resistance recording media comprising a foundation layer and a C-overcoat | |
| JPS615437A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPH0568771B2 (ja) | ||
| JPH08161736A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0315254B2 (ja) | ||
| JPS615436A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPS60224127A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPH0357538B2 (ja) | ||
| JPS60224122A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH0215922B2 (ja) | ||
| JPH0467252B2 (ja) | ||
| JPS6173227A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0291813A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0514325B2 (ja) | ||
| JPH0775069B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH02108234A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH0322218A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPH04285727A (ja) | 磁気ディスク装置 |