JPS60225637A - 気液接触装置 - Google Patents

気液接触装置

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Publication number
JPS60225637A
JPS60225637A JP59081221A JP8122184A JPS60225637A JP S60225637 A JPS60225637 A JP S60225637A JP 59081221 A JP59081221 A JP 59081221A JP 8122184 A JP8122184 A JP 8122184A JP S60225637 A JPS60225637 A JP S60225637A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
liquid contact
liquid
tubes
long
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59081221A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Hagiwara
尚 萩原
Kiyokata Chimasa
千正 清方
Hayato Otsuka
大塚 隼人
Yoshiji Iwasaki
岩崎 喜司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP59081221A priority Critical patent/JPS60225637A/ja
Publication of JPS60225637A publication Critical patent/JPS60225637A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/32Packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit or module inside the apparatus for mass or heat transfer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/32Details relating to packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit of module inside the apparatus for mass or heat transfer
    • B01J2219/322Basic shape of the elements
    • B01J2219/32279Tubes or cylinders

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガス吸収塔あるいは気液接触反応塔などの如
き気液の接触装置に関し、特に充填塔方式を用いた気液
接触装置に関する。
一般に、充填塔方式の気液接触装置としては、吸収塔内
の上方より吸収液を散水又はスプレーし、その下方より
ガスを通して充填物を詰めた気液接触部において気液を
接触させ、気体中の有効成分を物質移動により吸収液中
に捕捉する装置が知られている。
かかる装置においては、充填物が気液の接触効率に多大
の影響を与えることはよく知られており、従来種々の面
からその検討がなされている。
一般に充填物として適切な条件は、(a)単位充填容積
についての表面積がなるべく大きいこと、(b)ガスが
充填層を通るときの圧力損失がなるべく少ないこと、こ
のためには空隙率が大きいことが必要であり、(、C)
処理するガスや液に対して耐蝕性、耐摩耗性があること
、(d)安価なこと、などである。
しかし、上記の(a)と(b)は両立しないので、その
選定は容易ではない。
例えば従来気液接触部の充填物として25mm、35m
m、50fflII+のラシヒリング、25mm、35
m腸、50m鵬ヘッジホッグあるいはポール等の種々の
形状の充填物が市販されており、これを気液接触部に不
規則に充填して用いている。しかしこれらの充填物を使
用する場合、 1〜2+*/Secを越えるような高ガ
ス流速においては、圧力損失が大きくなり、ついには溢
汗現象を起こして長期連続運転ができなくなったり、ま
た、充填物が摩耗の為に破壊される欠点があった。
また装置が大型化した場合、上記のラシヒリング等の充
填物を大型化して軸方向が向流方向になるように規則的
に配列することもなされているが、規則的に充填すると
充填量が限られるため表面積を大きくするこができず、
吸収効率を低下させるという問題があり、また表面積を
大きくしようとすると多段に積み重ねる必要が生じるが
、個々のラシヒリング等を多段に積み重ねる作業は非常
に煩雑であり、実装置向きでなかった。
さらに充填物として金網やマクマホン(金網をくら型に
したもの)を用いる手段も知られている。表面積を大き
くするという点では好ましいが、高ガス流速においては
圧力損失が大きくなり、温性現象を起こすという点で上
記のラシヒリング等と同様の欠点があった。
本発明は上記従来技術の欠点を解決するためになされた
もので、その目的は高ガス流速で気液接触させた場合に
も圧力損失を小さくでき温性現象を発生させることなく
気液接触を行わせしめることができて連続運転が可能で
ある気液接触装置を提供するにある。
本発明の他の目的は、気液接触塔の内径を小さくするこ
とができる気液接触装置を提供するにある。
更に本発明の他の目的は充填物の多段化が容易で、処理
ガス量が大量であっても、容易に対応できる気液接触装
置を提供するにある。
本発明者は上記諸口的を達成すべく鋭意検討を重ねた結
果、下方部にガス導入口を有し、上方部にガス出口を有
する塔体内であって、散水される吸収液と上記ガス導入
口から導入されるガスとを気液接触部で向流させながら
接触させる気液接触装置において、前記気液接触部に長
尺網状管を充填させると共に鎖管の軸方向を気液の向流
方向(以下、縦方向と称する。)に向けて配列すること
°°1す・−I゛記諸目的を達成す60とを見出し・ 
1本発明に到達したものである。
以下、本発明の代表的実施例を添付図面に従って詳細に
説明する。しかし本発明は以下の実施態様に限定される
ものではない。
第1図は本発明に係る気液接触塔の概略説明図、第2図
は本発明に係る長尺網状管の斜視図、第3図は本発明の
一実施例を示す気液接触部の概略断面図、$4図は同平
面図である。
第1図に示す如く、処理すべきガスはまず竪型の気液接
触塔l内へその下部側壁面に形成されたガス導入口2よ
り噴出する。この噴出したガスは気液接触部3の下方に
て整流され、均一流となって気液接触部3へ入る。気液
接触部3にはその上方の吸収液のスプレーノズル4から
吸収液がスプレーされ、前記気液接触部3において前記
ガスとのスプレーされた液体とが接触する。このため、
ガス中の有効成分が物質移動により液体に吸収される。
その後、ガスは気液接触塔1の上方部のガス出口5より
排気され、液体は気液接触塔lの下部に設けられた液溜
め室6内に落下し、液出ロアより排出される。尚、スプ
レーノズル4への吸収液の供給は液供給管8により行わ
れる。
本発明の気液接触装置において、」1記気液接触部3に
、例えば第2図に示す如く、長尺網状v9が縦方向に配
列される。該長尺網状管9は例えば長さが0.5〜3I
11、好ましくは1〜1.5mを有し、且つ径が20〜
Elf)ellのサイズを有する網状管であり、その代
表的−例を示せば表−1の如きものである。
長尺網状管9は第3図及び第4図に示す如く気液接触部
3において充填物サポート10上に充填される。
長尺網状管9の気液接触部3への充填方法としては、1
木ずつを別々に配列してもよいが、20〜30本の長尺
網状管9を束状にした、例えば外径150〜350!!
1I11の様な第4図に示す如き集束体11として充填
し、各々の集束体11の間隙12に長尺網状管9を更に
細密充填することが好ましく、この様な方法によれば均
一な細密充填がより可能となり、更に充填も容易となる
又、気液接触部3への長尺網状管9の充填手段は上記充
填方法に従い、1段に充填してもよいが、 0.5〜1
mに切断した長尺網状管9を複数の充填物サポート10
を用いて多段に充填することにより多段化が容易である
ため、必要表面積を容易に得ることができるので処理量
が大量になっても容易に対応できる。また長尺網状管9
の自重による変型等を防止し、均一な規則充填を達成す
ることもできる。
上記気液接触部3に充填される長尺網状管9としては、
例えば東京ポリマー■製の商品名TPリング等を0.5
〜3I11の長さに切断して使用することができる。前
記の表−1においてはポリプロピレンを材質とするもの
を例示したが本発明においてはこれに限定されるもので
はなく、例えば他の熱可塑性樹脂または不銹銅などの金
属材質とすることもできる。
本発明の気液接触装置は、CO2、H2S、 NO3、
H(4等の各種ガス吸収塔に適用可能である。
以上の如く本発明は構成されており、気液接触装置にお
いて気液接触部3に長尺網状管9を充填し、これに上記
スプレーノズル4から吸収液を落下させると同時に下方
からガスを導入し、各々の長尺網状管9をいわゆる濡れ
壁とすることにより、ガスは長尺網状管9の空洞部を空
塔速度2〜6IIl/sec、好ましくは3〜5II/
secで向流上昇することができ、その濡れ壁に接触し
、高効率の気液接触が得られる。
又、濡れ壁による接触以外に壁自体が網状をなしている
ので、壁と直角方向等にガス流が生じるために上記濡れ
壁による接触による効果に加えて網状物による効果的な
気液接触がなされるため。
単に単管を用いた濡れ壁にない気液接触効率を得ること
ができると共に、上記のような高カス流速で気液接触部
させた場合にも圧力損失を小さくでき、温性現象を発生
させることなく気液接触させることができる。
更に、高ガス流速による運転が可能となったことから、
気液接触塔の内径を小さくすることができ、設備費等の
低減に寄与する。この効果は前記の多段化により、大処
理量に対応する場合に特に顕著で、そのコストダウン効
果は非常に大きいものとなる。
[実施例] 以下に本発明を使用した場合の実施例としての運転例を
示す。
運転条件は、温度40〜70℃、圧力は0〜0.3Kg
/cml(ゲージ圧)であり、ガス空塔平均流速は3.
5〜3.l]m/sec、液空塔平均流速は0.01〜
0.02m/secである。使用したガスは、燃焼排ガ
スであり、吸収液としてはモノエタノールアミン(ME
A)水溶液である。表−2にその際の運転条件を示す。
表−2 また比較例として、25+emのラシヒリングを不規則
充填した際の運転例を表−3に示す。
運転条件は温度40〜70℃、圧力は0〜0.5Kg/
cm、(ゲージ圧)であり、ガス空塔平均流速は0.8
〜1m/sec、液空塔平均流速は0.01〜0.02
m/secである。使用したガス及び吸収液は実施例と
同じ組成である。
表−3 1
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る気液接触塔の概略説明図、第2図
は本発明に係る長尺網状管の斜視図、第3図は本発明の
一実施例を示す気液接触部の概略断面図、第4図は同平
面図である。 図中において、lは気液接触塔、2はガス導入口、3は
気液接触部、4はスプレーノズル、5はガス出口、6は
液溜め室、7は液出口、8は液供給管、9は長尺網状管
、10は充填物サポート、11は集束体、12は間隙を
特徴する 特許出願人 三井東圧化学株式会社 代 理 人 弁理士 坂 口 信 昭 (ほか1名) 2 特開昭GO−225637(5)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 下方部にガス導入口を有し、上方部にガス出口を有する
    塔体内であって、散水される吸収液と上記ガス導入口か
    ら導入されるガスとを気液接触部で向流させながら接触
    させる気液接触装置において、前記気液接触部に長尺網
    状管を充填させると共に鎖管の軸方向を気液の向流方向
    に向けて配列させることを特徴とする気液接触装置。
JP59081221A 1984-04-24 1984-04-24 気液接触装置 Pending JPS60225637A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59081221A JPS60225637A (ja) 1984-04-24 1984-04-24 気液接触装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59081221A JPS60225637A (ja) 1984-04-24 1984-04-24 気液接触装置

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Publication Number Publication Date
JPS60225637A true JPS60225637A (ja) 1985-11-09

Family

ID=13740422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59081221A Pending JPS60225637A (ja) 1984-04-24 1984-04-24 気液接触装置

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JP (1) JPS60225637A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0445846A (ja) * 1990-06-08 1992-02-14 Tokyo Tokushu Kanaami Kk 気液接触用充填物
JP2001120982A (ja) * 1999-10-25 2001-05-08 Nittetu Chemical Engineering Ltd 塔方式の気液接触装置
KR100733545B1 (ko) 2005-12-22 2007-06-29 재단법인 포항산업과학연구원 고로슬래그 중의 황화수소 제거 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0445846A (ja) * 1990-06-08 1992-02-14 Tokyo Tokushu Kanaami Kk 気液接触用充填物
JP2001120982A (ja) * 1999-10-25 2001-05-08 Nittetu Chemical Engineering Ltd 塔方式の気液接触装置
KR100733545B1 (ko) 2005-12-22 2007-06-29 재단법인 포항산업과학연구원 고로슬래그 중의 황화수소 제거 방법

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