JPS60226023A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS60226023A JPS60226023A JP8228684A JP8228684A JPS60226023A JP S60226023 A JPS60226023 A JP S60226023A JP 8228684 A JP8228684 A JP 8228684A JP 8228684 A JP8228684 A JP 8228684A JP S60226023 A JPS60226023 A JP S60226023A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- crystal grains
- magnetic field
- poles
- substrate
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は磁気ディスク、磁気ドラム等の磁気記録体に用
いられるメッキ法にて作製される高密度磁気記録媒体の
製造方法に関する。
いられるメッキ法にて作製される高密度磁気記録媒体の
製造方法に関する。
近年メッキ法にて作製さｎた記録媒体が、高密度磁気記
録体として用いられるようになってきた。
録体として用いられるようになってきた。
メッキ法にて作製さｎた記録媒体が高密度磁気記録体と
して期待されている主な理由は、従来の塗付型の媒体と
比較して、第一に膜厚（δ）を薄くすることが容易、第
２に、残留磁束密度（Ｂｒ）が大きい、第３に、適切な
保磁力＜ｓｃ）を得やすいなどである。
して期待されている主な理由は、従来の塗付型の媒体と
比較して、第一に膜厚（δ）を薄くすることが容易、第
２に、残留磁束密度（Ｂｒ）が大きい、第３に、適切な
保磁力＜ｓｃ）を得やすいなどである。
磁気記録媒体において得られる記録密度と再生出力は、
同一ヘッドを用いる場合には、δ、Ｅｃ。
同一ヘッドを用いる場合には、δ、Ｅｃ。
Ｂｒとで決ｔ９、次の関係が知られている。
（記録密度）α（Ｂ ｃ ／ Ｂ ｒ・δ）凭（再生出
力）α（Ｂｒ・δ・Ｅｃ）捧 塗付型の媒体は磁性粉をバインダーと共に基板に塗付す
る工程となるためにその膜厚ｔ−１μ屏以下にコントロ
ールすることは非常に難しい。こｎに対してメッキ型の
場合は［Ｌ１μｍ程度の膜厚を得ることは比較的容易で
ある。
力）α（Ｂｒ・δ・Ｅｃ）捧 塗付型の媒体は磁性粉をバインダーと共に基板に塗付す
る工程となるためにその膜厚ｔ−１μ屏以下にコントロ
ールすることは非常に難しい。こｎに対してメッキ型の
場合は［Ｌ１μｍ程度の膜厚を得ることは比較的容易で
ある。
一方Ｂｒに関してはメッキ型は塗付型にて比較して数倍
程度大きな値が得ら几、再生出力を大きくすることが可
能である。
程度大きな値が得ら几、再生出力を大きくすることが可
能である。
Ｅｃに関しては、均一性、再現性など安定性を別とすｎ
ｌｄ、メッキの作製条件を変えることにょ９３００エル
ステツドから８００工ルステツド程度まで変化させるこ
とは比較的容易である。
ｌｄ、メッキの作製条件を変えることにょ９３００エル
ステツドから８００工ルステツド程度まで変化させるこ
とは比較的容易である。
従ッテδ、Ｂｒ、Ｒｅ ’ｌ適切にコントロールして作
製し、磁気媒体としての安定性、再現性を確保すること
が出来れば、メッキ法による磁気記録媒体は高密度磁気
記録媒体として非常に秀ｎたものである。
製し、磁気媒体としての安定性、再現性を確保すること
が出来れば、メッキ法による磁気記録媒体は高密度磁気
記録媒体として非常に秀ｎたものである。
ところがメッキ法にて磁性ｔｉｌｅ作成する場合、さま
ざまなメッキ条件のバラツキにより、特にＨａ、δ の
変化が大きく磁気特性を均一に、かつ再現性良く形成す
ることは容易ではないとさｎている。
ざまなメッキ条件のバラツキにより、特にＨａ、δ の
変化が大きく磁気特性を均一に、かつ再現性良く形成す
ることは容易ではないとさｎている。
この現象の主要な原因は、磁気特性の中でもＥｃは磁性
膜の構造敏感な性質を持っておシ、かつ磁性層の微細構
造は磁性膜の形成過程に強く影響されるからである。微
細構造の具体的内容は結晶粒の大きさであり、又粒界を
数カ巻く非磁性体の分布の状態である。そしてメッキは
界面反応の積重さねであシ、メッキ進行に伴なう副生成
物や不純物の影響によって磁性膜の微細構造が変化しＥ
ｃの変化となって表われる。さらにメッキの駆動力は表
面電位の差のみによっており、微妙な界面現象の影響を
直接的に受けてしまい、結果的に得られる磁気特性が安
定しにぐいという欠点がメッキ法にはあった。
膜の構造敏感な性質を持っておシ、かつ磁性層の微細構
造は磁性膜の形成過程に強く影響されるからである。微
細構造の具体的内容は結晶粒の大きさであり、又粒界を
数カ巻く非磁性体の分布の状態である。そしてメッキは
界面反応の積重さねであシ、メッキ進行に伴なう副生成
物や不純物の影響によって磁性膜の微細構造が変化しＥ
ｃの変化となって表われる。さらにメッキの駆動力は表
面電位の差のみによっており、微妙な界面現象の影響を
直接的に受けてしまい、結果的に得られる磁気特性が安
定しにぐいという欠点がメッキ法にはあった。
本発明の目的はメッキ法による磁性層の形成において、
得られる磁気特性が安定しにぐいという欠点を改善して
、均一性、再現性の良い磁気記録媒体を提供することに
ある。
得られる磁気特性が安定しにぐいという欠点を改善して
、均一性、再現性の良い磁気記録媒体を提供することに
ある。
本発明による磁気記録媒体はメッキ法によって形成され
るものであるが、その形成過程において基板の上下方向
から同種の磁極を対向させ、磁極を基板の水平方向に相
対的に移動させながら磁性層を形成してゆくことを特徴
とする。
るものであるが、その形成過程において基板の上下方向
から同種の磁極を対向させ、磁極を基板の水平方向に相
対的に移動させながら磁性層を形成してゆくことを特徴
とする。
すなわち第１図に示したように同種の磁極を対向させる
と、その中間には磁力線の反発により水平方向の磁場が
発生する。・この水平磁場中で磁性メッキ工程を行ない
磁性層を形成することが本発明の要点となるところであ
る。
と、その中間には磁力線の反発により水平方向の磁場が
発生する。・この水平磁場中で磁性メッキ工程を行ない
磁性層を形成することが本発明の要点となるところであ
る。
磁性メッキ形成過程において、水平方向の磁場が存在す
ると、メッキにおける析出過程に水平方向の異方性が印
加さｎ、磁場の方向に平行な成長が促進され、結果とし
て磁場と平行にやや細長い結晶粒となる。結晶粒が細長
くなると六により理想的な針状の単磁区粒子の状態に近
づき、Ｂｃ／Ｂｒが大きくなる、角形比が良くなるなど
の磁気記録媒体としての磁気特性が向上し、記録再生特
性が向上する。さらに結晶粒が細長くなるばかりではな
く、Ｃｏ系合金の容易磁化方向であるＯ軸が磁場方向に
より強く配向するために磁気特性が向上すると共に、そ
のバラツキが減少する。
ると、メッキにおける析出過程に水平方向の異方性が印
加さｎ、磁場の方向に平行な成長が促進され、結果とし
て磁場と平行にやや細長い結晶粒となる。結晶粒が細長
くなると六により理想的な針状の単磁区粒子の状態に近
づき、Ｂｃ／Ｂｒが大きくなる、角形比が良くなるなど
の磁気記録媒体としての磁気特性が向上し、記録再生特
性が向上する。さらに結晶粒が細長くなるばかりではな
く、Ｃｏ系合金の容易磁化方向であるＯ軸が磁場方向に
より強く配向するために磁気特性が向上すると共に、そ
のバラツキが減少する。
アルミ基板の上に、非磁性の無電解Ｎ１−Ｐメッキを施
し、これを精密加工し、磁性メツ、キの基板として用い
た。磁極としては、希土類磁石を用いて、これを鉄のヨ
ークに接合したものを用いた。
し、これを精密加工し、磁性メツ、キの基板として用い
た。磁極としては、希土類磁石を用いて、これを鉄のヨ
ークに接合したものを用いた。
磁極の数は８極とし全体をメッキ液でおかさｎないよう
にポリプロピレンで保護したもの′ｆｔ２個用いて、デ
ィスクを上下からはさむ構成にした。女お上下の磁極は
同種の磁極が対向することとし、メッキ中はディスク管
毎分１２０回で回転させた。
にポリプロピレンで保護したもの′ｆｔ２個用いて、デ
ィスクを上下からはさむ構成にした。女お上下の磁極は
同種の磁極が対向することとし、メッキ中はディスク管
毎分１２０回で回転させた。
磁性メッキＦｉＯＯ−Ｎｉ−Ｐ ｅ用いた。メッキ条件
を以下に示す。
を以下に示す。
浴組成
硫酸ニッケル ｍｏｌ／Ｊ
硫酸コバルト ｍｏｌ／Ｊ
次亜リン酸ナトリウム ｎｏ １ ／ Ｊ酒石酸ナトリ
ウム ｍｏｌ ／ Ｊ ホウ酸 ｍｏｌ／ｊ 硫酸アンモニウム ｍｏｌ／ｊ （Ｐ Ｒ９，０、液晶 ８０℃） ｍｏ１／ Ｊ第２図
に本実施例で用いた磁極の構造を示す。
ウム ｍｏｌ ／ Ｊ ホウ酸 ｍｏｌ／ｊ 硫酸アンモニウム ｍｏｌ／ｊ （Ｐ Ｒ９，０、液晶 ８０℃） ｍｏ１／ Ｊ第２図
に本実施例で用いた磁極の構造を示す。
１＃′ｉ希土類磁石で構成した磁極であり、２は鉄製の
ヨーク、３は基板である。
ヨーク、３は基板である。
本実施例によるサンプルの磁気特性は、残留磁束密度（
Ｂｒ） ８０００ガウス、保磁力（）Ｉｃ）６５０エル
ステツド、角形比（Ｓ）α８２であった。なお比較のた
め磁＊１かけずに同じメッキ条件で作成したサンプルは
残留磁束密度（Ｂｒ）、保磁力（Ｅｃ）は変らず角形比
（Ｓ）はα７８であり、本実施例により、角形比が５チ
向上した。
Ｂｒ） ８０００ガウス、保磁力（）Ｉｃ）６５０エル
ステツド、角形比（Ｓ）α８２であった。なお比較のた
め磁＊１かけずに同じメッキ条件で作成したサンプルは
残留磁束密度（Ｂｒ）、保磁力（Ｅｃ）は変らず角形比
（Ｓ）はα７８であり、本実施例により、角形比が５チ
向上した。
さらに保磁力（Ｅ（りの分散が半分となり、バラツキが
減少した。
減少した。
以上述べ友ように本発明によれば角形比などの磁気特性
が向上すると同時に、その磁気特性のバラツキが減少、
メッキ型の磁気媒体の安定性、再現性を確保することが
可能となった。なお実施例では永久磁石を用いて磁極を
構成したが、電磁石を用いても同様な効果が得られる。
が向上すると同時に、その磁気特性のバラツキが減少、
メッキ型の磁気媒体の安定性、再現性を確保することが
可能となった。なお実施例では永久磁石を用いて磁極を
構成したが、電磁石を用いても同様な効果が得られる。
第１図は同種の磁極を対向させた場合に発生する磁力線
の図である。 第２図は実施例で用いた磁極の形状であり、１は希土類
磁石、２はヨークでらり、３は基板である。 鵞１０ ’ｔ、２ｒｇ （α）（ｂ）
の図である。 第２図は実施例で用いた磁極の形状であり、１は希土類
磁石、２はヨークでらり、３は基板である。 鵞１０ ’ｔ、２ｒｇ （α）（ｂ）
Claims (1)
- メッキ法にて形成される磁気記録媒体で、その形成過程
において、基板の上下方向から同種の磁極を対向させ、
磁極を基板の水平方向に移動させながら磁性層を形成す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228684A JPS60226023A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8228684A JPS60226023A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226023A true JPS60226023A (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=13770277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8228684A Pending JPS60226023A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60226023A (ja) |
-
1984
- 1984-04-24 JP JP8228684A patent/JPS60226023A/ja active Pending
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