JPS60227159A - 電子部品用洗浄液の更新期評価方法 - Google Patents
電子部品用洗浄液の更新期評価方法Info
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- JPS60227159A JPS60227159A JP8356084A JP8356084A JPS60227159A JP S60227159 A JPS60227159 A JP S60227159A JP 8356084 A JP8356084 A JP 8356084A JP 8356084 A JP8356084 A JP 8356084A JP S60227159 A JPS60227159 A JP S60227159A
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- JP
- Japan
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- cleaning liquid
- cleaning
- test
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/06—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は電子部品用洗浄液の清浄度を評価する方法に係
り、特にエレクトロマイグレーシコン現象を利用するこ
とによって、洗浄液の更新時期を容易にかつ確実に判定
することができる電子部品用洗浄液の更新期評価方法に
関するものである。
り、特にエレクトロマイグレーシコン現象を利用するこ
とによって、洗浄液の更新時期を容易にかつ確実に判定
することができる電子部品用洗浄液の更新期評価方法に
関するものである。
従来技術と問題点
電子部品は基板に取付けられた状態で基板を含めて十分
清浄にされている必要があり、特に基板にこれらの部品
を半田付けした後は、半田付けに使用したフラックス等
を洗浄して完全に除去することが、部品や部品を取付け
た基板の信頼性を高めるために必要である。
清浄にされている必要があり、特に基板にこれらの部品
を半田付けした後は、半田付けに使用したフラックス等
を洗浄して完全に除去することが、部品や部品を取付け
た基板の信頼性を高めるために必要である。
このような洗浄は通常適当な溶媒からなる洗浄液を用い
て行うが、洗浄液を一回限りで廃棄することはコストや
公害対策の面がら得策でないため、通當リサイクルして
使用される。しかしながら洗浄を重ねるに従って洗浄液
には部品や基板から除去された汚染物質が蓄積して、使
用に耐えなくなるため、適当な時期に洗浄液を更新する
必要がある。
て行うが、洗浄液を一回限りで廃棄することはコストや
公害対策の面がら得策でないため、通當リサイクルして
使用される。しかしながら洗浄を重ねるに従って洗浄液
には部品や基板から除去された汚染物質が蓄積して、使
用に耐えなくなるため、適当な時期に洗浄液を更新する
必要がある。
第１図は電子部品の洗浄工程の概要を示す説明図である
。同図において電子部品１はメツシュヘルド２によって
搬送されて洗浄される。洗浄液３ば洗浄液タンク４内に
貯溜されていて、加圧管５を経て空気等を圧入されて加
圧されて、シャツ装置６から電子部品１に噴霧されて洗
浄を行う。洗浄を終った洗浄液はホ・ンパ７に集められ
て、廃液タンク８に導かれる。廃液タンク８の廃洗浄液
９は蒸溜タンク１０において、ヒータ１１によって熱す
ることによって蒸溜され、気化した洗浄液は冷却器１２
において冷却水によって冷却されて液化して、回収洗浄
液タンク１３に蓄えられる。回収された洗浄液は、ポン
プ１４によって再び洗浄液タンク４に戻されて、洗浄に
用いられる。
。同図において電子部品１はメツシュヘルド２によって
搬送されて洗浄される。洗浄液３ば洗浄液タンク４内に
貯溜されていて、加圧管５を経て空気等を圧入されて加
圧されて、シャツ装置６から電子部品１に噴霧されて洗
浄を行う。洗浄を終った洗浄液はホ・ンパ７に集められ
て、廃液タンク８に導かれる。廃液タンク８の廃洗浄液
９は蒸溜タンク１０において、ヒータ１１によって熱す
ることによって蒸溜され、気化した洗浄液は冷却器１２
において冷却水によって冷却されて液化して、回収洗浄
液タンク１３に蓄えられる。回収された洗浄液は、ポン
プ１４によって再び洗浄液タンク４に戻されて、洗浄に
用いられる。
このようにして電子部品の洗浄工程において、洗浄液は
繰り返し洗浄の目的に用いられるが、洗浄を重ねるに従
ってリサイクル後の洗浄液はへ第に汚損するため、ある
時期において廃棄して更新する必要がある。
繰り返し洗浄の目的に用いられるが、洗浄を重ねるに従
ってリサイクル後の洗浄液はへ第に汚損するため、ある
時期において廃棄して更新する必要がある。
このような場合の洗浄液の更新期の判断は、従来、専ら
経験的手法に依存して行われていた。すなわち洗浄液の
汚損の程度を視認等の人の感覚によって判断したり、あ
るいは使用回数９期間等によって更新期を一律に定めた
りするなど、経験に基づ（方法が用いられ、その根拠が
明確でないだけでなく、正確な更新期の判断を行うこと
か困難であった。
経験的手法に依存して行われていた。すなわち洗浄液の
汚損の程度を視認等の人の感覚によって判断したり、あ
るいは使用回数９期間等によって更新期を一律に定めた
りするなど、経験に基づ（方法が用いられ、その根拠が
明確でないだけでなく、正確な更新期の判断を行うこと
か困難であった。
これに対して計測用の機械、器具を用いて更新期の判断
を行うことが考えられる。例えば洗浄液の比重を測定し
て判断する方法や洗浄液の伝導度を測定して判断する方
法、あるいは洗浄液の定量分析を行って判断する方法等
を用いることが可能であるが、これらの測定には著しく
手間のかかるものもあり、また洗浄される電子部品の種
類や半田付は用フラックスから溶出する成分の相違等に
よって、洗浄液の成分は複雑な混合液となるため、洗浄
液の更新期を一律に評価することは難しかった。
を行うことが考えられる。例えば洗浄液の比重を測定し
て判断する方法や洗浄液の伝導度を測定して判断する方
法、あるいは洗浄液の定量分析を行って判断する方法等
を用いることが可能であるが、これらの測定には著しく
手間のかかるものもあり、また洗浄される電子部品の種
類や半田付は用フラックスから溶出する成分の相違等に
よって、洗浄液の成分は複雑な混合液となるため、洗浄
液の更新期を一律に評価することは難しかった。
発明の目的
本発明はこのような従来技術の問題点を解決しようとす
るものであって、その目的は、簡単にかつ確実に洗浄液
の清浄度を評価することができ、従って容易に洗浄液の
更新期を判断することができる方法を提供することにあ
る。
るものであって、その目的は、簡単にかつ確実に洗浄液
の清浄度を評価することができ、従って容易に洗浄液の
更新期を判断することができる方法を提供することにあ
る。
発明の構成
本発明の電子部品洗浄液の更新期評価方法は、洗浄液の
７１浄度特にそのＣｌイオン量とエレクトロマイグレー
ションの発生速度との間にＪ３りる相関性が強いことに
着目して、採取した洗浄液を基板上に設けられた金属導
体のくし形パタンの部分に滴下してエレクトロマイグレ
ーション試験を行い、マイグレーション発生速度を基準
時間と比較することによって、被試験洗浄液の更新時期
の評価を行うようにしたものである。
７１浄度特にそのＣｌイオン量とエレクトロマイグレー
ションの発生速度との間にＪ３りる相関性が強いことに
着目して、採取した洗浄液を基板上に設けられた金属導
体のくし形パタンの部分に滴下してエレクトロマイグレ
ーション試験を行い、マイグレーション発生速度を基準
時間と比較することによって、被試験洗浄液の更新時期
の評価を行うようにしたものである。
発明の実施例
第２図は、本発明の電子部品用洗浄液の更新期評価方法
の一実施例における、エレクト１コマイクレーシヨン試
験方法を説明している。同図において２０はマイグレー
ション試験用のテストピースであって、セラミック等か
らなる基板上にＩＮ（Ａｇ）あるいはパラジウム（Ｐ
ｄ）等の金属からなるくし形バタン２１．２２を対向し
て設けられている。テストピースを構成する材質は、洗
浄液に対して安定なものであるべきことば言うまでもな
い。くし形バタン２１．２２の間には抵抗２３を介して
電圧Ｅが加えられ、抵抗２３の両端の電圧降下は増幅器
２４を経て記録計２５に導かれて、記録されるようにな
っている。
の一実施例における、エレクト１コマイクレーシヨン試
験方法を説明している。同図において２０はマイグレー
ション試験用のテストピースであって、セラミック等か
らなる基板上にＩＮ（Ａｇ）あるいはパラジウム（Ｐ
ｄ）等の金属からなるくし形バタン２１．２２を対向し
て設けられている。テストピースを構成する材質は、洗
浄液に対して安定なものであるべきことば言うまでもな
い。くし形バタン２１．２２の間には抵抗２３を介して
電圧Ｅが加えられ、抵抗２３の両端の電圧降下は増幅器
２４を経て記録計２５に導かれて、記録されるようにな
っている。
サンプリングされた洗浄液のマイグレーション試験を行
うときは、テストピース２０のくし形バタン２１．２２
の部分を被うように一定量の洗浄液２６を滴下し、π定
時間放置する。この際、テストピース上の洗浄液を乾燥
させることが望ましい。その後くし形パクン２１，２２
に電圧を印加して、第２図の状態でくし形バタン２１．
２２間の電流検出を行って、マイグレーションの発生時
間を測定する。
うときは、テストピース２０のくし形バタン２１．２２
の部分を被うように一定量の洗浄液２６を滴下し、π定
時間放置する。この際、テストピース上の洗浄液を乾燥
させることが望ましい。その後くし形パクン２１，２２
に電圧を印加して、第２図の状態でくし形バタン２１．
２２間の電流検出を行って、マイグレーションの発生時
間を測定する。
第３図はマイグレーション試験結果の一例を示したもの
である。同図に示すごとく、テストピース上に洗浄液に
由来するＣｊｌｌイオンがあったときは、ある時間後に
電流は急激に増加して、マイグレーションを発生するの
で、このマイグレーション発生時間Ｔ（ｓｅｃ）を測定
する。第３図においてａば、マイグレーション発生に対
応する電流値を示している。
である。同図に示すごとく、テストピース上に洗浄液に
由来するＣｊｌｌイオンがあったときは、ある時間後に
電流は急激に増加して、マイグレーションを発生するの
で、このマイグレーション発生時間Ｔ（ｓｅｃ）を測定
する。第３図においてａば、マイグレーション発生に対
応する電流値を示している。
一方第２図に示されたテストピースを用い、既知の各種
の量のＣｐイオンを含む標準洗浄液によってマイグレー
ション試験を行って、第４図に示すごとき基準曲線を作
成しておく。第４図においてＡは電圧Ｅを２６Ｖとした
ときの、Ｂは同じく５３Ｖとしたときの、あるテストピ
ースについての基準曲線の例を示し、基板上の残留Ｃ！
イオン濃度（μｇ／ｃ＋ｎ ）とマイグレーション発生
時間Ｔ （５ｅｃ）との関係を示したものである。
の量のＣｐイオンを含む標準洗浄液によってマイグレー
ション試験を行って、第４図に示すごとき基準曲線を作
成しておく。第４図においてＡは電圧Ｅを２６Ｖとした
ときの、Ｂは同じく５３Ｖとしたときの、あるテストピ
ースについての基準曲線の例を示し、基板上の残留Ｃ！
イオン濃度（μｇ／ｃ＋ｎ ）とマイグレーション発生
時間Ｔ （５ｅｃ）との関係を示したものである。
いま回収された洗浄液１，２につい゛Ｃ電圧２６■でマ
イグレーション試験を行った結果、洗浄液１のマイグレ
ーション発生時間が第４図に１点鎖線で示すＣであり、
洗浄液２のマイグレーション発生時間が第４図に破線で
示ずＤであったとする。
イグレーション試験を行った結果、洗浄液１のマイグレ
ーション発生時間が第４図に１点鎖線で示すＣであり、
洗浄液２のマイグレーション発生時間が第４図に破線で
示ずＤであったとする。
一方、更新の限度である清浄度の標／＄／ｌｔ−浄液に
よる、同一のテストピースを用いた場合のマイグレーシ
ョン発生の基準時間が、基準曲線Ａから第４図に実線で
示すＤであったとすると、洗浄液１は清浄度が更新の限
度より十分高く、洗浄液２は更新の限度を超えて清浄度
が低下していることがわかる。なおマイグレーション試
験は他の電圧で行つてもよいことは言うまでもなく、例
えば電圧５３■に椿おけるマイグレーション発生時間測
定結果を、第４図における電圧５３Ｖに対応する基準曲
線Ｂからめられた基準時間と対比して、更新期の評価を
行うようにしてもよい。
よる、同一のテストピースを用いた場合のマイグレーシ
ョン発生の基準時間が、基準曲線Ａから第４図に実線で
示すＤであったとすると、洗浄液１は清浄度が更新の限
度より十分高く、洗浄液２は更新の限度を超えて清浄度
が低下していることがわかる。なおマイグレーション試
験は他の電圧で行つてもよいことは言うまでもなく、例
えば電圧５３■に椿おけるマイグレーション発生時間測
定結果を、第４図における電圧５３Ｖに対応する基準曲
線Ｂからめられた基準時間と対比して、更新期の評価を
行うようにしてもよい。
このように本発明の方法では、一定のテストピースを用
いてマイグレーション試験を行い、マイグレーション発
生時間を測定するだけで、洗浄液の清浄度を知ることが
でき、従って更新の限度である清浄度の標準洗浄液によ
るマイグレーション発生時間を予め測定しておけば、試
験結果を基準時間と比較するだけで、洗浄液の更新期の
評価を＋Ｉｘめて容易に行うことができる。
いてマイグレーション試験を行い、マイグレーション発
生時間を測定するだけで、洗浄液の清浄度を知ることが
でき、従って更新の限度である清浄度の標準洗浄液によ
るマイグレーション発生時間を予め測定しておけば、試
験結果を基準時間と比較するだけで、洗浄液の更新期の
評価を＋Ｉｘめて容易に行うことができる。
発明の詳細
な説明したように本発明の電子部品用洗浄液の更新期評
価方法によれば、採取した洗浄液を基板上の対向するく
し形導体パクンの部分に滴下し、対向するくし形導体バ
タン間に電圧を印加してエレクトロマイグレーション試
験を行い、このエレクトロマイグレーション試験におけ
るマイグレーション発生速度によって被試験洗浄液の更
新時期の評価を行うようにしたので、簡単にかつＭＩＩ
実に洗浄液の清浄度を評価することができ、従って容易
に洗浄液の更新期を判断することがζきる。
価方法によれば、採取した洗浄液を基板上の対向するく
し形導体パクンの部分に滴下し、対向するくし形導体バ
タン間に電圧を印加してエレクトロマイグレーション試
験を行い、このエレクトロマイグレーション試験におけ
るマイグレーション発生速度によって被試験洗浄液の更
新時期の評価を行うようにしたので、簡単にかつＭＩＩ
実に洗浄液の清浄度を評価することができ、従って容易
に洗浄液の更新期を判断することがζきる。
第１図は電子部品の洗浄工程の概要を示す説明図、第２
図は本発明の電子部品用洗浄液の更新期評価方法の一実
施例における、マイブレーン司ン試験方法を示す説明図
、第３図はマイグレーション試験結果の一例を示す図、
第４図はマイグレーション試験による残留Ｃｐイオン濃
度とマイグレーション発生時間との関係の一例を示す図
である。 １−電子部品、２−メツシュベルト、３ 洗１７１液、
４−洗浄液タンク、５−加圧管、６−ジャワ装置、７−
ホッパ、８−廃液タンク、９−廃院浄液、１０−蒸溜タ
ンク、１１−ヒータ、１２ 冷却器、１３−回収洗浄液
タンク、１４−ポンプ、２０−テストピース、２１．２
２−＜Ｌ形導体バタン、２３−抵抗、２４−増幅器、２
５−記録針、２６−洗浄液 第１図 ら １ 第２図
図は本発明の電子部品用洗浄液の更新期評価方法の一実
施例における、マイブレーン司ン試験方法を示す説明図
、第３図はマイグレーション試験結果の一例を示す図、
第４図はマイグレーション試験による残留Ｃｐイオン濃
度とマイグレーション発生時間との関係の一例を示す図
である。 １−電子部品、２−メツシュベルト、３ 洗１７１液、
４−洗浄液タンク、５−加圧管、６−ジャワ装置、７−
ホッパ、８−廃液タンク、９−廃院浄液、１０−蒸溜タ
ンク、１１−ヒータ、１２ 冷却器、１３−回収洗浄液
タンク、１４−ポンプ、２０−テストピース、２１．２
２−＜Ｌ形導体バタン、２３−抵抗、２４−増幅器、２
５−記録針、２６−洗浄液 第１図 ら １ 第２図
Claims (1)
- 採取した洗浄液を基板上の対向するくし形導体パタンの
部分に滴下し、該対向する（し形導体パクン間に電圧を
印加してエレクトロマイグレーションａＫ Ｍ ’ｆｒ
行い、該エレクトロマイグレーション試験におけるマ
イグレーション発生速度によって被試験洗浄液の更新時
期の評価を行うことを特徴とする電子部品用洗浄液の更
新期評価方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8356084A JPS60227159A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 電子部品用洗浄液の更新期評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8356084A JPS60227159A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 電子部品用洗浄液の更新期評価方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60227159A true JPS60227159A (ja) | 1985-11-12 |
Family
ID=13805895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8356084A Pending JPS60227159A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 電子部品用洗浄液の更新期評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60227159A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992017772A1 (fr) * | 1991-03-27 | 1992-10-15 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Structure d'electrode de capteur pour detecter des particules metalliques |
| WO1993009425A1 (fr) * | 1991-11-06 | 1993-05-13 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Detecteur de grains metalliques, procede et dispositif de detection de grains metalliques |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8356084A patent/JPS60227159A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992017772A1 (fr) * | 1991-03-27 | 1992-10-15 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Structure d'electrode de capteur pour detecter des particules metalliques |
| US5457396A (en) * | 1991-03-27 | 1995-10-10 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Electrode structure of metallic particle detecting sensor |
| WO1993009425A1 (fr) * | 1991-11-06 | 1993-05-13 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Detecteur de grains metalliques, procede et dispositif de detection de grains metalliques |
| US5596266A (en) * | 1991-11-06 | 1997-01-21 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Metal particle detecting sensor, metal particle detecting method and metal particle detecting apparatus |
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