JPS60227281A - ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 - Google Patents

ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法

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Publication number
JPS60227281A
JPS60227281A JP8451284A JP8451284A JPS60227281A JP S60227281 A JPS60227281 A JP S60227281A JP 8451284 A JP8451284 A JP 8451284A JP 8451284 A JP8451284 A JP 8451284A JP S60227281 A JPS60227281 A JP S60227281A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hologram
vinylcarbazole
hologram recording
poly
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8451284A
Other languages
English (en)
Inventor
▲やぎ▼下 皓男
Akio Yagishita
Takeshi Ishizuka
剛 石塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS60227281A publication Critical patent/JPS60227281A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)9発明の技術分野 本発明はホログラム記録用の感光材料に係り、特に重合
体における光化学的架橋反応を利用してホログラムを記
録する方式で用いられる、短波長に高感度な感光材料に
関する。
(b)、技術の背景 ホログラムはレーザ等の可干渉性光の干渉波面を、写真
フィルム等に記録したものであって、近年光学像の記録
のみならず、情報処理の分野においても情報の記録ある
いはその回折現象を利用した光ビームの走査、例えばP
 OS (Paint−of−5ale)システムにお
けるバーコード読み取り装置、あるいはレーザプリンタ
等に用いられている。
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。
図において、1はヘリウム−カドミウム(He−Cd)
レーザ、2はシャッタ、3,5.6はミラー、4はハー
フミラ−57,8はコリメータ、9は感光板を示す。
レーザlから発したレーザ光はシャッタ2を通過後ミラ
ー3により反射され、その反射光はハーフミラ−4を通
過してミラー6で反射され、その反射光はコリメータフ
により平行光束になり感光板9に入射される。この際ハ
ーフミラ−4により1部反射された光はミラー5により
反射されコリメータ8を経由して、前記ミラー6よりの
反射光の入射角と、符合が反対で絶対値が等しい入射角
で感光板9に入射され、2つの光束による干渉波面が感
光板9に記録される。ここで両方の入射光のなす角度を
θとする。ホログラム作製において、ホログラムの解像
度を表す記録密度、即ち空間周波数fは次式で表される
f=2(sin(θ/2))/λ ここで、λはレーザの波長。
レーザとして波長の長い、例えばヘリウム−ネオン(H
e−Ne)レーザ(632,8nm)を用いて、高い空
間周波数、例えば2500本/mmを得ようとすると、
θ=105’とθは極めて大きくなり、光学系が煩雑か
つ露光処理が不安定になってしまう。
一方、波長の短いレーザ、例えばHe−Cdレーザ(3
25,0nm)を用いると、おなし空間周波数を得るた
めのθは48°と約半分になり光学系は簡素化ならびに
安定化される。
従ってこのような短い波長の光に高感度で、解像度、回
折効率(回折光と入射光の強度比)および耐湿性の高い
ホログラム材料の出現が望まれている。
(C)、従来技術と問題点 従来、ホログラム記録材料としては、写真に用いられる
銀塩乳剤、重クロム酸−ゼラチン系の感光材、表面の微
少凹凸縞として干渉縞を記録するサーモプラスチックあ
るいはフォトポリマ等が実用化されている。
しかし、現状では前述のような短い波長の例えばHe−
Cdレーザ(325,0nm)に高感度で、解像度、回
折効率および耐湿性の高いホログラム材料はまだ開発さ
れていない。
(d)9発明の目的 本発明の目的は、波長が450nm以下のレーザ光に対
し、高感度で、かつ化学的に安定で、高い解像度、耐湿
性、耐熱性、耐光性を有するホログラム感光材料を得る
ことにある。
(e)9発明の構成 上記の目的は、ポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化
学的架橋剤としてフリルを含む本発明によるホログラム
記録材料、およびポリ−N−ビニルカルバゾールと、光
化学的架橋剤としてフリルを含むホログラム記録材料に
、450nm以下の波長をもつレーザの干渉パターンを
露光する工程を有する本発明によるホログラム製造方法
により達成される。
本発明によれば、ホログラム記録用感光材料としてポリ
−N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤としての
フリルを主体とすることにより、耐湿性に優れ、かつH
e−Cdレーザ等の短波長光に高感度のものが得られる
なお、フリルはつぎの化学式を有する。
(f)9発明の実施例 以下に本発明の一実施例を説明する。
ポリ−N−ビニルカルバゾール 10g(西南香料産業
、ツビコールT−210)フリル(関東化学) 2g クロロホルム(関東化学) 240g 上記組成の感光液を7(lnmX 70mmX 1mm
のガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2μmになるように
スピンコード法により暗所で塗布した後、60℃で30
分間加熱乾燥し、ホログラム記録用感光板を作製した。
なお、クロロホルムは溶剤として用いた。
この感光板を71.1図に示すHe−Cd レーザ(3
25nm、θ−48°)を用いたホログラム作製光学系
でホログラム記録を行い、つぎにトルエン蒸気で現像し
た後、n−ペンタン中に浸漬してホログラムを得た。解
像度2500本/mm、回折効率70%の高品質のホロ
グラムが作製できた。なお、このときの露光エネルギは
300mJ/cn+”であった。
実施例においては、感光材料として2成分のみを用いた
が、さらに光化学的架橋反応を促進させるために、増感
剤として色素等を含めても本発明の要旨は変わらない。
(gl、発明の効果 以上詳細に説明したように本発明によれば、波長が45
0nm以下のレーザ光に対し、高感度で、かつ化学的に
安定で、高い解像度、耐湿性、耐熱性、耐光性を有する
ホログラム感光材料を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。 図において、■はヘリウム−カドミウム(He−Cd)
レーザ、2はシャッタ、3,5.6はミラー、4はハー
フミラ−17,8はコリメータ、9は感光板を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化学2、ポリ
    −N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤としてフ
    リルを含むホログラム記録材料に、450nm以下の波
    長をもつレーザの干渉パターンを露光する工程を有する
    ことを特徴とするホログラム製造方法。
JP8451284A 1984-04-26 1984-04-26 ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 Pending JPS60227281A (ja)

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