JPS60227283A - ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 - Google Patents

ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法

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JPS60227283A
JPS60227283A JP8451484A JP8451484A JPS60227283A JP S60227283 A JPS60227283 A JP S60227283A JP 8451484 A JP8451484 A JP 8451484A JP 8451484 A JP8451484 A JP 8451484A JP S60227283 A JPS60227283 A JP S60227283A
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JP
Japan
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hologram
photosensitive material
light
tetrahydropyrazine
dicyano
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JP8451484A
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English (en)
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Takeshi Ishizuka
剛 石塚
▲やぎ▼下 皓男
Akio Yagishita
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G03C1/733Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns

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  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)0発明の技術分野 本発明はホログラム記録用の感光材料に係り、特に重合
体における光化学的架橋反応を利用してホログラムを記
録する方式で用いられる感光材料に関する。
(b)、技術の背景 ホログラムはレーザ等の可干渉性光の干渉波面を、写真
フィルム等に記録したものであって、近年光学像の記録
のみならず、情報処理の分野においても情報の記録ある
いはその回折現象を利用した光ビームの走査、例えばP
 OS (Paint−of−3ale)システムにお
けるバーコード読み取り装置、あるいはレーザプリンタ
等に用いられている。
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。
図において、レーザlから発したレーザ光はシャッタ2
を通過後ミラー3により反射され、その反射光はハーフ
ミラ−4を通過してミラー6で反射され、その反射光は
コリメータフにより平行光束になり感光板9に入射され
る。この際ハーフミラ−4により1部反射された光はミ
ラー5により反射されコリメータ8を経由して、前記ミ
ラー6よりの反射光の入射角と、符合が反対で絶対値が
等しい入射角で感光板9に入射され、2つの光束による
干渉波面が感光板9に記録される。ここで両方の入射光
のなす角度をθとする。ホログラム作製において、ホロ
グラムの解像度を表す記録密度、即ち空間周波数fは次
式で表される。
f=2(sin(θ/2))/λ ここで、λはレーザの波長。
従って、f、θ、λ間にはつぎのような関係がある。
レーザとして波長の長い、例えばヘリウム−ネオン(H
e−Ne)レーザ(632,8nm)を用いて、高い空
間周波数、例えば2500本/mmを得ようとすると、
θ=110°とθは極めて大きくなり、光学系が煩雑か
つ露光処理が不安定になってしまう。
一方、波長の短いレーザ、例えばHe−Cdレーザ(3
25,0nm)を用いると、おなし空間周波数を得るた
めのθは56°と約半分になり光学系は簡素化ならびに
安定化される。
従ってこのような短い波長の光に高感度で、解像度、回
折効率(回折光と入射光の強度比)および耐湿性の高い
ホログラム材料の出現が望まれている。
(C)、従来技術と問題点 従来、ホログラム記録材料としては、写真に用いられる
銀塩乳剤、重クロム酸−ゼラチン系の感光材、あるいは
表面の微少凹凸縞として干渉縞を記録するサーモプラス
チック等が実用化されている。
しかしながら、上記の記録材料についてはつぎのような
諸欠点を有する。
即ち、上記の感光材料はゼラチン膜を結合剤として用い
ているために耐湿、耐熱、耐光性が低い。
一方、サーモプラスチックにおいては可能な干渉縞密度
(単位長さ当たりの稿本数)が低く高性能のホログラム
を得ることが困難であり、かつホログラムの再生に特殊
な光学系が必要であること等である。
これに対して、有機ハロゲン化合物を含んだポリビニル
カルバゾール系の高分子感光材料が提案されている(例
えば、特開昭53−15153、特開昭54−1013
43および特開昭54−102140等)。この感光材
料は高分子間の光化学的架橋反応を利用してホログラム
を記録するもので、この架橋反応に与かる架橋剤として
有機ハロゲン化合物を用いており、上記従来の記録材料
に比して感度、耐環境性(耐湿、耐熱、耐光性等)、解
像度等に優れているが、前記有機ハロゲン化合物の特性
上感光波長が比較的短く、色素増感も困難であるために
、長波長における感度が充分でなく、また有機ハロゲン
化合物の化学的安定性に起因する取扱上の難点があった
(d)0発明の目的 本発明の目的は従来技術の有する上記の欠点を除去し、
上記記録材料より、より長波長の光に対して高感度で、
かつ化学的に安定で、高い解像度、耐湿性、耐熱性、耐
光性を有するホログラム感光材料を得ることにある。
(e)0発明の構成 上記の目的はポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化学
的架橋剤として2,3−ジオキソ−5,6−ジシアノ−
1,2,3,4−テトラハイドロピラジン、および光増
感材として色素を含む本発明によるホログラム記録材料
、およびポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化学的架
橋剤として2゜3−ジオキソ−5,6−ジ゛シアノ−1
,2,3゜4−テトラハイドロピラジン、および光増感
材として色素を含むホログラム記録材料に、520nm
以下の波長をもつレーザの干渉パターンを露光する工程
を有する本発明によるホログラム製造方法により達成さ
れる。
本発明によれば、ホログラム記録感光材料としてポリ−
N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤として2.
3−ジオキソ−5,6−ジシアノ−1,2,3,4−テ
トラハイドロピラジンを主体とし、さらに光化学的架橋
反応を促進させるために、2,3−ジオキソ−5,6−
ジシアツー1゜2.3.4−テトラハイドロピラジンよ
り長波長側に極大吸収波長を有する増感剤を含ませるこ
とにより、耐湿性に優れ、かつ長波長のレーザに高感度
の記録材料が得られる。
なお、2.3−ジオキソ−5,6−ジシアツー1.2,
3.4−テトラハイドロピラジンはつぎの化学式を有す
る。
(f)0発明の実施例 以下に本発明の一実施例を説明する。
ポリ−N−ビニルカルバゾール Log(西南香料産業
、ツビコールT−210)2.3−ジオキソ−5,6−
ジシアノ −1,2,3,4−テトラハイドロピラジン(アルドリ
ッチ) Ig チオフラビン 0.3g クロロホルム(関東化学) 150g 上記組成の感光液を70mmX 70mmX 1 mm
のガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2μmになるように
スピンコード法により暗所で塗布した後、60℃で30
分間加熱乾燥し、ホログラム記録用感光板を作製した。
なお、クロロホルムは溶剤として用いた。
この感光板を図に示すArレーザ(488nm、θ=3
0°)を用いたホログラム作製用光学系でホログラム記
録を行い、つぎにトルエン蒸気で現像した後、n−ペン
タン中に浸漬してホログラムを得た。
解像度1000本/mm、回折効率72%の高品質のホ
ログラムが作製できた。なお、このときの露光エネルギ
は300mJ / cm”であった。
上記の実施例において、Arレーザの代わりにHe−C
dレーザ(325nm)を用いたところ、露光量20m
J/mmで解像度1600本/ InL 回折効率75
%のホログラムが得られ、この材料が短波長でも高感度
であることがわかる。
(10発明の効果 以上詳細に説明したように本発明によれば、従来の記録
材料より、より長波長の光に対して高感度で、かつ化学
的に安定で、高い解像度、耐湿性、耐熱性、耐光性を有
するホログラム感光材料を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。 図において、1はレーザ、2はシャッタ、3゜5.6は
ミラー、4はハーフミラ−17,8はコリメータ、9は
感光板を示す。 −一正馬

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■、ポリーN−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤
    として2,3−ジオキソ−5,6−ジシアノ−1,2,
    3,4−テトラハイドロピラジン、および光増感材とし
    て色素を含むことを特徴とするホログラム記録材料。 2、ポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤
    として2,3−ジオキソ−5,6−ジシアノ−1,2,
    3,4−テトラハイドロピラジン、および光増感材とし
    て色素を含むホログラム記録材料に、520nm以下の
    波長をもつレーザの干渉パターンを露光する工程を有す
    ることを特徴とするホログラム製造方法。
JP8451484A 1984-04-26 1984-04-26 ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 Pending JPS60227283A (ja)

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